[發(fā)明專利]發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210572550.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103904190A | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賴志成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/48 | 分類號(hào): | H01L33/48;H01L33/62;H01L21/66 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 封裝 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,包括以下步驟:
步驟一,提供共晶焊接設(shè)備,該共晶焊接設(shè)備包括烘烤裝置、設(shè)置于烘烤裝置內(nèi)的支撐臺(tái)及吸嘴,提供電阻測(cè)量?jī)x,該電阻測(cè)量?jī)x包括電阻探針、恒流電源及配套電腦,其中所述電阻探針容置于所述吸嘴內(nèi);
步驟二,提供發(fā)光二極管芯片,該發(fā)光二極管芯片的頂部及底部?jī)蓚?cè)分別設(shè)有電極;
步驟三,提供基板承載于共晶焊接設(shè)備的支撐臺(tái)上;
步驟四,通過吸嘴吸取并攜帶發(fā)光二極管芯片至與基板的頂面緊密貼合;
步驟五,所述烘烤裝置對(duì)發(fā)光二極管芯片及基板進(jìn)行烘烤使得該發(fā)光二極管芯片與基板之間發(fā)生共晶焊接過程;
步驟六,所述電阻測(cè)量?jī)x的電阻探針與該發(fā)光二極管芯片的電極接合,使得電阻測(cè)量?jī)x與發(fā)光二極管芯片及基板電導(dǎo)通并測(cè)量光二極管芯片與基板的電阻值,所述電阻測(cè)量?jī)x的配套電腦實(shí)時(shí)記錄所測(cè)得的電阻值,當(dāng)該測(cè)得的電阻值與預(yù)設(shè)的電阻值一致時(shí),所述共晶焊接設(shè)備完成對(duì)發(fā)光二極管芯片與基板之間的共晶焊接過程。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述發(fā)光二極管芯片的底面上進(jìn)一步鍍有第一金屬層。
3.如權(quán)利要求2所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述第一金屬層的材質(zhì)是Au、Sn、In、Al、Ag、Bi、Be、Cu或其合金。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述基板的頂面上進(jìn)一步鍍有第二金屬層。
5.如權(quán)利要求4所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述第二金屬層的材質(zhì)是Au、Sn、In、Al、Ag、Bi、Be、Cu或其合金。
6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述支撐臺(tái)固定于一傳送帶上,以實(shí)現(xiàn)流水線作業(yè)。
7.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述電阻探針上加設(shè)有自動(dòng)傳感裝置,當(dāng)電阻探針接近發(fā)光二極管芯片時(shí)實(shí)行自動(dòng)減速。
8.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述電阻探針的材質(zhì)為碳化鎢、鋼或合金。
9.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于:所述基板的材質(zhì)為硅、鋁或銅。
10.一種發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu),該發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)包括基板、設(shè)置于基板上的發(fā)光二極管芯片及形成于發(fā)光二極管芯片與基板之間的共晶金屬層,其特征在于:所述發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)由如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的發(fā)光二極管封裝結(jié)構(gòu)的制造方法所制造。
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