[發明專利]形成發光裝置的制造方法及其所制成的發光裝置

有效

• 申請號: 201210545472.6
• 申請日: 2012-12-14
• 公開（公告）號: CN103872206B
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 吳佳裕;蘇慶章;曾俊龍;沈慶興
• 申請（專利權）人: 晶元光電股份有限公司
• 主分類號: H01L33/44
• 分類號: H01L33/44;H01L33/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種發光裝置，包含:

基板；

發光結構，形成于該基板上，具有第一區域及第二區域；

障壁層，形成于該第一區域上，該障壁層具有一下表面及一側壁；以及

透明導電層，形成在該障壁層的該側壁以及該發光結構的該第二區域；

其中，該側壁與該下表面的夾角介于10°-70°；

其中，該障壁層的該側壁上的該透明導電層的厚度為t1，該發光結構的該第二區域上的該透明導電層的厚度為t2，其中t1與t2的差值與t1的比值不大于10％。

2.如權利要求1所述的發光裝置，其中，該障壁層的厚度大于且小于

3.如權利要求1所述的發光裝置，還包含一第一電極，形成于該透明導電層對應該障壁層的位置上，其中，該第一電極與該障壁層具有大致相同的形狀。

4.如權利要求3所述的發光裝置，其中，該第一電極包含第一電極墊及延伸電極；該發光裝置還包含第二電極，其中該第二電極包含第二電極墊；該延伸電極自該第一電極墊往第二電極墊的方向延伸。

5.如權利要求1所述的發光裝置，還包含電極，形成于該透明導電層上；其中該電極包含電極墊及延伸電極；其中，該發光裝置包含四側邊；以及其中，該障壁層包含電極區域對應于該電極的位置、及延伸區域自該電極區域向該四側邊延伸。

6.如權利要求1所述的發光裝置，該障壁層包含一絕緣材料且具有一電阻率大于10¹⁴Ω·cm。

7.如權利要求1所述的發光裝置，其中，該基板具有一傾斜側壁。

8.如權利要求7所述的發光裝置，其中，該傾斜側壁具有一粗糙表面。