[發(fā)明專利]脊型光波導的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210547273.9 | 申請日： | 2012-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN103869415A | 公開（公告）日： | 2014-06-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 黃新舜 | 申請（專利權(quán)）人： | 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B6/13 | 分類號： | G02B6/13 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 脊型光 波導 制造 方法 | ||
1.一種脊型光波導的制造方法，其包括以下步驟：
提供一個基底；
在該基底上鍍一個蝕刻阻抗層；
將設置有該蝕刻阻抗層的基底浸入第一種蝕刻液中進行濕式蝕刻形成一個脊型結(jié)構(gòu)；
去掉該蝕刻阻抗層；
在該脊型結(jié)構(gòu)上鍍一個鈦金屬層；及
對該鈦金屬層進行高溫擴散，使該鈦金屬層擴散到脊型結(jié)構(gòu)內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該基底的材料采用鈮酸鋰晶體。
3.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該基底呈矩形，該蝕刻阻抗層鍍設于該基底的頂面上。
4.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該第一種蝕刻液為氫氟酸。
5.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該蝕刻阻抗層采用鉻金屬。
6.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，將蝕刻阻抗層浸入第二種蝕刻液中以去掉該蝕刻阻抗層。
7.如權(quán)利要求6所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該第二種蝕刻液為含有硝酸的鉻蝕刻液。
8.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該鈦金屬層的寬度小于該脊型結(jié)構(gòu)的寬度。
9.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，該基底的蝕刻時間為4小時。
10.如權(quán)利要求1所述的脊型光波導的制造方法，其特征在于，去掉該蝕刻阻抗層所用的時間為10~20分鐘。
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