[發明專利]高透光節能防爆膜的制備工藝及所得防爆膜

有效

• 申請號: 201210549980.1
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN103057211A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 金闖;楊曉明
• 申請（專利權）人: 蘇州斯迪克新材料科技股份有限公司
• 主分類號: B32B15/09
• 分類號: B32B15/09;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/20
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 馬明渡

技術領域

本發明涉及一種高透光節能防爆膜的制備工藝及所得防爆膜，屬于膠粘材料技術領域。

背景技術

磁控濺射鍍膜玻璃自上世紀?80?年代進入國內建?筑玻璃市場以來，已經有?30多年了。國內引進鍍膜玻璃生產線40多條，自主設計、制造小型連續生產線多條。有很多科研院所和鍍膜玻璃設備制造廠家，以及鍍膜玻璃生產一線的技術人員，都從不同層次、不同角度、不同需求，對鍍膜玻璃生產的工藝、技術、控制等等各方面不斷地進行研究和探索。

磁控濺射的工藝原理在充入少量工藝氣體的真空室內，當極間電壓很小時，只有少量離子和電子存在，電流密度在10~15A/cm²數量級，當陰極（靶材）和陽極間電壓增加時，帶電離子在電場的作用下加速運動，能量增加，與電極或中性氣體原子相碰撞，產生更多的帶電離子，直至電流達到10~6A/cm²數量級;當電壓再增加時，則會產?生負阻效應，即雪崩現象。此時離子轟擊陰極，擊出陰極原子和二次電子，二次電子與中性原子碰撞，產生更多離子，此離子再轟擊陰極，又產生二次電子，周而復始。當電流密度達到?0.01A/cm^2?數量級左右時，電?流將隨電壓的增加而增加，形成高密度等離子體的異?常輝光放電，高能量的離子轟擊陰極（靶材）產生濺射?現象。濺射出來的高能量靶材粒子沉積到陽極（玻璃毛坯）上，從而達到鍍膜的目的。

在磁場的作用下，電子在向陽極運動的過程中，作螺旋運動，束縛和延長了電子的運動軌跡，從而提高了電子對工藝氣體的電離幾率，有效地利用了電子?的能量，因而在形成高密度等離子體的異常輝光放電中，正離子對靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效。同時受正交電磁場的束縛，電子只有在其能量消耗殆?盡時才能落玻璃毛坯上，從而使磁控濺射具有高速、低溫的優點。

目前建筑物和一般場所使用的玻璃以及汽車車身上使用的玻璃一般都是單純的玻璃，單純的玻璃雖然具有透光度好，便于觀察外界情況和便于駕駛員觀察道路交通情況以及車內乘坐人員觀察車外的情況，一方面，但玻璃外面的太陽光和其它光線往往會影響玻璃內面人員和汽車駕駛員的眼睛和視覺；另一方面，玻璃外面的陽光會透過玻璃曬熱玻璃內面和汽車內部，使玻璃內面和汽車內部溫度增高，更為嚴重的是當發生意外而導致玻璃破碎時，破碎的玻璃飛散會傷害周邊人員，因此，玻璃后面和汽車內往往安裝布簾，以遮擋陽光和隔熱，目前則采用粘貼塑料薄膜的方法，但是在隔熱性能上本領域技術人員未能給予足夠的重視。?因此，如何提高隔熱效率，又能保證很高的可見光的透過率，以達到既節能又高透明是本領域技術人員努力的方向。同時，在柔性基材（塑料薄膜）磁控濺射生產高透明高隔熱的防爆膜也是本領域技術人員努力的方向

發明內容

本發明目的是提供一種高透光節能防爆膜的制備工藝及所得防爆膜，該防爆膜既有利于將反射和阻隔太陽光線中的紅外線，隔熱效果顯著，又能更好的保護磁控濺射金屬層，防止金屬氧化，提高和保證了產品的性能和使用壽命，從而可適用于要求更高的場所。

為達到上述目的，本發明采用的第一種技術方案是：一種高透光節能防爆膜的制備工藝，包括以下步驟：

步驟一、制備一聚酯薄膜，厚度為15~70μm，所述聚酯薄膜為熱穩定性聚酯薄膜；

步驟二、在步驟一的熱穩定性聚酯薄膜上磁控濺射沉積作為防氧化保護的第一金屬銦層，工藝條件為：采用純度為99.99%的銦（In）的靶材，濺射氣體為99.999%的高純氬氣，腔體內部的真空度為6.1×10^-4Pa，工作壓力設為0.7?Pa，靶材距離固定在75?mm，氬氣的流量為22sccm，銦（In）的濺射功率是40?W，濺射速率分別4.0nm/min，第一金屬銦層厚度為2?nm到15nm；

步驟三、在第一金屬銦層另一表面磁控濺射沉積一隔熱層，此隔熱層金屬銀層或金屬鋁層；工藝條件為：純度為99.99%銀的靶材，濺射氣體為99.999%高純氬氣，腔體內部的真空度為6.1×10^-4Pa，工作壓力設為0.7?Pa，靶材距離固定在75mm，氬氣的流量為22sccm，銀靶材濺射功率是40W，濺射速率為6.4?nm/min，所述隔熱層厚度為10~50nm；?