[發(fā)明專利]紅外焦平面探測器芯片的拼接方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210527743.5 | 申請日: | 2012-12-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103021961A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王春生;東海杰;孟令超;鮑哲博 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第十一研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/98 | 分類號(hào): | H01L21/98 |
| 代理公司: | 工業(yè)和信息化部電子專利中心 11010 | 代理人: | 吳永亮 |
| 地址: | 100015*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紅外 平面 探測器 芯片 拼接 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種紅外焦平面探測器芯片的拼接方法。
背景技術(shù)
航天用紅外成像系統(tǒng)要求的探測距離極遠(yuǎn),同時(shí)要求成像系統(tǒng)具有大視場和高分辨率性能,這就要求航天用紅外焦平面探測器必須是超大規(guī)模或超長線列的探測器組件。由于材料和工藝方便的限制,目前紅外焦平面探測器在陣列規(guī)模上很難滿足航天應(yīng)用的需求。為此,必須采用精密拼接的方法,將多片紅外焦平面探測器芯片組合成一個(gè)組件使用。另一方面,空間遙感要求紅外焦平面探測器具有多光譜探測的能力,因此必須將不同譜段的紅外焦平面探測器拼接起來應(yīng)用。
待拼接芯片均具有幾何參數(shù)離散性,因此,對于給定數(shù)量的芯片需進(jìn)行優(yōu)化布局,以確定最佳排列組合方式,提高整體拼接精度。在實(shí)際拼接過程中由于人員、設(shè)備等各種因素的影響,前道工序固化的芯片實(shí)際位置并不完全等于預(yù)分析和優(yōu)化計(jì)算得到的理想位置,并且隨著拼接工藝的進(jìn)展,各芯片的位置誤差會(huì)相互耦合并持續(xù)積累、傳播,成為一種動(dòng)態(tài)的誤差,需對其進(jìn)行實(shí)時(shí)補(bǔ)償。目前,紅外探測器拼接以手工操作為主,隨機(jī)性較大,精度較低,需對拼接工藝過程進(jìn)行優(yōu)化。同時(shí),紅外探測器拼接具有不可逆、成本高、風(fēng)險(xiǎn)大的特點(diǎn),難以保證拼接精度及成品率。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述的分析,本發(fā)明旨在提供一種紅外焦平面探測器芯片的拼接方法,用以提高紅外焦平面探測器的拼接精度,降低操作風(fēng)險(xiǎn)。
本發(fā)明的目的主要是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種紅外焦平面探測器芯片的拼接方法,該方法包括:
步驟A,對于給定數(shù)量的待拼接芯片,輸入其標(biāo)記點(diǎn),進(jìn)行拼接精度預(yù)分析與優(yōu)化,確定待拼接芯片的最佳排列組合方式和優(yōu)化位置,并確定第一片待拼接芯片的目標(biāo)位置;
步驟B,從第二片待拼接芯片開始,進(jìn)行拼接過程動(dòng)態(tài)優(yōu)化。
優(yōu)選地,進(jìn)行拼接精度預(yù)分析與優(yōu)化的步驟具體包括:
對所有標(biāo)記點(diǎn)的離散誤差進(jìn)行優(yōu)化處理。
優(yōu)選地,步驟A具體包括:輸入所有待拼接芯片的標(biāo)記點(diǎn),分析各芯片標(biāo)記點(diǎn)離散誤差以及芯片間排列組合方式對最終拼接精度的影響;
進(jìn)行優(yōu)化處理,預(yù)測各種排列組合的固有精度,以最高固有精度確定全體芯片的最佳排列組合方式和優(yōu)化位置,并根據(jù)該優(yōu)化位置確定第一片待芯片的目標(biāo)位置。
優(yōu)選地,所述優(yōu)化處理的步驟具體包括:對各種排列組合的芯片標(biāo)記點(diǎn)進(jìn)行直線擬合,并以此計(jì)算該排列組合的固有精度。
優(yōu)選地,所述固有精度具體包括:各種排列組合的芯片標(biāo)記點(diǎn)搭接精度、直線度和平行度。
優(yōu)選地,步驟B具體包括:
從第二片待拼接芯片開始,實(shí)時(shí)測量已固化芯片的實(shí)際位置,計(jì)算已固化芯片的實(shí)際位置誤差,并根據(jù)已固化芯片的實(shí)際位置誤差,重新計(jì)算當(dāng)前待拼接芯片的優(yōu)化位置。
優(yōu)選地,在整個(gè)拼接過程中進(jìn)行操作過程優(yōu)化,確定微動(dòng)調(diào)整操作的最佳調(diào)整順序和調(diào)整量,并以確定的微動(dòng)調(diào)整操作的最佳調(diào)整順序和調(diào)整量指導(dǎo)具體拼接操作。
優(yōu)選地,在拼接操作過程中,以轉(zhuǎn)換矩陣表達(dá)微動(dòng)調(diào)整操作,通過矢量計(jì)算獲得不同調(diào)整順序和調(diào)整量所能達(dá)到的調(diào)整效果,通過遺傳算法對操作步驟進(jìn)行優(yōu)化,以最少的調(diào)整操作步驟將芯片調(diào)整到目標(biāo)位置。
優(yōu)選地,對計(jì)算得到的最佳調(diào)整順序和調(diào)整量進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示和輸出。
本發(fā)明有益效果如下:
本發(fā)明提供了一種紅外焦平面探測器芯片的拼接方法,該方法通過拼接精度預(yù)分析與優(yōu)化確定全體芯片最佳排列組合方式,提高拼接方案固有精度,通過拼接過程動(dòng)態(tài)優(yōu)化消除拼接過程誤差的累積,大大提高紅外焦平面探測器拼接的最終精度,通過拼接操作優(yōu)化簡化拼接操作步驟,降低操作風(fēng)險(xiǎn),提高效率和成功率。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述,并且,部分的從說明書中變得顯而易見,或者通過實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過在所寫的說明書、權(quán)利要求書、以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的單譜段紅外焦平面探測器芯片拼接方法的流程圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例2的多譜段紅外焦平面探測器芯片拼接方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖來具體描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,其中,附圖構(gòu)成本申請一部分,并與本發(fā)明的實(shí)施例一起用于闡釋本發(fā)明的原理。為了清楚和簡化目的,當(dāng)其可能使本發(fā)明的主題模糊不清時(shí),將省略本文所描述的器件中已知功能和結(jié)構(gòu)的詳細(xì)具體說明。
實(shí)施例1
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





