[發明專利]一種用于化學機械拋光設備的清洗裝置在審
| 申請號: | 201210557495.9 | 申請日: | 2012-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN103878668A | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發明(設計)人: | 顧軍;邱麟;劉波 | 申請(專利權)人: | 上海華虹宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/02 | 分類號: | B24B29/02;B24B55/06 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 化學 機械拋光 設備 清洗 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種清洗裝置,尤其涉及一種用于化學機械拋光設備的清洗裝置。?
背景技術
參閱附圖1所示,在半導體生產中使用的化學機械拋光設備,通常包含多個拋光臺10,拋光臺10上方設置有多個拋光頭,拋光頭的上方設置有頂蓋,各拋光臺10的相鄰位置設置有晶片清洗裝置11,拋光臺10的鄰近位置還設置有晶片傳載機構12,參閱附圖2和附圖3所示,晶片清洗裝置11包含殼體1和垂直間隔設置在殼體1上的多個直噴頭21,該直噴頭21的出水口向正上方,圖3中的箭頭表示直噴頭21的出水口的噴射方向。晶片拋光生產中,在各個拋光臺10上設置拋光墊,并在拋光墊上添加研磨液,拋光頭將待拋光面朝下的晶片吸持后壓置在拋光墊上進行拋光,完成一次拋光后,拋光頭吸持著晶片移動到設置在拋光臺10相鄰位置的晶片清潔裝置11上方,晶片清洗裝置11的多個直噴頭21垂直向上噴射高壓去離子水,清洗晶片的拋光面。由于在拋光過程中,拋光臺10或拋光頭快速旋轉對晶片進行拋光,拋光墊中的研磨液噴濺到上方的頂蓋內壁上,噴濺到頂蓋上的研磨液干燥后成為研磨液結晶附著在頂蓋內壁上。隨著化學機械拋光設備使用時間的增加,附著在頂蓋內壁上的研磨液結晶將逐漸增加,在晶片拋光生產過程中,這些附著在頂蓋內壁上的研磨液結晶有時候會掉落下來,劃傷晶片表面。而現有的晶片清洗裝置11僅能對移動到其正上方的晶片進行清洗。?
發明內容
本發明提供了一種用于化學機械拋光設備的清洗裝置,能夠在清洗晶片的同時對化學機械拋光設備的頂蓋內壁進行清洗,降低拋光過程中晶片劃傷的幾率,提高拋光生產的成品率,并且本發明裝置結構簡單,使用方便,成本低廉。?
本發明采用如下技術方案實現:?
一種用于化學機械拋光設備的清洗裝置,包含多個拋光臺,拋光臺上方設有多個拋光頭,拋光頭的上方設置有頂蓋,拋光臺的鄰近位置還設置有晶片傳載機構,各拋光頭吸持晶片在拋光臺上拋光,各所述拋光頭可移動;其特點是,所述該清洗裝置包含:殼體、間隔設置在殼體上的一排多個噴頭;所述噴頭包含用于向晶片噴水的直噴頭和用于向化學機械拋光設備頂蓋內壁噴水的彎噴頭;各所述噴頭通過水管與外部的進水管連接。
上述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置,其特點是,所述直噴頭垂直設置在殼體上。?
上述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置,其特點是,所述彎噴頭折彎成一鈍角。?
上述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置,其特點是,所述彎噴頭優選折彎成一135°鈍角。?
上述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置,其特點是,各所述彎噴頭設為出水口方向不同。?
上述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置,其特點是,所述用于化學機械拋光設備的清洗裝置設置在各拋光臺的相鄰位置。?
上述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置,其特點是,各所述噴頭通過水管與外部的進水管連接,通過設置在外部的進水管上的閥門控制,各所述噴頭可同時噴水。?
一種包含清洗裝置的化學機械拋光設備,其特點是,包含:多個拋光臺,設置在拋光臺上方的多個拋光頭,設置在拋光頭上方的頂蓋,設置在所述拋光臺相鄰位置的多個清洗裝置,設置在拋光臺鄰近位置的晶片傳載機構;各所述拋光頭吸持晶片在拋光臺上拋光,各所述拋光頭可移動;所述清洗裝置包含:殼體、間隔設置在殼體上的一排多個噴頭;所述噴頭包含用于向晶片噴水的直噴頭和用于向化學機械拋光設備頂蓋內壁噴水的彎噴頭;所述直噴頭垂直設置在殼體上;各所述噴頭通過水管與外部的進水管連接;通過設置在外部的進水管上的閥門控制,各所述噴頭可同時噴水。?
上述的包含清洗裝置的化學機械拋光設備,其特點是,所述彎噴頭折彎成一鈍角。?
上述的包含清洗裝置的化學機械拋光設備,其特點是,各所述彎噴頭設為出水口方向不同。?
本發明具有以下積極效果:?
本發明由于包含用于向晶片噴水的直噴頭和用于向化學機械拋光設備頂蓋內壁噴水的多個彎噴頭,彎噴頭折彎成一鈍角,并且各個彎噴頭的出水口方向不一致,各噴頭可同時噴水,因此本發明裝置可以向其正上方和周圍斜上方各個方向噴射去離子水,從而可以在清洗移動到本發明正上方的晶片的同時清洗周圍上方的化學機械拋光設備的拋光頭和頂蓋內壁,并使拋光頭和頂蓋內壁保持濕潤狀態,拋光過程中噴濺到頂蓋內壁和拋光頭上的研磨液不會干燥結晶,降低拋光過程中頂蓋內壁上的研磨液結晶掉落劃傷晶片拋光表面的幾率,提高拋光生產的成品率,并且本發明裝置結構簡單,因此使用方便,成本低廉。
附圖說明
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