[發(fā)明專利]涂布裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210553594.X
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN103177986A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 富藤幸雄
• 申請（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)屏制造株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明;張洋

1.一種涂布裝置，將處理液涂布于矩形狀的基板的背面，其特征在于包括：

搬送機構(gòu)，以使所述基板的表面相對于水平方向傾斜的狀態(tài)進(jìn)行搬送；

涂布輥，抵接于被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的背面而旋轉(zhuǎn)；

處理液噴出管，在長度方向與所述搬送機構(gòu)的基板搬送方向相交的方向上，并且與被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的背面平行地配設(shè)，而且沿著長度方向排列設(shè)置有多個處理液的噴出口，在被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的下方側(cè)且自所述搬送機構(gòu)的所述基板搬送方向的上游側(cè)，向所述涂布輥的表面噴出處理液；

防附著液噴出單元，對被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的表面，供給防止所述處理液附著于所述基板的表面的防附著液；

處理液回收部，回收自被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的背面流下的所述處理液；

防附著液回收部，回收自被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的表面流下的所述防附著液；以及

處理液引導(dǎo)構(gòu)件，用于將自所述處理液噴出管噴出的所述處理液引導(dǎo)至所述處理液回收部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于：

包括處理液循環(huán)機構(gòu)，將回收至所述處理液回收部的所述處理液再度供給至所述處理液噴出管。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：

所述處理液引導(dǎo)構(gòu)件包括：

第1引導(dǎo)面，相對于所述處理液噴出管在所述搬送機構(gòu)的所述基板搬送方向的上游側(cè)，與所述處理液噴出管平行地延伸；以及

第2引導(dǎo)面，在與所述處理液噴出管的下端部相對向的位置，沿著與所述第1引導(dǎo)面相交的方向延伸。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布裝置，其特征在于：

還包括防附著液引導(dǎo)構(gòu)件，用于將自所述防附著液噴出單元噴出的所述防附著液引導(dǎo)至所述防附著液回收部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布裝置，其特征在于：

所述防附著液引導(dǎo)構(gòu)件相對于所述處理液引導(dǎo)構(gòu)件在所述搬送機構(gòu)的所述基板搬送方向的上游側(cè)，與所述處理液引導(dǎo)構(gòu)件相接近而配置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：

所述處理液噴出管包括相對于所述處理液噴出管的長度方向分割而成的多個存積部，

所述涂布裝置包括處理液供給機構(gòu)，對該多個存積部的各個供給所述處理液。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于包括：

基板位置識別單元，識別被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的前端的位置與后端的位置；以及

涂布控制單元，根據(jù)由所述基板位置識別單元所識別的所述基板的前端的位置與后端的位置，使自所述處理液噴出管向所述涂布輥的表面噴出所述處理液的動作，在被所述搬送機構(gòu)搬送的所述基板的前端抵達(dá)至所述涂布輥之前開始，在被所述基板搬送機構(gòu)搬送的所述基板的后端抵達(dá)至所述涂布輥之前停止。