[發(fā)明專(zhuān)利]轉(zhuǎn)印裝置及轉(zhuǎn)印方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210528499.4
• 申請(qǐng)日: 2012-12-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103358674A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 谷口和隆;川越理史
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B41F16/00
• 分類(lèi)號(hào): B41F16/00;B41F33/00;B41M5/382
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;郭曉東

1.一種轉(zhuǎn)印裝置，將作為被轉(zhuǎn)印物的圖案或薄膜轉(zhuǎn)印到基板上，其特征在于，

具有：

保持單元，其在使擔(dān)載體和所述基板彼此分離并且使所述擔(dān)載體的一個(gè)表面與所述基板相向的狀態(tài)下，保持所述擔(dān)載體和所述基板，在所述擔(dān)載體的所述一個(gè)表面上擔(dān)載應(yīng)轉(zhuǎn)印到所述基板上的所述被轉(zhuǎn)印物及規(guī)定的定位標(biāo)記，

拍攝單元，其從所述擔(dān)載體的與所述一個(gè)表面相反的表面一側(cè)，經(jīng)由所述擔(dān)載體對(duì)所述定位標(biāo)記進(jìn)行拍攝，

圖像處理單元，其通過(guò)圖像處理來(lái)從所述拍攝單元所拍攝的圖像中檢測(cè)出所述定位標(biāo)記，

定位單元，其基于檢測(cè)出的所述定位標(biāo)記來(lái)調(diào)整所述基板和所述擔(dān)載體之間的相對(duì)位置；

所述拍攝單元具有用于對(duì)焦到所述定位標(biāo)記上的焦點(diǎn)調(diào)整機(jī)構(gòu)，該焦點(diǎn)調(diào)整機(jī)構(gòu)基于由所述圖像處理單元實(shí)施了對(duì)比度增強(qiáng)處理的所述定位標(biāo)記的圖像來(lái)進(jìn)行對(duì)焦。

2.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印裝置，其特征在于，所述圖像處理單元對(duì)所述定位標(biāo)記的圖像進(jìn)行的所述對(duì)比度增強(qiáng)處理，包括提取與所述定位標(biāo)記的形狀相對(duì)應(yīng)的空間頻率成分的濾波處理。

3.如權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)印裝置，其特征在于，所述圖像處理單元通過(guò)對(duì)所述濾波處理后的所述定位標(biāo)記的圖像數(shù)據(jù)乘以大于1的系數(shù)來(lái)增強(qiáng)對(duì)比度。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印裝置，其特征在于，

所述焦點(diǎn)調(diào)整機(jī)構(gòu)分多個(gè)階段變更設(shè)定所述拍攝單元的焦點(diǎn)位置，并且在每個(gè)階段由所述拍攝單元拍攝所述定位標(biāo)記，所述圖像處理單元對(duì)各拍攝結(jié)果進(jìn)行所述對(duì)比度增強(qiáng)處理；

所述焦點(diǎn)調(diào)整機(jī)構(gòu)將所述拍攝單元的焦點(diǎn)位置調(diào)整到與增強(qiáng)了對(duì)比度的圖像中的特定圖像相對(duì)應(yīng)的位置上，該特定圖像是指，包含與所述定位標(biāo)記的形狀相對(duì)應(yīng)的空間頻率成分最多的圖像。

5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印裝置，其特征在于，

所述保持單元將所述擔(dān)載體和所述基板保持為接近且相向，

在由所述焦點(diǎn)調(diào)整機(jī)構(gòu)將所述拍攝單元的焦點(diǎn)對(duì)焦到所述定位標(biāo)記上的狀態(tài)下，所述拍攝單元對(duì)擔(dān)載于所述擔(dān)載體上的所述定位標(biāo)記和形成在所述基板上的基板側(cè)定位標(biāo)記進(jìn)行拍攝；

所述圖像處理單元檢測(cè)出所述擔(dān)載體的所述定位標(biāo)記和所述基板側(cè)定位標(biāo)記之間的相對(duì)位置，

所述定位單元基于所述圖像處理單元的檢測(cè)結(jié)果，調(diào)整所述基板和所述擔(dān)載體之間的相對(duì)位置。

6.一種轉(zhuǎn)印方法，將作為被轉(zhuǎn)印物的圖案或薄膜轉(zhuǎn)印到基板上，其特征在于，

該轉(zhuǎn)印方法包括：

配置工序，在使擔(dān)載體和所述基板彼此分離的狀態(tài)下，且使所述擔(dān)載體的一個(gè)表面與所述基板相向，來(lái)配置所述擔(dān)載體和所述基板，在所述擔(dān)載體的所述一個(gè)表面上擔(dān)載所述被轉(zhuǎn)印物，

對(duì)焦工序，利用在所述擔(dān)載體的與所述一個(gè)表面相反的表面一側(cè)配置的拍攝單元，來(lái)經(jīng)由所述擔(dān)載體對(duì)擔(dān)載于所述擔(dān)載體的所述一個(gè)表面上的定位標(biāo)記進(jìn)行拍攝，并基于所述拍攝單元的拍攝結(jié)果來(lái)將所述拍攝單元的焦點(diǎn)對(duì)焦到所述定位標(biāo)記上，

定位工序，在將所述拍攝單元的焦點(diǎn)對(duì)焦到所述定位標(biāo)記上的狀態(tài)下，拍攝所述定位標(biāo)記和形成在所述基板上的基板側(cè)定位標(biāo)記，并基于所述拍攝單元的拍攝結(jié)果來(lái)調(diào)整所述基板和所述擔(dān)載體之間的相對(duì)位置，

轉(zhuǎn)印工序，使調(diào)整了相對(duì)位置的所述基板和所述擔(dān)載體相互緊貼，由此將所述被轉(zhuǎn)印物從所述擔(dān)載體轉(zhuǎn)印到所述基板上；

在所述對(duì)焦工序中，對(duì)拍攝所述定位標(biāo)記而得到的圖像進(jìn)行對(duì)比度增強(qiáng)處理，并從該處理后的圖像中檢測(cè)出所述定位標(biāo)記。

7.如權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，在所述對(duì)焦工序中，進(jìn)行包括增強(qiáng)與所述定位標(biāo)記的形狀相對(duì)應(yīng)的空間頻率成分的處理的所述對(duì)比度增強(qiáng)處理。

8.如權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，在所述對(duì)焦工序中，進(jìn)行包括提取與所述定位標(biāo)記的形狀相對(duì)應(yīng)的空間頻率成分的濾波處理的所述對(duì)比度增強(qiáng)處理。

9.如權(quán)利要求8所述的轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，在所述對(duì)焦工序中，通過(guò)對(duì)所述濾波處理后的所述定位標(biāo)記的圖像數(shù)據(jù)乘以大于1的系數(shù)來(lái)增強(qiáng)對(duì)比度。