[發明專利]一種用于化學機械拋光設備的清洗裝置

在審

• 申請號: 201210557495.9
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103878668A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 顧軍;邱麟;劉波
• 申請（專利權）人: 上海華虹宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B55/06
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249
• 代理人: 張靜潔;徐雯瓊

1.一種用于化學機械拋光設備的清洗裝置，包含多個拋光臺（10），拋光臺（10）上方設有多個拋光頭，拋光頭的上方設置有頂蓋，拋光臺（10）的鄰近位置還設置有晶片傳載機構（12），各拋光頭吸持晶片在拋光臺上拋光，各所述拋光頭可移動；其特征在于，所述該清洗裝置包含：殼體（1）、間隔設置在殼體（1）上的一排多個噴頭（2）；所述噴頭（2）包含用于向晶片噴水的直噴頭（21）和用于向化學機械拋光設備頂蓋內壁噴水的彎噴頭（22）；各所述噴頭（2）通過水管與外部的進水管連接。

2.如權利要求1所述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置，其特征在于，所述直噴頭（21）垂直設置在殼體（1）上。

3.如權利要求1所述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置，其特征在于，所述彎噴頭（22）折彎成一鈍角。

4.如權利要求1所述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置，其特征在于，所述彎噴頭（22）優選折彎成一135°鈍角。

5.如權利要求1所述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置，其特征在于，各所述彎噴頭（22）設為出水口方向不同。

6.如權利要求1所述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置，其特征在于，所述該清洗裝置設置在化學機械拋光設備的各拋光臺（10）的相鄰位置。

7.如權利要求1所述的用于化學機械拋光設備的清洗裝置，其特征在于，各所述噴頭（2）通過水管與外部的進水管連接，通過設置在外部的進水管上的閥門控制，各所述噴頭（2）可同時噴水。

8.一種包含清洗裝置的化學機械拋光設備，其特征在于，包含：多個拋光臺（10），設置在拋光臺（10）上方的多個拋光頭，設置在拋光頭上方的頂蓋，設置在所述拋光臺（10）相鄰位置的多個清洗裝置，設置在拋光臺（10）鄰近位置的晶片傳載機構（12）；各所述拋光頭吸持晶片在拋光臺上拋光，各所述拋光頭可移動；所述清洗裝置包含：殼體（1）、間隔設置在殼體（1）上的一排多個噴頭（2）；所述噴頭（2）包含用于向晶片噴水的直噴頭（21）和用于向化學機械拋光設備頂蓋內壁噴水的彎噴頭（22）；所述直噴頭（21）垂直設置在殼體（1）上；各所述噴頭（2）通過水管與外部的進水管連接；通過設置在外部的進水管上的閥門控制，各所述噴頭（2）可同時噴水。

9.如權利要求7所述的包含清洗裝置的化學機械拋光設備，其特征在于，所述彎噴頭（22）折彎成一鈍角。

10.如權利要求7所述的包含清洗裝置的化學機械拋光設備，其特征在于，各所述彎噴頭（22）設為出水口方向不同。