[發(fā)明專利]一種回轉(zhuǎn)電爐及其制備高活性電鍍級(jí)氧化銅的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210559068.4
• 申請日: 2012-12-21
• 公開（公告）號(hào): CN103101959A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐金章;劉后傳;許明才
• 申請（專利權(quán)）人: 泰興冶煉廠有限公司
• 主分類號(hào): C01G3/02
• 分類號(hào): C01G3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于氧化銅生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種回轉(zhuǎn)電爐及其制備高活性電鍍級(jí)氧化銅的方法。

背景技術(shù)

在PCB制造工藝中，傳統(tǒng)的電鍍工藝是采用銅板做陽極板并補(bǔ)充銅源，因電子元件形狀復(fù)雜，有孔、有凹凸面等形狀，在洞孔中，因電鍍液滲透不進(jìn)去，因而鍍不到銅，凸出部分因電流密度大，鍍層較厚，凹陷部分電流密度小，鍍層較薄，導(dǎo)致產(chǎn)品不合格。

目前市場上PCB制造業(yè)普遍水平電鍍工藝，該工藝克服了傳統(tǒng)工藝的缺點(diǎn)，但該工藝必須在電鍍液中補(bǔ)加高純低氯高活性氧化銅，以保證電鍍液銅離子濃度，水平電鍍工藝所用的氧化銅除高純度要求外，還要保證氧化銅在電鍍液中有足夠快的溶解速度，確保氧化銅在電鍍液中30秒以內(nèi)溶解完。關(guān)于氧化銅的生產(chǎn)工藝，在目前公開的一些發(fā)明專利中也有涉及，申請?zhí)枮?1127175.2公開的以硫酸銅及銅料為原料，經(jīng)80-85℃的低溫氧化，經(jīng)結(jié)晶得到硫酸銅，然后與氫氧化鈉反應(yīng)，再經(jīng)球磨、壓濾、洗滌、烘干、粉碎制得活性氧化銅的工藝在制氧化銅過程溶液會(huì)出現(xiàn)粘稠狀態(tài)，要經(jīng)過多次洗滌工序，因此會(huì)產(chǎn)生大量的洗滌廢水；申請?zhí)枮?00710076208.1公開的以堿性蝕刻廢液經(jīng)蒸氨生產(chǎn)氧化銅的工藝，由于是用堿性蝕刻廢液在高溫、強(qiáng)堿狀態(tài)下長時(shí)間蒸氨制得，因此氧化銅活性較低；申請?zhí)枮?00710071896.2公開的用硝酸銅與氫氧化鈉反應(yīng)經(jīng)壓濾、干燥、焙燒制氧化銅工藝，會(huì)產(chǎn)生二氧化氮或一氧化氮廢氣，對(duì)環(huán)境造成一定的污染；申請?zhí)枮?00810067243.1以合成堿式氯化銅為前驅(qū)體，再經(jīng)過與氫氧化鈉反應(yīng)生產(chǎn)單斜晶系氧化銅的生產(chǎn)工藝，但其活性尚未實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。目前水平電鍍用氧化銅也有以堿式碳酸銅為原料制備的，但一是堿式碳酸銅多由傳統(tǒng)工藝得到，鐵、鉛等雜質(zhì)含量高，二是大部分廠家采用推板窯煅燒設(shè)備煅燒堿式碳酸銅制備電鍍級(jí)氧化銅，該方法存在以下問題：（1）因窯內(nèi)溫度分布不均勻，反應(yīng)物料物性也不夠均勻，低溫部分堿式碳酸銅沒有燒透含量不足，而高溫部分氧化銅已燒死，失去活性；（2）裝料匣缽掉渣帶入物料雜質(zhì)硅、鋁、鈣等污染產(chǎn)品，使電鍍級(jí)氧化銅的化學(xué)成份無法達(dá)到指標(biāo)要求；（3）因物料是固定床，溫度分布不均勻，使生產(chǎn)時(shí)間長、能耗高；（4）手工操作，勞動(dòng)強(qiáng)度大，不能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。

綜上，開發(fā)一種生產(chǎn)成本低、污染小、品質(zhì)好，活性高的水平電鍍用氧化銅的制備方法已成為PCB制造業(yè)的迫切需求。

?發(fā)明內(nèi)容：

本發(fā)明克服了現(xiàn)有工藝的缺陷，提供了一種產(chǎn)品純度高、含氯量少、生產(chǎn)容易洗滌、污染小、成本低并能保證產(chǎn)品活性的一種煅燒堿式碳酸銅的回轉(zhuǎn)電爐及其制備高活性電鍍級(jí)氧化銅的方法。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種回轉(zhuǎn)電爐，其特征在于：所述回轉(zhuǎn)電爐包括螺旋喂料機(jī)、窯頭箱、驅(qū)動(dòng)裝置、爐筒、前支撐輪、電加熱保溫爐膛、后支撐輪、窯尾箱和底座，爐筒由前支撐輪、后支撐輪支撐，爐筒的前后兩端分別安裝于窯頭箱和窯尾箱中，爐筒中心線與水平面呈一定角度，爐筒位于窯頭箱中的一端高于位于窯尾箱中的另一端；驅(qū)動(dòng)爐筒旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置于窯頭箱與前支撐輪之間；前支撐輪、后支撐輪之間的爐筒筒身外壁設(shè)有電加熱保溫爐膛，所述電加熱保溫爐膛由外殼、保溫層、電加熱元件、熱電偶測溫裝置組成，爐筒外壁設(shè)有保溫層，保溫層上由外殼包裹，保溫層和爐筒外壁間設(shè)有電加熱元件以及均勻布置多個(gè)熱電偶測溫裝置；爐筒內(nèi)腔位于電加熱保溫爐膛的部分由加料端向出料端依次設(shè)有1區(qū)、2區(qū)、3區(qū)，電加熱保溫爐膛由底座支承；螺旋喂料機(jī)位于窯頭箱前端，出料口位于窯尾箱下端，螺旋喂料機(jī)與出料口分別與爐筒兩端口連通；前支撐輪、后支撐輪分別與電加熱爐膛間的爐筒外壁上設(shè)置至少一個(gè)撞擊裝置，所述的爐筒撞擊裝置包括中空腔體和球體，中空腔體為一端開口、一端封閉，開口端固定于爐筒外壁，球體活動(dòng)置于中空腔體內(nèi)，爐筒旋轉(zhuǎn)過程中球體在中空腔體中上下運(yùn)動(dòng)形成與爐筒外壁呈間隙撞擊的狀態(tài)，中空腔體垂直設(shè)置于爐筒外壁。