[發明專利]基板與掩模貼合夾持裝置

在審

• 申請號: 201210537468.5
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN103849833A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 杜陳忠;梁沐旺;江源遠
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

技術領域

本發明涉及一種基板與掩模貼合夾持裝置，特別是一種機械式基板與掩模貼合夾持裝置。

背景技術

傳統氣相沉積工藝中，利用磁吸力將基板固定于掩模上，然后再對基板鍍膜。然而，若在物理氣相沉積(Physical?vapor?deposition，PVD)或等離子體輔助化學氣相沉積(Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition，PECVD)中，這種磁性吸附方式容易影響工藝中的等離子體場，而造成基板鍍膜均勻性不佳的問題。

發明內容

本發明提出一種基板與掩模對位夾持裝置，其是一機械式夾持裝置，并不會影響工藝中的等離子體場分布。

根據本發明的一實施例，提出一種基板與掩模貼合夾持裝置。基板與掩模貼合夾持裝置包括一推動組件、一上部夾爪機構及一下部夾爪機構。上部夾爪機構包括一第一往復運動組件及一第二往復運動組件。第一往復運動組件包括一第一斜面及一擺動件。第二往復運動組件包括一第二斜面及一滑動面。下部夾爪機構包括一下部夾爪固定座及一夾爪。夾爪可動地裝設于下部夾爪固定座。其中，在推動組件沿第一方向運動的過程中，推動組件與第一斜面進行斜面運動進而帶動第一往復運動組件沿第二方向運動，且推動組件帶動第二斜面與該擺動件進行斜面運動，進而使該擺動件帶動該夾爪沿與該第一方向反向的第三方向運動，且該推動組件帶動該滑動面與該下部夾爪機構相互產生相對運動，進而帶動該夾爪沿第四方向運動，其中該第一方向、該第二方向及該第四方向實質上彼此互相垂直。

附圖說明

圖1描繪了依照本發明一實施例的基板與掩模貼合夾持裝置的外觀圖；

圖2描繪了圖1的基板被夾持于掩模組件的外觀圖；

圖3描繪了圖1的下部夾爪機構進入上部夾爪機構內的示意圖；

圖4描繪了圖1的上部夾爪機構的外觀圖；

圖5描繪了圖1的下部夾爪機構的外觀圖；

圖6描繪了圖3的下部夾爪機構及上部夾爪機構的局部放大圖；

圖7描繪了圖6中第一往復運動組件沿第二方向運動的示意圖；

圖8描繪了圖4的第二往復運動組件的外觀圖；

圖9描繪了圖7的推動組件驅動第二往復運動組件進行斜面運動的示意圖；

圖10描繪了往圖9中往-X軸向看去的側視圖；

圖11描繪了圖10的推動組件推動夾爪沿第四方向運動的示意圖。

【主要元件符號說明】

100：基板與掩模貼合夾持裝置

101：卡合孔

110：傳輸機構

120：靜電吸盤

130：掩模組件

131：框架

131u、170s1：非鍍膜面

132：掩模

133：下部夾爪機構

1331：下部夾爪固定座

1332：夾爪

1333：圓柱結構

1334：突出結構

1335：夾持端

1336：尾端

1337：可動件

1338：第三彈性件

1339：第四彈性件

134：穿孔

140：頂起元件

141：突出部

150：上部夾爪機構

151：第一往復運動組件

151s1：第一斜面

151s2：表面

1512：擺動件

1513：L型桿

1514：第一突起結構

1515：第二突起結構

1511：水平滑動件

152：第二往復運動組件

152s1：第二斜面

152s2：滑動面

1521：主板

1521b：下表面

1522：第一突塊

1523：第二突塊

1524：開孔

153：上部本體

1531：固定柱

1532：底盤

154：第一彈性件

155：第二彈性件

160：推動組件

161：第一推動件

162：第二推動件

170：基板

170s2：鍍膜面

A1：銳角

A2：鈍角

S1、S2、S3：距離

具體實施方式