[發(fā)明專(zhuān)利]液體噴出頭的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210532378.7
• 申請(qǐng)日: 2012-12-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103158359A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岡野明彥;鈴木工;沖仲元毅
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B41J2/16
• 分類(lèi)號(hào): B41J2/16
• 代理公司: 北京魏?jiǎn)W(xué)律師事務(wù)所 11398
• 代理人: 魏?jiǎn)W(xué)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液體噴出頭的制造方法。

背景技術(shù)

通常，應(yīng)用于通過(guò)噴出記錄液如墨而進(jìn)行記錄的噴墨記錄系統(tǒng)(液體噴出記錄系統(tǒng))的噴墨頭具有如下結(jié)構(gòu)。設(shè)置有墨流路、配置在部分墨流路的用于噴出墨滴的能量產(chǎn)生元件和通過(guò)能量產(chǎn)生元件的能量噴出墨流路中的墨的微細(xì)墨噴出口。

作為噴墨頭的制造方法，例如，如下方法公開(kāi)于日本專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)2006-168345。由感光性材料制成的層形成于其上配置有能量產(chǎn)生元件的基板上，曝光流路圖案作為所述層上的圖案。接下來(lái)，將平坦的無(wú)機(jī)基板粘貼在該層上。在將噴出口形成在無(wú)機(jī)基板中之后，將流路圖案顯影，從而形成流路，由此制造液體噴出頭。該方法也稱(chēng)為鑄塑法(casting?process)。從除去的容易性的觀點(diǎn)，使用正型光致抗蝕劑(positive?photoresist)作為該方法中的感光性材料。此外，根據(jù)該方法，應(yīng)用在半導(dǎo)體領(lǐng)域中使用的光刻法，從而能夠高精度地進(jìn)行微細(xì)加工來(lái)形成流路。

近年來(lái)，已需要更高的圖像品質(zhì)和更高的記錄速度。于是，需要高密度地配置噴出口和與噴出口相連通的流路，并保持要噴出的液滴體積的均一化。

另一方面，美國(guó)專(zhuān)利6,716,767公開(kāi)了一種方法，在該方法中，將用于平坦化的各種材料置于其上已形成有各種圖案的基板上，并使其與平坦的物體相接觸以使表面平坦化。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案，提供液體噴出頭的制造方法，所述液體噴出頭包括具有能量產(chǎn)生元件的基板以及壁構(gòu)件，所述壁構(gòu)件與所述基板接合以形成噴出液體的噴出口和與所述噴出口相連通的流路，所述方法以如下順序包括以下步驟：(B)在所述基板上形成用于形成所述流路的流路圖案形成體(flowpath?pattern?form)；(C)在所述流路圖案形成體的周?chē)纬捎糜谛纬伤霰跇?gòu)件的覆蓋樹(shù)脂層；和(D)以與所述基板的表面形狀的圖案對(duì)應(yīng)的方式將所述基板的表面形狀轉(zhuǎn)印至所述覆蓋樹(shù)脂層的表面。

另外，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案，提供一種結(jié)構(gòu)體的制造方法，所述結(jié)構(gòu)圖包括在基板上的樹(shù)脂成型物，所述方法以如下順序包括以下步驟：在所述基板上形成用于形成所述樹(shù)脂成型物的樹(shù)脂層；和以與所述基板的表面形狀的圖案對(duì)應(yīng)的方式將所述基板的表面形狀轉(zhuǎn)印至所述樹(shù)脂層的表面。

參考附圖從以下示例性實(shí)施方案的描述中，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征將變得顯而易見(jiàn)。

附圖說(shuō)明

圖1為說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的方法制造的液體噴出頭的實(shí)例的示意性透視圖。

圖2為通過(guò)日本專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)2006-168345和美國(guó)專(zhuān)利6,716,767中所記載的方法制造的液體噴出頭的示意性截面圖。

圖3A、3B、3C、3D、3E、3F、3G和3H為說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的液體噴出頭的制造方法的實(shí)例的示意性截面圖。

圖4為說(shuō)明通過(guò)根據(jù)本發(fā)明的方法制造的液體噴出頭的實(shí)例的示意性截面圖。

圖5A、5B、5C、5D、5E、5F、5G、5H、5I和5J為說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的液體噴出頭的制造方法的另一實(shí)例的示意性截面圖。

具體實(shí)施方式

為了使噴墨頭能夠?qū)崿F(xiàn)更高的圖像品質(zhì)，需要保持要噴出的墨滴的體積均一。要噴出的墨滴的體積顯著受到能量產(chǎn)生元件和噴出口之間的距離的影響。因此，隨著基板上的能量產(chǎn)生元件與對(duì)應(yīng)的噴出口之間距離的離散度(dispersion)越小，從各噴出口噴出墨滴的體積便越均一。

在日本專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)2006-168345所記載的方法中，當(dāng)將美國(guó)專(zhuān)利6,716,767的方法應(yīng)用到無(wú)機(jī)基板1以進(jìn)一步使無(wú)機(jī)基板的表面平坦化時(shí)，如圖2所示，無(wú)機(jī)基板1的表面變得高精度地平坦化。然而，由硅制成的基板2的厚度通常變化，以致在基板2的表面上產(chǎn)生各種大小和高度的形狀的凹凸。由于該凹凸，即使無(wú)機(jī)基板1的表面平坦，配置在基板2上的能量產(chǎn)生元件3在基板2的表面上的高度也會(huì)變化。因此，能量產(chǎn)生元件3和對(duì)應(yīng)的噴出口4之間的距離H1在基板2的平面內(nèi)各自變化。因此，從各噴出口噴出的墨滴的體積變得不均一，并進(jìn)一步使打印品質(zhì)劣化。

此外，在圖2中，能量產(chǎn)生元件3和流路頂部(ceiling?portion)之間的距離H2也會(huì)變化。特別地，關(guān)于其中存在于能量產(chǎn)生元件3上方(噴出口4側(cè))的所有液體均噴出的系統(tǒng)，距離H2顯著影響墨滴體積。因此，當(dāng)距離H2變化時(shí)，墨滴體積的離散度傾向于變大。

鑒于上述問(wèn)題已進(jìn)行本發(fā)明，并且本發(fā)明的目的在于制造能夠噴出具有均一液體體積的液滴的液體噴出頭。