[發(fā)明專利]一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210524484.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103869601A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏志凌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/38 | 分類號(hào): | G03F1/38 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 固定 輔助 模板 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種掩模板,具體涉及一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法,屬于OLED掩模板制造領(lǐng)域。
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背景技術(shù)
OLED顯示屏作為繼CRT、LCD之后最具有發(fā)展?jié)摿Φ牡谌@示技術(shù),其發(fā)展日益受到人們的關(guān)注,目前,制備高質(zhì)量OLED屏的一種核心技術(shù)是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸鍍R、G、B三原色制得。作為掩模介質(zhì)的OLED掩模板的精度會(huì)直接影響到最終OLED屏的質(zhì)量,因此業(yè)內(nèi)非常重視OLED掩模板制作的每個(gè)環(huán)節(jié)。一個(gè)完整OLED掩模板制造過程包括:具有開口圖案掩模板的制作→掩模板的固定→掩模板的包裝。其中掩模板的固定環(huán)節(jié)具體是將掩模板繃?yán)秸笸ㄟ^激光焊接或者其他連接方式固定在一個(gè)外框上,為了便于繃?yán)?,掩模板的外圍?huì)留有一個(gè)用于繃?yán)膮^(qū)域,掩模板固定好后,用于繃?yán)膮^(qū)域需要裁除,通常裁除手段是通過機(jī)械裁剪等方法,如此會(huì)引起掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落,影響最終產(chǎn)品質(zhì)量。因此,業(yè)界亟需一種能夠在OLED掩模板制造過程中解決此種缺陷的方法。
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發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)。本發(fā)明提供了一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法
所述具有固定輔助邊的掩模板,包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區(qū),所述輔助邊設(shè)置在所述掩模板主體外側(cè)通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
根據(jù)本專利背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述,目前工藝中掩模板的固定環(huán)節(jié)具體是將掩模板繃?yán)秸笸ㄟ^激光焊接或者其他連接方式固定在一個(gè)外框上,為了便于繃?yán)谀0宓耐鈬鷷?huì)留有一個(gè)用于繃?yán)膮^(qū)域,掩模板固定好后,用于繃?yán)膮^(qū)域需要裁除,通常裁除手段是通過機(jī)械裁剪等方法,如此會(huì)引起掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落,影響最終產(chǎn)品質(zhì)量;而本發(fā)明提供的所述具有固定輔助邊的掩模板具有與傳統(tǒng)工藝中功能類似的輔助邊,所述具有固定輔助邊的掩模板在連接并固定在外框上后由于所述半刻線區(qū)的存在,可以很方便省力的將輔助邊切除,并大大降低了傳統(tǒng)工藝剪切過程中對(duì)原有掩模板上絲網(wǎng)的影響,也避免了傳統(tǒng)工藝中的掩模板邊緣曲翹甚至使得裁剪區(qū)域附近固定點(diǎn)脫落,大大提高了生產(chǎn)效率。
另外,根據(jù)本發(fā)明公開的具有固定輔助邊的掩模板還具有如下附加技術(shù)特征:
可選地,所述輔助邊設(shè)置在掩模板主體的四周形成封閉外框且通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
可選地,所述輔助邊設(shè)置在掩模板主體的兩對(duì)邊形成開放外框且通過所述半刻線區(qū)與所述掩模板主體連接。
通常情況下,所述掩模板主體為四邊形的絲網(wǎng),所述輔助邊可以在所述掩模板主體的四個(gè)周邊設(shè)置形成一個(gè)四邊形的封閉的外圍邊框,并通過所述半刻線與所述掩模板主體聯(lián)接;但在某些情況下,所述輔助邊只是在所述掩模板主體的兩個(gè)對(duì)邊設(shè)置形成一個(gè)平行的開放的外圍邊框,即僅有兩個(gè)對(duì)邊的外圍邊框,同時(shí)通過所述半刻線與所述掩模板主體聯(lián)接。
進(jìn)一步地,所述半刻線區(qū)為厚度小于所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長區(qū)域。
優(yōu)選地,所述半刻線與固定掩模板主體的外框形狀尺寸相適應(yīng),即半刻線區(qū)形成的外邊形狀與外框形狀保持一致或基本一致,在去除輔助邊后,掩模板主體外邊能與外框邊緣吻合。
所述輔助邊及所述半刻線區(qū)的存在是為了在所述掩模板連接并固定在外框進(jìn)行裁切后降低裁切過程中對(duì)掩模板的影響,因此連接所述掩模板主體和所述輔助邊的半刻線區(qū)為所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長區(qū)域,這樣一方面能將固定連接邊緣限制在所述半刻線區(qū)內(nèi),避免裁切過程中對(duì)所述半刻線區(qū)內(nèi)的所述掩模板主體的影響,同時(shí),大大降低了裁切力,節(jié)能且高效。
在實(shí)際應(yīng)用中,所述半刻線區(qū)的厚度設(shè)置應(yīng)由以下原則確定:半刻線區(qū)13能夠承受外界將掩模板拉緊繃平的水平拉力(相對(duì)圖中所示方位)而不斷裂,同時(shí)也能在相對(duì)較小的剪切力(垂直于掩模板板面)下斷開。
進(jìn)一步地,所述半刻線區(qū)設(shè)置有通孔。
優(yōu)選地,所述通孔均勻分布。
所述通孔的設(shè)置進(jìn)一步降低了裁切力,而均勻分布的通孔則可以使裁切力更加均勻,形成良好的切口斷面。
可選地,所述半刻線區(qū)邊緣設(shè)置有大開口。
優(yōu)選地,所述大開口對(duì)稱分布在所述半刻線邊緣。
所述大開口的設(shè)置可以更好地提供裁切的起始位置,使起始的裁切力更小,
本發(fā)明還提供了相應(yīng)的掩模板的制作方法,其特征包括:
S1,壓貼感光干膜:在所述掩模板上待制半刻線區(qū)以及其兩側(cè)均壓貼感光干膜;
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





