[發(fā)明專利]一種曝光機對位方法及控制設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210541365.6
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN103034071A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張鵬飛;徐先華;張力舟;張磊;吳琪;賈富強;劉志
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G03F1/42
• 代理公司: 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種曝光機對位方法，其特征在于，包括：

移動承載光罩的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作；

確定未實現(xiàn)光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)時，移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作之前，包括：

將所述基板的對位標(biāo)記拆分為一個以上的子對位標(biāo)記。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，將所述基板的對位標(biāo)記拆分為一個以上的子對位標(biāo)記，具體包括：

以所述基板的對位標(biāo)記的對稱中心為坐標(biāo)原點，以橫坐標(biāo)軸和縱坐標(biāo)軸為分割線，將所述基板的對位標(biāo)記劃分為4個子對位標(biāo)記。

4.如權(quán)利要求2或3所述的方法，其特征在于，進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，具體包括：

在視野范圍內(nèi)依次搜索各子對位標(biāo)記，在確定搜索到至少一個所述子對位標(biāo)記后，移動承載光罩的基臺或承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與搜索到的所述子對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，移動承載光罩的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，若確定未實現(xiàn)光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)時，再次移動承載光罩的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，直至移動光罩的對位標(biāo)記達到第一設(shè)定次數(shù)為止。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，若確定未實現(xiàn)光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)時，再次移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，直至移動承載基板的基臺達到第二設(shè)定次數(shù)為止。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一設(shè)定次數(shù)為5次，所述第二設(shè)定次數(shù)為15次。

8.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，具體包括：

移動承載基板的基臺使基板的對位標(biāo)記沿視野平面的橫坐標(biāo)軸方向移動預(yù)定幅度，進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作；和/或，

移動承載基板的基臺使基板的對位標(biāo)記沿視野平面的縱坐標(biāo)軸方向移動預(yù)定幅度，進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，所述預(yù)定幅度小于等于400微米。

9.一種曝光機對位控制設(shè)備，其特征在于，包括：

第一控制模塊，用于控制移動承載光罩的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作；

第二控制模塊，用于確定未實現(xiàn)光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)時，控制移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作。

10.如權(quán)利要求9所述的控制設(shè)備，其特征在于，還包括預(yù)處理模塊，用于將基板的對位標(biāo)記拆分為一個以上的子對位標(biāo)記。

11.如權(quán)利要求10所述的控制設(shè)備，其特征在于，所述第一控制模塊或所述第二控制模塊具體用于：在視野范圍內(nèi)依次搜索各子對位標(biāo)記，在確定搜索到至少一個所述子對位標(biāo)記后，控制移動承載光罩的基臺或承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與搜索到的所述子對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作。

12.如權(quán)利要求11所述的控制設(shè)備，其特征在于，所述第一控制模塊具體用于：控制移動承載光罩的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，若確定未實現(xiàn)光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)時，再次控制移動承載光罩的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，直至控制移動承載光罩的基臺達到第一設(shè)定次數(shù)為止。

13.如權(quán)利要求12所述的控制設(shè)備，其特征在于，所述第二控制模塊具體用于：控制移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，若確定未實現(xiàn)光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)時，再次控制移動承載基板的基臺進行光罩的對位標(biāo)記與基板的對位標(biāo)記的對準(zhǔn)操作，直至控制移動承載基板的基臺達到第二設(shè)定次數(shù)為止。