[發明專利]泵系統、二氧化碳供給系統、抽取系統、光刻設備和器件制造方法

有效

• 申請號: 201210548141.8
• 申請日: 2012-12-17
• 公開（公告）號: CN103176367A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: M·L·范德蓋格;L·H·范德霍伊維爾;A·H·J·A·馬登斯;F·J·J·范鮑克斯臺爾
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F17D1/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

1.一種二氧化碳供給系統，用于將二氧化碳從源供給至裝置，所述二氧化碳供給系統包括：

供給管線，用于二氧化碳從源流至所述裝置；

供給管線中的閥，所述閥具有打開位置和關閉位置，其中在打開位置中，氣體能夠沿著供給管線流動，在關閉位置中，氣體沿著供給管線的流動被阻斷；和

控制系統，所述控制系統包括：

在供給管線中的第一開關，所述第一開關用于在供給管線中的氣體的第一流量或壓強下切換，和

在供給管線中的第二開關，所述第二開關用于在供給管線中的氣體的第二流量或壓強下切換，

其中控制系統配置成在以下情況(i)或(ii)下將閥從打開位置移動至關閉位置：

(i)來自第一開關的信號指示在供給管線中的氣體流量高于第一流量或壓強高于第一壓強；或

(ii)來自第二開關的信號指示在供給管線中的氣體流量低于第二流量或壓強低于第二壓強。

2.根據權利要求1所述的二氧化碳供給系統，其中所述閥是常閉閥。

3.根據權利要求1或2所述的二氧化碳供給系統，其中第一開關、第二開關或第一開關和第二開關兩者，在一定的壓強下切換。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的二氧化碳供給系統，還包括在供給管線中的質量流控制器。

5.根據權利要求4所述的二氧化碳供給系統，其中所述控制系統被配置成在以下情況(i)或(ii)下切斷質量流控制器：

(i)來自第一開關的信號指示在供給管線中的氣體流量高于第一流量或壓強高于第一壓強；或

(ii)來自第二開關的信號指示在供給管線中的氣體流量低于第二流量或壓強低于第二壓強。

6.一種光刻設備，包括：

流體處理系統，用于將液體提供至投影系統的最終元件和正對表面之間的空間，且具有用于在所述空間中的液體的彎液面的徑向向外位置處供給氣流的第一氣體出口；

第二氣體出口，所述第二氣體出口位于所述第一氣體出口的徑向向外的位置處，用于將經過溫度調整的氣流供給至物體上；和

控制系統，所述控制系統包括用于檢測在第二氣體出口處或第二氣體出口上游的流量和/或壓強的傳感器，所述控制系統配置成在來自傳感器的信號指示在第二氣體出口處或第二氣體出口上游的流量和/或壓強低于一定的幅值的情況下停止在液體的彎液面的徑向向外位置處的氣流的供給。

7.根據權利要求6所述的光刻設備，其中傳感器是壓強開關或流量開關，所述壓強開關或流量開關在第二氣體出口處或第二氣體出口上游的一定的氣體壓強或流量下切換。

8.根據權利要求6或7所述的光刻設備，其中流體處理系統還包括位于第一氣體出口的徑向向外位置處的收集器開口。

9.根據權利要求8所述的光刻設備，還包括位于收集器開口下游的傳感器，其中控制系統配置成在來自傳感器的信號指示收集器開口下游的流量和/或壓強處于一定的范圍之外的情況下停止液體的彎液面的徑向向外位置處的氣流。

10.一種光刻設備，包括：

體積空間，二氧化碳被從二氧化碳供給裝置供給至所述體積空間；和

控制系統，所述控制系統包括用于檢測對所述體積空間的試圖獲得的進出和/或不正確的封閉的傳感器，所述控制系統配置成在來自傳感器的信號指示對所述體積空間的試圖獲得的進出和/或不正確的封閉的情況下停止二氧化碳至體積空間的供給。

11.根據權利要求10所述的光刻設備，其中所述體積空間由壁界定，且其中傳感器被定位成檢測壁的一部分的移動。

12.一種光刻設備和一種二氧化碳供給系統，其中：

所述光刻設備是根據權利要求6-11中任一項所述的光刻設備，且二氧化碳供給系統是根據權利要求1-5中任一項所述的二氧化碳供給系統。

13.一種抽取系統，包括：

泵，用于將氣體沿著管道泵送至止回閥，所述止回閥配置成在上游壓強高于一定的幅值時打開；

壓強傳感器，用于生成指示在泵和止回閥之間的氣壓的信號；和

控制器，所述控制器配置成在來自壓強傳感器的信號指示在泵和止回閥之間的氣壓低于一定的幅值的情況下生成停止信號。