[發明專利]酰氟生產含氟乙烯基醚的方法和設備

有效

• 申請號: 201210567948.6
• 申請日: 2012-12-24
• 公開（公告）號: CN102992969A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 張智勇
• 申請（專利權）人: 上海三愛富新材料股份有限公司
• 主分類號: C07C43/17
• 分類號: C07C43/17;C07C41/18;B01J19/18
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 朱黎明

1.一種由酰氟生產含氟乙烯基醚的反應系統，它包括：

（a）使所述酰氟與堿金屬碳酸鹽反應形成羧酸鹽的成鹽反應器(81)；

（b）將該羧酸鹽脫羧的脫羧反應器(82)，所述成鹽反應器(81)和脫羧反應器(82)通過管道(93)流體相連，所述脫羧反應器包括一個圓筒型脫羧反應室（10），該圓筒型脫羧反應室（10）包括：

反應室壁（3）；和

與該圓筒型脫羧反應室（10）同軸安裝的刮板筒（9），該刮板筒（9）包括上底環（21）、下底環（41）、在所述上底環（21）和下底環（41）之間與所述反應室壁（3）平行的多根刮板（31），所述上底環（21）和下底環（41）具有相同的直徑，所述多根刮條中的一部分刮條與所述反應器壁之間的間距小于1cm，而另一部分刮條與所述反應器壁之間的間距為1-5cm。

2.如權利要求1所述的反應系統，其特征在于所述間距小于1cm的所述一部分刮條為平板條；所述間距為1-5cm的另一部分刮條為包覆可自由旋轉滾筒的圓柱條。

3.如權利要求2所述的反應系統，其特征在于所述平板條與所述反應器壁之間的間距小于0.5cm，較好小于0.2cm；所述包覆可自由旋轉滾筒的圓柱條所述反應器壁之間的間距為1.2-4cm，較好為1.5-3cm。

4.如權利要求1-3中任一項所述的反應系統，其特征在于所述多根刮條中的一部分刮條與所述另一部分刮條以相同的間距間隔放置。

5.如權利要求1-3中任一項所述的反應系統，其特征在于所述刮板的長度是脫羧反應室（9）高度的40-90％，較好為45-85％，更好為50-80％。

6.一種采用權利要求1-5中任一項所述的反應系統由酰氟生產含氟乙烯基醚的方法，它包括如下步驟：

（a）在溶劑存在下，使通式（1）表示的酰氟與堿金屬碳酸鹽反應；生成羧酸鹽（2）：

其中，X是-CO₂R、-SO₂F或F，R是C_1-10烷基；n=0，1或2；

其中X定義同通式（1），M為堿金屬原子；

(b)將上述羧酸鹽涂覆成厚度為1-5cm的薄膜，并對該薄膜加熱使之發生脫羧反應，形成式（3）表示的含氟乙烯基醚：

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于在進行脫羧反應步驟（b）以前，所述方法還包括在保持通式（2）的堿金屬羧酸鹽為溶液狀的同時，蒸發掉部分或全部溶劑。

8.如權利要求6或7所述的方法，其特征在于在減壓或惰性氣體下進行熱解。

9.如權利要求6或7所述的方法，其特征在于使用刮板筒的刮板將堿金屬羧酸鹽涂覆在反應室的室壁上，形成1.2-4cm，更好1.5-3cm，優選1.8-2.5cm的薄膜。

10.如權利要求6或7所述的方法，其特征在于將反應室的室壁加熱至120～250℃，優選120～200℃。