[發(fā)明專利]一種超凈擦拭布的生產(chǎn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210574599.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103015081A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張鈞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞市碩源電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | D06B1/02 | 分類號(hào): | D06B1/02;D06B1/14;D06B9/00;A47L1/15;A47L13/16;D06L1/20 |
| 代理公司: | 東莞市中正知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44231 | 代理人: | 張萍 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市萬(wàn)*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 擦拭 生產(chǎn) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種擦拭布的技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種超凈擦拭布的生產(chǎn)方法。?
背景技術(shù)
擦拭布表面柔軟,易于擦拭敏感表面,摩擦不脫纖維,具有良好的吸水性及清潔效率,擦拭布由于上述優(yōu)點(diǎn)而得到廣泛的應(yīng)用,如廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、微處理器等生產(chǎn)線,碟盤驅(qū)動(dòng)器,復(fù)合材料,LCD顯示類產(chǎn)品,線路板生產(chǎn)線,精密儀器,光學(xué)產(chǎn)品,航空工業(yè),PCB產(chǎn)品,醫(yī)療設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室,無塵車間等領(lǐng)域中。一直以來,非揮發(fā)性殘留物和塵粒殘留物是影響擦拭布應(yīng)用的重要因素,非揮發(fā)性殘留物的殘留量(即NVR值)和塵粒殘留物的殘留量(即LPC值)直接影響著無塵布的應(yīng)用范圍,如在光學(xué)產(chǎn)業(yè)中,如果擦拭布的NVR值過高,會(huì)影響光線的透過率,發(fā)射效率降低,從而引起設(shè)備的能耗高,穩(wěn)定性差,顯示品質(zhì)差等多方面的問題。高端產(chǎn)業(yè)一般需要確保擦拭布的NVR值不大于0.05mg/g,而LPC值不大于50counts/cm2。而影響擦拭布的潔凈度的關(guān)鍵工序是對(duì)織造好的坯布進(jìn)行漂洗工序,現(xiàn)有的漂洗工序一般使用普通的井水、河水或自來水來進(jìn)行漂洗,普通的井水、河水或自來水含有大量離子和雜質(zhì),在漂洗過程中,對(duì)于潔凈布的潔凈度提升效果有限。改進(jìn)過的漂洗工序一般為:在溢流洗缸中注入純水,并添加一些化學(xué)洗滌劑來對(duì)坯布進(jìn)行間歇式循環(huán)漂洗,由于溢流機(jī)本身的缺點(diǎn)以及用水潔凈不高,這樣生產(chǎn)出來的擦拭布潔凈度參差不齊,生產(chǎn)質(zhì)量難以保證,難以確保擦拭布的NVR值不大于0.05mg/g,LPC值不大于50counts/cm2。潔凈度低的擦拭布的除污能力弱、長(zhǎng)期使用則會(huì)對(duì)設(shè)備、敏感材料等造成損害,甚至威脅到設(shè)備及材料的使用壽命。?
因此,如何實(shí)現(xiàn)一種潔凈度高、質(zhì)量穩(wěn)定、生產(chǎn)工序簡(jiǎn)便高效的超凈的擦拭布是業(yè)內(nèi)亟待解決的技術(shù)問題。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種超凈擦拭布的生產(chǎn)方法,旨在實(shí)現(xiàn)一種潔凈度高、質(zhì)量穩(wěn)定、生產(chǎn)工序簡(jiǎn)便高效的超凈的擦拭布。?
本發(fā)明提出一種超凈擦拭布的生產(chǎn)方法,包括以下步驟:?
A、選絲:選用AA質(zhì)量等級(jí)以上的連續(xù)長(zhǎng)絲紗線,紗線的含油率小于1.5%;?
B、織造:將A步驟中的紗線織造成坯布,織造工序在ISO0級(jí)至ISO9級(jí)環(huán)境中進(jìn)行,織造采用28針至42針的織法,或者雙面針織,或者采用1/1、1/2、1/3的織法,或者結(jié)合上述織造方法中的2種或3種織法進(jìn)行機(jī)織。?
C、通過漂洗工序去除低聚物及塵粒:將B步驟中的坯布循環(huán)通過高溫純水的清洗,煮煉漂洗設(shè)備采用清洗無反向污染的氣流漂洗機(jī),漂洗溫度設(shè)置為80℃至130℃,添加入可去除低聚物的表面活性劑、酶催化劑、碳酸鈉、過氧碳酸鈉、氫氧化鈉等除油助劑,其中表面活性劑的添加量為0.1%至0.8%,碳酸鈉的添加量為0.2%至1%,過氧碳酸鈉的添加量為0.2%至1%,氫氧化鈉的添加量為5g/L至20g/L,坯布與洗液的浴比的設(shè)置范圍為1∶3至1∶10,高溫條件下利用氣流漂洗機(jī)將坯布上的低聚物及塵粒去除;?
D、脫水:采用旋轉(zhuǎn)離心凈化脫水機(jī)對(duì)已去除低聚物及塵粒的坯布進(jìn)行脫水操作并脫除坯布纖維表面的離子、塵粒和其他臟污,旋轉(zhuǎn)離心凈化脫水機(jī)的脫水部位采用316不銹鋼制成,脫水轉(zhuǎn)速為350-600rpm,?
E、定型:在ISO8級(jí)以上的環(huán)境下,采用無塵無硅油定型機(jī)對(duì)坯布進(jìn)行定型處理,定型模式采用全封閉模式,定型溫度的范圍為160℃至210℃,定型速度為30m/min至60m/min;?
F、切割:將經(jīng)過定型后的坯布置入ISO7級(jí)以上的無塵室內(nèi),對(duì)坯布進(jìn)行超音波切割或激光切割或熱切割以及熱切割,坯布初步成型成為擦拭布;?
G、清洗:在ISO5級(jí)以上環(huán)境下,對(duì)切割后的擦拭布進(jìn)行清洗操作,采用滾筒清洗或噴射清洗,擦拭布與清洗液的浴比的設(shè)置范圍為1∶10至1∶20,清洗次數(shù)為3至5次,每次5至10分鐘;?
H、烘干:對(duì)清洗后的擦拭布進(jìn)行烘干操作,烘干溫度為70℃至95℃,采用凈化熱氣噴射工藝烘干或采用滾筒來烘干;?
I、包裝:包裝工序在環(huán)境等級(jí)ISO5級(jí)以上的無塵室中進(jìn)行,在環(huán)境等級(jí)ISO4級(jí)以上的無塵室中進(jìn)行為佳。?
優(yōu)選地,B步驟中的坯布的經(jīng)緯密為:經(jīng)密:150根/英寸至230根/英寸,其中最佳經(jīng)密為180根/英寸,緯密:80根/英寸至120根/英寸,其中最佳緯密為100根/英寸。?
優(yōu)選地,C步驟的水洗環(huán)境為ISO8級(jí)以上的環(huán)境,純水采用純凈水或RO水或超純水,純水電阻在18M歐姆以上。C步驟中高溫純水清洗的循環(huán)次數(shù)為5至12次。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東莞市碩源電子材料有限公司,未經(jīng)東莞市碩源電子材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210574599.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及產(chǎn)品生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)藥品的生產(chǎn)線和包括該生產(chǎn)線的生產(chǎn)車間
- 生產(chǎn)輔助系統(tǒng)、生產(chǎn)輔助方法以及生產(chǎn)輔助程序
- 生產(chǎn)系統(tǒng)、生產(chǎn)裝置和生產(chǎn)系統(tǒng)的控制方法
- 石料生產(chǎn)機(jī)制砂生產(chǎn)系統(tǒng)
- 生產(chǎn)系統(tǒng)以及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





