[發明專利]發光裝置及其相關投影系統

有效

• 申請號: 201210576277.X
• 申請日: 2012-12-26
• 公開（公告）號: CN103838068A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 楊毅
• 申請（專利權）人: 深圳市光峰光電技術有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G03B21/00;F21V13/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種發光裝置，其特征在于，包括：

激發光源，用于產生激發光；

微結構層，包括微結構陣列，其中微結構呈通孔狀，且微結構的內側面為反射面；每個微結構的上開口的面積大于下開口的面積；每個微結構的上開口位于所述微結構層的同一側并面向所述激發光；

反射層，位于所述微結構層背向所述激發光的一側，且與所述微結構層平行并列，或者設置于所述各微結構的下開口上；

波長轉換層，位于所述反射層面向所述激發光的一側，該波長轉換層包括背向所述反射層的第一表面，用于吸收來自所述激發光源的激發光并從該第一表面出射受激光，使得該受激光經過所述微結構層中的各微結構后出射。

2.根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于，所有所述波長轉換層為一整體；所述微結構陣列中的微結構的下開口與該波長轉換層的第一表面緊密接觸。

3.根據權利要求2所述的發光裝置，其特征在于，所述微結構層中各微結構的下開口所在的一面上，除各微結構的下開口的其他區域上設置有反射層。

4.根據權利要求1所述的發光裝置，所述微結構層還包括基底，所述微結構陣列中每個微結構的下開口設置在該基底上；所述反射層包括多個子反射層，其中各子反射層分別覆蓋各微結構的下開口，所述波長轉換層包括多個子波長轉換層，其中各子波長轉換層覆蓋在各微結構中的子反射層上。

5.根據權利要求4所述的發光裝置，其特征在于，所述發光裝置還包括背板，所述微結構層的基底設置于該背板上。

6.根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于，所述微結構層中各微結構的上開口所在的一面上，除各微結構的上開口的其他區域為經粗糙化的面。

7.根據權利要求1至6任一項所述的發光裝置，所述任意相鄰的兩個微結構之間的平均舉例小于或者等于所述激發光在所述微結構層上形成的光斑所在的外接圓的直徑的1/4，其中該兩個微結構之間的平均距離指的是該兩個微結構的中心軸之間的距離。

8.根據權利要求1所述的發光裝置，所述受激光的最大發散半角θ為60度，其中

θ=arctan(L1+L22H)]]>,在沿著垂直于微結構的上下開口的方向，該微結構面積最大的一個截面中，L₁為該截面與該微結構的上開口的交線的長度，L₂為該截面與該微結構的下開口的交線的長度，H為該微結構的上下開口之間的距離。

9.根據權利要求1所述的發光裝置，其特征在于，所述每個微結構的上開口為長方形，且該長方形的長邊和寬邊比為4：3或者16：9。

10.一種投影系統，其特征在于，包括如權利要求1至9中任一項所述的發光裝置。