[發(fā)明專利]一種塑封IC開(kāi)封方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210580087.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103065936A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮海科 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安芯派電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/02 | 分類號(hào): | H01L21/02 |
| 代理公司: | 西安西交通盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 61217 | 代理人: | 張震國(guó) |
| 地址: | 710075 陜西省*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 塑封 ic 開(kāi)封 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種IC的濕法開(kāi)封方法,特別涉及一種塑封IC開(kāi)封方法。
背景技術(shù)
隨著電子產(chǎn)品的飛速發(fā)展與進(jìn)步,塑封IC產(chǎn)品的可靠性問(wèn)題已經(jīng)成為電子元器件供應(yīng)商關(guān)心的主要問(wèn)題之一。塑封IC剛開(kāi)始時(shí),可靠性是很差的。當(dāng)然,IC美國(guó)是老大,日本的IC更差。所以日本的電子產(chǎn)品大多要靠進(jìn)口美國(guó)的IC。一開(kāi)始,美國(guó)對(duì)塑封IC的可靠性差,認(rèn)為是理所當(dāng)然的。他們稱要用高可靠性的IC,就要用陶瓷封裝的IC,因?yàn)槟鞘峭ㄟ^(guò)嚴(yán)格的測(cè)試的。但是日本的失效分析專家做了實(shí)實(shí)在在的測(cè)試、失效分析、DPA(破壞性物理實(shí)驗(yàn),以良品開(kāi)封為核心),把失效的問(wèn)題找出來(lái)了,通過(guò)不斷的改善,使日本的塑封IC可靠性也大大提高。現(xiàn)在國(guó)內(nèi)的一些電子元器件供應(yīng)商為了提高塑封IC產(chǎn)品的可靠性,需要對(duì)塑封IC產(chǎn)品進(jìn)行開(kāi)封,找出失效點(diǎn),進(jìn)而提出改進(jìn)措施。目前國(guó)內(nèi)主要以購(gòu)買美國(guó)和日本的自動(dòng)開(kāi)封機(jī)為主,進(jìn)行塑封IC產(chǎn)品的開(kāi)封,但是自動(dòng)開(kāi)封機(jī)具有以下幾個(gè)缺陷:
1.自動(dòng)開(kāi)封機(jī)成本較高,進(jìn)口價(jià)格一般在3萬(wàn)美金左右,而且后續(xù)不斷的向設(shè)備供應(yīng)商購(gòu)買一些專利酸液,對(duì)于國(guó)內(nèi)的中小型企業(yè)是一筆沉重的負(fù)擔(dān)。
2.自動(dòng)開(kāi)封機(jī)開(kāi)封需時(shí)較長(zhǎng),例如針對(duì)于一顆DIP8的塑封IC,需要時(shí)間大約為45分鐘左右,如果需要進(jìn)行多顆塑封IC進(jìn)行分析時(shí),需時(shí)較長(zhǎng),嚴(yán)重影響效率。
結(jié)合以上分析,需要一種適合中國(guó)中小企業(yè)的一種塑封IC的開(kāi)封方法。目前個(gè)別企業(yè)都有自己相應(yīng)的塑封IC開(kāi)封方案,但技術(shù)均不成熟,存在較多缺陷:其一,開(kāi)封速度慢。其二,樣品芯片表面殘留膠多不干凈,不利于失效點(diǎn)觀察。除此之外還存在諸多問(wèn)題,有待改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的問(wèn)題是:提供一種塑封IC開(kāi)封方法,操作簡(jiǎn)單、開(kāi)封時(shí)間短,成本較低。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種塑封開(kāi)封方法,首先按照體積比為3:1將硝酸和硫酸配成混合酸液,加熱至50~80℃后,將混合酸液滴注在芯片上方,使酸液與塑封料反應(yīng),直至芯片全部裸露出來(lái),最后在裸露的芯片上方滴注硫酸以清洗芯片表面,最后將芯片清洗干凈即可。
作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,酸液與塑封料反應(yīng)直至芯片全部裸露出來(lái)的具體方法為:將酸液滴注到塑封IC表面,使酸液充分與塑封料反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,用無(wú)水乙醇清洗,之后重復(fù)在塑封IC表面滴注酸液、清洗,直至芯片完全裸露出來(lái)。
作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,所述塑封IC的表面設(shè)置有凹槽,所述酸液滴注在凹槽內(nèi)。
作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,硝酸和硫酸均為分析純級(jí)。
作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,滴注到塑封IC表面的酸液溫度為60℃。
作為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,最后將芯片清洗干凈的方法為:先用超聲波清洗,再用水清洗,最后用無(wú)水乙醇清洗。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明方法開(kāi)封時(shí)間短的原因?yàn)椋阂弧⑾跛岷土蛩嵝纬苫焖徇M(jìn)行腐蝕;二、芯片表面開(kāi)有凹槽;三、對(duì)酸液進(jìn)行加熱,而不是對(duì)樣品進(jìn)行加熱,減小對(duì)樣品的影響。
具體實(shí)施方式
1.原材料準(zhǔn)備:需要準(zhǔn)備的原材料有:分析純級(jí)濃硫酸,分析純級(jí)濃硝酸,無(wú)水乙醇,滴管一只,燒杯若干。
2.腐蝕酸液配置:將分析純級(jí)濃硝酸和分析純級(jí)濃硫酸按照3:1的體積比進(jìn)行配制,配制酸液時(shí)一次不要配制太多。
3.加熱腐蝕酸液:將配置好的腐蝕酸液加熱到50~80℃之間后,穩(wěn)定溫度使酸液始終保持在50~80℃,建議溫度為60℃.可以將溫度計(jì)插入酸液中監(jiān)控酸液溫度。
4.樣品準(zhǔn)備:清理樣品表面的異物,使酸液可以直接與塑封料接觸。最好在芯片上方位置制作出一個(gè)凹處,方便酸液停留腐蝕,這樣可以加快開(kāi)封速度。
5.樣品腐蝕:將加熱好的酸液用滴管滴注在芯片上方位置,使酸液與塑封料反應(yīng),然后將樣品放入盛有無(wú)水乙醇的燒杯中清洗,清洗后繼續(xù)滴注,不斷重復(fù)以上操作,直到芯片全部裸露出來(lái)。
6.芯片表面清理:將分析純級(jí)濃硫酸滴注在裸露出的芯片表面,停滯5秒后將樣品放入盛有無(wú)水乙醇的燒杯中清洗,反復(fù)操作3次。
7.樣品清洗:用水將樣品清洗3次,防止酸液殘留對(duì)人員造成傷害。最終將樣品放入無(wú)水乙醇中10秒后拿出即可。如果有超聲波清洗機(jī),可以在樣品放入無(wú)水乙醇前進(jìn)行超聲波清洗,效果會(huì)更好。用無(wú)水乙醇進(jìn)行清洗能夠防止芯片表面有水痕遺留,影響觀察。
最后說(shuō)明的是,以上實(shí)例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制,盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本技術(shù)方案的宗旨和范圍,其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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