[發(fā)明專利]斷層掃描量測系統(tǒng)的校正方法及校正設備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210538226.8
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN103868452A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設計）人: 林世長;劉旭智;王裕民
• 申請（專利權）人: 富士康（昆山）電腦接插件有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

【技術領域】

本發(fā)明涉及一種斷層掃描量測系統(tǒng)的校正方法，尤其涉及一種利用一治具之斷層掃描系統(tǒng)的校正方法及設備。

【背景技術】

目前針對斷層掃描量測系統(tǒng)，如CT(X光計算機斷層掃描)或AXI(X光自動檢測系統(tǒng))業(yè)界沒有很好的校正所述設備的方法，如此會導致需要量測的物品存在大誤差。

因此，確有必要提出一種能精準校正斷層掃描量測系統(tǒng)的方法以克服上述困難。

【發(fā)明內容】

本發(fā)明的目的在于提供一種利用金屬的圓臺之直徑與高度呈線性比例的關系來校正斷層掃描量測系統(tǒng)的方法。

為解決上述技術問題，本發(fā)明的目的是通過以下技術方案實現(xiàn)的：一種斷層掃描量測系統(tǒng)的校正方法，包括以下步驟：第一步：提供一量測系統(tǒng)，所述量測系統(tǒng)為CT或AXI量測系統(tǒng)；第二步：提供一金屬的圓臺，所述圓臺的上端面直徑d、下端面直徑D及圓臺的高度H為已知；第三步：利用CT或AXI量測系統(tǒng)通過斷層掃描測出所述圓臺其它部位截圓的直徑d’；第四步：根據(jù)圓臺的直徑與高度呈線性的比例關系，所述量測系統(tǒng)設定有∮d’=（∮D+∮d）×h/H的計算程序，通過所述程序計算出截圓直徑為d’處所對應的高度h；第五步：進一步掃描出多處截圓直徑，并計算出該等截圓處對應的圓臺的高度，確認所述斷層掃描量測系統(tǒng)的線性值。

為解決上述技術問題，本發(fā)明的目的是通過以下技術方案實現(xiàn)的：一種校正設備，所述校正設備包括：斷層掃描量測系統(tǒng)及金屬的圓臺，所述圓臺的上端面直徑為d、下端面直徑為D、高度為H，所述圓臺用于校正斷層掃描量測系統(tǒng)，斷層掃描量測系統(tǒng)掃描圓臺上端面與下端面之間的截圓直徑d’，利用圓臺的直徑與高度呈線性的比例關系，所述斷層掃描量測系統(tǒng)通過設置∮d’=（∮D+∮d）×h/H的線性計算程序確認該斷層掃描量測系統(tǒng)的線性值。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明具有以下有益效果：利用金屬的圓臺的直徑和高度呈線性的比例關系，通過對所述圓臺多組截圓直徑的掃描并計算每組截圓對應的高度，計算出所述斷層掃描量測系統(tǒng)的線性值，通過確定系統(tǒng)的線性值，使得斷層掃描量測系統(tǒng)的量取精度更精準。

【附圖說明】

圖1為本發(fā)明圓臺的正視圖。

圖2為本發(fā)明圓臺的俯視圖。

【具體實施方式】

本發(fā)明斷層掃描量測系統(tǒng)的校正方法所需設備包括，一斷層掃描量測系統(tǒng)(未圖示)，所述斷層掃描量測系統(tǒng)為CT或者AXI量測系統(tǒng)；一校正治具，參閱圖1，所述校正治具為一金屬的圓臺(100)，所述圓臺(100)在豎直方向的截面形狀為等腰梯形。

參閱圖1并結合圖2所示，所述斷層掃描量測系統(tǒng)的校正方法包括以下步驟：第一步，提供一量測系統(tǒng)(CT或AXI量測系統(tǒng))；第二步，提供一金屬的圓臺(100)，所述圓臺具有上端面及下端面，其中上端面直徑d、下端面直徑D及圓臺的總的高度H為已知；第三步，利用CT或AXI量測系統(tǒng)通過斷層掃描測出所述圓臺其它部位的直徑，即圓臺（100）上端面與下端面之間的截圓直徑，如圖1標示出來的截圓直徑d’；根據(jù)圓臺(100)的直徑與高度呈線性的比例關系的特性，針對所述量測系統(tǒng)設定出∮d’=（∮D+∮d）×h/H的計算程序，通過所述程序計算出上述截圓直徑為d’處所對應的高度h；第五步，進一步掃描出多處截圓直徑，并計算出該等截圓處對應的高度，確認所述斷層掃描量測系統(tǒng)的線性值。所述斷層掃描量測系統(tǒng)還設定有一線性值計算程序，量測系統(tǒng)通過把各處截圓的直徑及計算得出的該處截圓對應的高度值返饋給線性值計算程序，從而計算出線性值，藉此，達到校正斷層掃描量測系統(tǒng)的目的。

為了使得所述斷層掃描量測系統(tǒng)能夠精確掃描，首先需要對所述金屬的圓臺(100)進行對焦以確定該圓臺的實際尺寸與系統(tǒng)呈像的大小一致，為了精確的調節(jié)好焦距，所述圓臺(100)的中心處設置有貫穿上端面及下端面的貫穿孔，所述貫穿孔的直徑為d1，本創(chuàng)作中，所述貫穿孔的直徑d1設置3mm-5mm之間，由于設置了貫穿孔，圓臺(100)在呈像時，所述貫穿孔處與其它部位所呈像存在明顯的色差，如此，通過貫穿孔的尺寸，可以迅速的校準圓臺的尺寸，為后續(xù)的斷層掃描的精確奠定基礎。

本發(fā)明的校正治具金屬的圓臺(100)設置為不銹鋼材質，因為不銹鋼在斷層掃描的時候可以保證清晰地呈像。本創(chuàng)作主要特征在于設置一金屬的圓臺，斷層掃描系統(tǒng)利用所述圓臺的線性比例關系，斷層掃描系統(tǒng)設置相應的程序，通過掃描圓臺計算系統(tǒng)的線性值，操作步驟可以適當調整，同時，治具可以設置為其它具有線性關系的幾何形狀，然而熟悉本領域的技術人員仍可能基于本發(fā)明的教示及揭示進行種種不背離本發(fā)明精神的替換和修飾。因此，本發(fā)明的保護范圍應不僅限于實施方式所揭示的內容，而包括各種不背離本發(fā)明的替換和修飾，均為本專利申請權利要求所涵蓋。