[發明專利]高透光節能防爆膜的制備工藝及所得防爆膜

有效

• 申請號: 201210549980.1
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN103057211A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 金闖;楊曉明
• 申請（專利權）人: 蘇州斯迪克新材料科技股份有限公司
• 主分類號: B32B15/09
• 分類號: B32B15/09;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/20
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 馬明渡

1.一種高透光節能防爆膜的制備工藝，其特征在于：包括以下步驟：

步驟一、制備一聚酯薄膜，厚度為15~70μm，所述聚酯薄膜為熱穩定性聚酯薄膜；

步驟二、在步驟一的熱穩定性聚酯薄膜上磁控濺射沉積作為防氧化保護的第一金屬銦層，工藝條件為：采用純度為99.99%的銦（In）的靶材，濺射氣體為99.999%的高純氬氣，腔體內部的真空度為6.1×10^-4Pa，工作壓力設為0.7?Pa，靶材距離固定在75?mm，氬氣的流量為22sccm，銦（In）的濺射功率是40?W，濺射速率分別4.0nm/min，第一金屬銦層厚度為2nm~15nm；

步驟三、在第一金屬銦層另一表面磁控濺射沉積一隔熱層，此隔熱層金屬銀層或金屬鋁層；工藝條件為：純度為99.99%銀的靶材，濺射氣體為99.999%高純氬氣，腔體內部的真空度為6.1×10^-4Pa，工作壓力設為0.7?Pa，靶材距離固定在75mm，氬氣的流量為22sccm，銀靶材濺射功率是40W，濺射速率為?6.4?nm/min，所述隔熱層厚度為10~50nm；?

步驟四、然后在步驟三的隔熱層另一表面磁控濺射沉積第二金屬銦層，工藝條件為：銦靶材純度為99.99%，濺射氣體為99.999%的高純氬氣，腔體內部的真空度為6.?1×10^-4Pa，工作壓力設為0.7?Pa，靶材距離固定在75mm，氬氣的流量為22sccm，銦的濺射功率都是40?W，濺射速率分別4.0nm/min，所述第二金屬銦層厚度為5~20nm。

2.根據權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：所述步驟一的熱穩定性聚酯薄膜在150~160℃下進行預熱收縮處理。

3.根據權利要求2所述的制備工藝，其特征在于：其特征在于：所述步驟一和步驟二之間在所述熱穩定性聚酯薄膜上預涂丙烯酸乳液層，此其厚度為0.5~5.0μm。

4.根據權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：在所述步驟四中第二金屬銦層濺射前，先對銦靶材進行5min的預濺射，以除去靶表面殘留的氧化物和污染物。

5.根據權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：其特征在于：所述隔熱層為金屬鋁層，此金屬鋁層厚度為20~50nm。

6.一種根據權利要求1所述高透光節能防爆膜的制備工藝所得的防爆膜，其特征在于：包括一熱穩定性聚酯薄膜層（1），此熱穩定性聚酯薄膜層（1）一表面磁控濺射有第一金屬銦層（2），此第一金屬銦層（2）另一表面磁控濺射有作為隔熱層的金屬銀層（31）或金屬鋁層（32），此金屬銀層（31）或金屬鋁層（32）另一表面磁控濺射有第二金屬銦層（4）；所述第一金屬銦層厚度為2~15nm，所述金屬銀層或金屬鋁層厚度為10~50nm，所述第二金屬銦層5~20nm。

7.根據權利要求6所述的高透高隔熱節能防爆膜，其特征在于：所述熱穩定性聚酯薄膜層磁控濺射前在150~160℃下進行預熱收縮處理。

8.根據權利要求6所述的高透高隔熱節能防爆膜，其特征在于：所述熱穩定性聚酯薄膜層和第一金屬銦層之間涂覆有丙烯酸乳液層。

9.根據權利要求6所述的高透高隔熱節能防爆膜，其特征在于：所述熱穩定性聚酯薄膜層厚度為15~70μm。