[發(fā)明專(zhuān)利]泵系統(tǒng)、二氧化碳供給系統(tǒng)、抽取系統(tǒng)、光刻設(shè)備和器件制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210548141.8
• 申請(qǐng)日: 2012-12-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103176367A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·L·范德蓋格;L·H·范德霍伊維爾;A·H·J·A·馬登斯;F·J·J·范鮑克斯臺(tái)爾
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;F17D1/02
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王靜

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種泵系統(tǒng)、一種二氧化碳供給系統(tǒng)、一種抽取系統(tǒng)、一種光刻設(shè)備和一種器件制造方法。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱(chēng)為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常，圖案的轉(zhuǎn)移是通過(guò)把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進(jìn)行的。通常，單個(gè)的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括：所謂的步進(jìn)機(jī)，在步進(jìn)機(jī)中，通過(guò)將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分；和所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過(guò)輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。也可能通過(guò)將圖案壓印(imprinting)到襯底上的方式從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。

已經(jīng)提出將光刻投影設(shè)備中的襯底浸入到折射率相對(duì)高的液體(例如水)中，以便填充投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的空間。在一實(shí)施例中，液體是蒸餾水，但是可以使用其他液體。本發(fā)明的一實(shí)施例將參考液體進(jìn)行描述。然而，其它流體也可能是適合的，尤其是潤(rùn)濕性流體、不可壓縮的流體和/或具有比空氣折射率高的折射率的流體，期望是具有比水的折射率高的折射率的流體。不包括氣體的流體是尤其希望的。由此可以得出，能夠?qū)崿F(xiàn)更小特征的成像，因?yàn)樵谝后w中曝光輻射將會(huì)具有更短的波長(zhǎng)。(液體的作用也可以被看成提高系統(tǒng)的有效數(shù)值孔徑(NA)，并且也增加焦深)。還已經(jīng)提出了其他浸沒(méi)液體，包括其中懸浮有固體顆粒(例如石英)的水，或具有納米懸浮顆粒(例如具有最大尺寸達(dá)10nm的顆粒)的液體。這種懸浮的顆粒可以具有或不具有與它們懸浮所在的液體相似或相同的折射率。其他可能合適的液體包括烴，例如芳香烴、氟化烴和/或水溶液。

將襯底或襯底與襯底臺(tái)浸入液體浴器(參見(jiàn)，例如美國(guó)專(zhuān)利No.US4,509,852)意味著在掃描曝光過(guò)程中必須加速大體積的液體。這需要額外的或更大功率的電動(dòng)機(jī)，而液體中的湍流可能會(huì)導(dǎo)致不希望的或不能預(yù)期的效果。

在浸沒(méi)設(shè)備中，浸沒(méi)流體由流體處理系統(tǒng)、器件結(jié)構(gòu)或設(shè)備來(lái)處理。在一實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可以供給浸沒(méi)流體，因此是流體供給系統(tǒng)。在一實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可以至少部分地限定浸沒(méi)流體，因而是流體限制系統(tǒng)。在一實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可以提供針對(duì)浸沒(méi)流體的阻擋，因而是阻擋構(gòu)件，諸如流體限制結(jié)構(gòu)。在一實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可以產(chǎn)生或者使用氣流，例如幫助控制浸沒(méi)流體的流動(dòng)和/或位置。氣流可以形成密封以限制浸沒(méi)流體，使得流體處理結(jié)構(gòu)可以被稱(chēng)為密封構(gòu)件；這種密封構(gòu)件可以是流體限制結(jié)構(gòu)。在一實(shí)施例中，浸沒(méi)液體用作浸沒(méi)流體。在那種情況下，流體處理系統(tǒng)可以是液體處理系統(tǒng)。參考以上描述，在該段落中針對(duì)相對(duì)于流體限定的特征的引用可以理解為包括相對(duì)于液體限定的特征。

發(fā)明內(nèi)容

如果浸沒(méi)液體被通過(guò)流體處理系統(tǒng)限定至投影系統(tǒng)下面的表面上的局部區(qū)域，則彎液面可以在流體處理系統(tǒng)和所述表面之間延伸。如果彎液面與所述表面上的液滴碰撞，則這可能導(dǎo)致浸沒(méi)液體中包含氣泡。所述液滴可以因?yàn)槎喾N原因而存在于所述表面上，該原因包括因?yàn)閺牧黧w處理系統(tǒng)的泄漏。浸沒(méi)液體中的氣泡可能導(dǎo)致成像誤差，例如通過(guò)與在襯底的成像過(guò)程中干擾投影束而導(dǎo)致成像誤差。

為了解決該問(wèn)題，可以在彎液面的徑向向外的位置處提供二氧化碳。然而，二氧化碳超過(guò)一定濃度可能導(dǎo)致窒息，因此其是有害的，例如對(duì)于人體是有害的。

期望例如提供用于安全處理二氧化碳的一個(gè)或更多個(gè)部件。

根據(jù)一個(gè)方面，提供了一種抽取系統(tǒng)，包括：泵，用于將氣體沿著管道泵送至止回閥，所述止回閥配置成在上游壓強(qiáng)高于一定的幅值時(shí)打開(kāi)；壓強(qiáng)傳感器，用于生成指示在泵和止回閥之間的氣壓的信號(hào)；和控制器，所述控制器配置成在來(lái)自壓強(qiáng)傳感器的信號(hào)指示在泵和止回閥之間的氣壓低于一定的幅值的情況下生成停止信號(hào)。

根據(jù)一個(gè)方面，提供了一種用于光刻設(shè)備的抽取系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：用于氣流的管道；所述管道中的止回閥，所述止回閥配置用于在上游壓強(qiáng)高于一定的幅值的情況下打開(kāi)；泵，所述泵配置用于將氣流沿著管道泵送至止回閥；位于止回閥下游的連接器，所述連接器配置成將管道流體連接至外部負(fù)壓源以接收來(lái)自管道的氣流，所述連接器配置成形成與外部負(fù)壓源的連接，所述外部負(fù)壓源與周?chē)臍怏w環(huán)境流體連接。