[發明專利]一種用溶媒法制備哌拉西林鈉的工藝無效
| 申請號: | 201210543895.4 | 申請日: | 2012-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN102977119A | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發明(設計)人: | 柴建華;劉亞林;許蓓珍 | 申請(專利權)人: | 江西富祥藥業股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D499/68 | 分類號: | C07D499/68;C07D499/16 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100 | 代理人: | 劉曉春 |
| 地址: | 333000 江西省景德鎮市*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 溶媒 法制 備哌拉 西林 工藝 | ||
1.溶媒法制備哌拉西林鈉的工藝,其特征在于它包括以下步驟:將甲醇鈉溶于無水有機溶劑中;將哌拉西林溶于無水丙酮并在惰性氣體保護下降溫到0~5℃,滴加甲醇鈉溶液,控制溫度0~5℃,滴加結束,在攪拌下自然回溫到12~18℃,保溫至反應結束;采用惰性氣體對反應后的產物壓濾,濾餅于60~70℃下減壓干燥,用惰性氣體排空后出料,制得符合中國藥典(CP2010)的哌拉西林鈉。
2.按照權利要求1所述的溶媒法制備哌拉西林鈉的工藝,其特征在于有機溶劑為無水乙醇,后處理使用氮氣壓濾。
3.根據權利要求1所述的溶媒法制備哌拉西林鈉的工藝,其特征在于有機溶劑為無水乙醇,無水甲醇,無水乙腈,無水異丙醇。
4.根據權利要求1所述溶媒法制備哌拉西林鈉的工藝,其特征在于反應過程中用保護的惰性氣體為:氮氣、氦氣、氬氣。
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C07D 雜環化合物
C07D499-00 雜環化合物,含有4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷環系,即含有下式環系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;這類環系進一步稠合,例如與含氧、含氮或含硫雜環2,3-稠合
C07D499-04 .制備
C07D499-21 .有氮原子直接連在位置6和3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-86 .只有1個除氮原子外的原子直接連在位置6,3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3連有除僅兩個甲基外的取代基,并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之間有雙鍵并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基和氰基,直接連在位置2的化合物





