[發(fā)明專(zhuān)利]發(fā)光裝置及其相關(guān)投影系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210576277.X | 申請(qǐng)日: | 2012-12-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103838068A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊毅 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市光峰光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03B21/20 | 分類(lèi)號(hào): | G03B21/20;G03B21/00;F21V13/02 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市南山區(qū)西麗鎮(zhèn)茶光路1*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 及其 相關(guān) 投影 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及照明及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種發(fā)光裝置及其相關(guān)投影系統(tǒng)。
背景技術(shù)
采用固態(tài)光源如激光二極管(LD,Laser?Diode)或發(fā)光二極管(LED,Light?Emitting?Diode)發(fā)出的激發(fā)光以及波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料如熒光粉或量子點(diǎn)的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換方法能夠產(chǎn)生高亮度的波長(zhǎng)不同于激發(fā)光波長(zhǎng)的光。這種方案具有高效、低成本的優(yōu)勢(shì),已成為現(xiàn)有光源提供白光或者單色光的主流技術(shù)。
請(qǐng)參閱圖1,圖1是現(xiàn)有技術(shù)中發(fā)光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。發(fā)光裝置100包括用于產(chǎn)生激發(fā)光的激發(fā)光源11、波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置13和濾光片15。波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置13包括反射基底107和設(shè)置在反射基底107上的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層109。波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層109包括第一表面109a和第二表面109b,其中第二表面109b設(shè)置在反射基底107上,第一表面109a用于接受激發(fā)光。波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層109受激發(fā)后產(chǎn)生受激光,其中一部分受激光從第一表面109a出射,一部分受激光從波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層109的第二表面109b出射并被反射基底107反射至從第一表面109a和第一部分受激光一起出射。為區(qū)分激發(fā)光和受激光的光路,在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層109和激發(fā)光源11之間還放置有濾光片15,用于透射激發(fā)光并反射受激光。
由于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料出射受激光為全角發(fā)光,因此在發(fā)光裝置100中還包括收集透鏡17,用于準(zhǔn)直受激光并出射。然而收集透鏡能夠收集光束的角度范圍一般為65度角到75度角,這樣,波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層109在收集透鏡17能收集到的角度之外的受激光的損耗較大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種減小大角度出射光所占比例的發(fā)光裝置。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種發(fā)光裝置,包括:
激發(fā)光源,用于產(chǎn)生激發(fā)光;
微結(jié)構(gòu)層,包括微結(jié)構(gòu)陣列,其中微結(jié)構(gòu)呈通孔狀,且微結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)面為反射面;每個(gè)微結(jié)構(gòu)的上開(kāi)口的面積大于下開(kāi)口的面積;每個(gè)微結(jié)構(gòu)的上開(kāi)口位于所述微結(jié)構(gòu)層的同一側(cè)并面向所述激發(fā)光;
反射層,位于所述微結(jié)構(gòu)層背向所述激發(fā)光的一側(cè),且與所述微結(jié)構(gòu)層平行并列,或者設(shè)置于所述各微結(jié)構(gòu)的下開(kāi)口上;
波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層,位于所述反射層面向所述激發(fā)光的一側(cè),該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層包括背向所述反射層的第一表面,用于吸收來(lái)自所述激發(fā)光源的激發(fā)光并從該第一表面出射受激光,使得該受激光經(jīng)過(guò)所述微結(jié)構(gòu)層中的各微結(jié)構(gòu)后出射。
本發(fā)明實(shí)施例還提供一種投影系統(tǒng),包括上述發(fā)光裝置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明包括如下有益效果:
背景技術(shù)中,由于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層出射受激光為全角發(fā)光,發(fā)散角度較大;本發(fā)明中通過(guò)在反射層面向激發(fā)光的一側(cè)放置波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層,該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層接收經(jīng)過(guò)微結(jié)構(gòu)的激發(fā)光并產(chǎn)生受激光,經(jīng)反射層反射后從背向反射層一側(cè)出射,并經(jīng)過(guò)微結(jié)構(gòu)層的各微結(jié)構(gòu)出射;由于微結(jié)構(gòu)陣列中的各微結(jié)構(gòu)的上開(kāi)口面積大于下開(kāi)口面積,且內(nèi)側(cè)面為反射面,由幾何知識(shí)可知,波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層產(chǎn)生的受激光經(jīng)過(guò)每個(gè)微結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)面反射后出射角度變小,因此發(fā)光裝置的出射光中大角度的出射光所占比例減小。附圖說(shuō)明
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中發(fā)光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2A是本發(fā)明的發(fā)光裝置的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2B是圖2A所示的發(fā)光裝置中的局部光路結(jié)構(gòu)示意圖
圖2C是圖2A所示的發(fā)光裝置中微結(jié)構(gòu)層的俯視圖;
圖3是本發(fā)明的發(fā)光裝置的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是本發(fā)明的發(fā)光裝置中一個(gè)微結(jié)構(gòu)的下表面所對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的一種結(jié)構(gòu)示意圖;;
圖5A是本發(fā)明的發(fā)光裝置中一個(gè)微結(jié)構(gòu)的下表面所對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的另一種結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5B是圖5A所示的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的俯視圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
實(shí)施例一
請(qǐng)參閱圖2A、圖2B和圖2C,圖2A是本發(fā)明的發(fā)光裝置的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖,圖2B是圖2A所示的發(fā)光裝置中的局部光路結(jié)構(gòu)示意圖,圖2C是圖2A所示的發(fā)光裝置中微結(jié)構(gòu)層的俯視圖。。發(fā)光裝置200包括激發(fā)光源21和波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置22,其中該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置22包括微結(jié)構(gòu)層23、波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層25和反射層27。
微結(jié)構(gòu)層23包括微結(jié)構(gòu)陣列23a。微結(jié)構(gòu)陣列23a中的各微結(jié)構(gòu)203呈通孔狀,且每個(gè)微結(jié)構(gòu)203的上開(kāi)口203a的面積大于下開(kāi)口203b的面積,其中每個(gè)微結(jié)構(gòu)的上開(kāi)口203a均位于微結(jié)構(gòu)層23的同一側(cè)。
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