[發明專利]一種晶界密度測量方法無效
| 申請號： | 201210560310.X | 申請日： | 2012-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN103884624A | 公開（公告）日： | 2014-06-25 |
| 發明（設計）人： | 張智義;高振宇;李亞東;陳春梅;劉文鵬;李文權;張仁波;羅理 | 申請（專利權）人： | 鞍鋼股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N9/24 | 分類號： | G01N9/24 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 114021 *** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 密度 測量方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種晶界密度測量方法，其特征在于包括以下幾步：
1）晶界顯示：將金屬試樣磨平拋光后采用硝酸酒精、苦味酸溶液進行腐蝕，顯示晶界；
2）獲取圖像：根據晶粒大小，可選擇合適倍數M使晶粒清晰成像，獲得照片；
3）根據放大倍數計算圖像面積S，獲取的圖像面積S＝（照片測量長度a/放大倍數M）×（照片測量寬度b/放大倍數M）；
4）測量觀測范圍內所有晶界長度，并求和L；測量長度的方法是將各晶界微分處理，每個微分單元端點坐標分別為（x1,y1）(x2,y2)，因此該微分單元長度l＝，將各微分單元長度相加即為晶界長度L；
5）計算晶界密度A＝L/S。
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