[發明專利]一種利用活性焦處理印染廢水的系統及其工藝

有效

• 申請號: 201210569385.4
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN103058455A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 樊兆世;滕濟林;胡溪;禹曉磊
• 申請（專利權）人: 北京國電富通科技發展有限責任公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 彭秀麗

1.一種利用活性焦處理印染廢水的系統，包括：

依次連接設置的水解酸化裝置、活性污泥池、沉淀池和生物濾池,所述印染廢水由所述水解酸化裝置進入，處理后的出水從所述生物濾池流出，所述沉淀池與所述活性污泥池之間設置有回流管道；

其特征在于，

所述水解酸化裝置上設置有活性焦加料口，在所述水解酸化裝置內添加有活性焦，從所述水解酸化裝置出來的含有活性焦的出水再進入所述活性污泥池。

2.根據權利要求1所述的利用活性焦處理印染廢水的系統，其特征在于，所述水解酸化裝置內活性焦的粒徑為0.1~1.0mm。

3.根據權利要求1或2所述的利用活性焦處理印染廢水的系統，其特征在于，所述生物濾池中的濾料采用粒徑為1.0~8.0mm的活性焦。

4.根據權利要求1-3任一所述的利用活性焦處理印染廢水的系統，其特征在于，在所述沉淀池和所述生物濾池之間還設置有中間水池。

5.根據權利要求1-4任一所述的利用活性焦處理印染廢水的系統，其特征在于，在所述水解酸化裝置前，與所述水解酸化裝置連接設置有初沉池。

6.基于權利要求1所述的處理系統的處理工藝，包括:

（1）將印染廢水送入所述水解酸化裝置，所述水解酸化裝置內廢水中的活性焦濃度為0.01-50g/L；

（2）從所述水解酸化裝置出來的含有活性焦的出水進入所述活性污泥池進行處理；

（3）所述活性污泥池的出水進入所述沉淀池進行沉淀，所述沉淀池中沉淀污泥的10~90wt%通過回流管道回流至所述活性污泥池；

（4）所述沉淀池中的澄清液再進入所述生物濾池進行處理，經所述生物濾池處理后即得到處理后的出水。

7.根據權利要求6所述的處理工藝，其特征在于，所述水解酸化裝置的水力停留時間為4h~36h，溫度為10-35℃；?

所述活性污泥池的水力停留時間為3h~120h，溶解氧濃度為1~5mg/L。

8.根據權利要求6或7所述的處理工藝，其特征在于，所述生物濾池中的濾料采用粒徑為1.0~8.0mm的活性焦，濾料層高度為1.0~5.0m，所述生物濾池的水力停留時間為1h~18h。

9.根據權利要求6-9任一所述的處理工藝，其特征在于，在所述步驟（1）中，向所述印染廢水中添加混凝劑，將所述廢水送入初沉池進行沉淀后，再將所述初沉池的澄清液送入所述水解酸化裝置。

10.根據權利要求6-8任一所述的處理工藝，其特征在于，在所述步驟（3）中，所述活性污泥池的出水進入所述沉淀池之前，先向所述出水中添加混凝劑。

11.根據權利要求6-10所述的處理工藝，其特征在于，從所述沉淀池出來的出水先進入中間水池，再由所述中間水池送入所述生物濾池。