[發明專利]一種具有固定輔助邊的掩模板及其制作方法在審
| 申請號： | 201210524484.0 | 申請日： | 2012-12-10 |
| 公開（公告）號： | CN103869601A | 公開（公告）日： | 2014-06-18 |
| 發明（設計）人： | 魏志凌 | 申請（專利權）人： | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/38 | 分類號： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215300 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 固定 輔助 模板 及其 制作方法 | ||
1.一種具有固定輔助邊的掩模板，,包括掩模板主體、輔助邊及半刻線區，其特征在于，所述輔助邊設置在所述掩模板主體外側通過所述半刻線區與所述掩模板主體連接。
2.根據權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述輔助邊設置在掩模板主體的四周形成封閉外框且通過所述半刻線區與所述掩模板主體連接。
3.根據權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述輔助邊設置在掩模板主體的兩對邊形成開放外框且通過所述半刻線區與所述掩模板主體連接。
4.根據權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區為厚度小于所述掩模板主體厚度且小于所述輔助邊厚度的狹長區域。
5.根據權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區設置有通孔。
6.根據權利要求5所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述通孔均勻分布。
7.根據權利要求1所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述半刻線區邊緣設置有大開口。
8.根據權利要求7所述的具有固定輔助邊的掩模板，其特征在于，所述大開口對稱分布在所述半刻線邊緣。
9.一種具有固定輔助邊的掩模板的制作方法，其特征在于，包括：
S1，壓貼感光干膜：在所述掩模板上待制半刻線區以及其兩側均壓貼感光干膜；
S2，曝光：按照設計圖形通過曝光機對所述感光干膜進行曝光，使得非蝕刻區域曝光；
S3，去除未曝光干膜：將曝光后的掩模板通過顯影去除未曝光干膜區；
S4，蝕刻：將顯影后的所述掩模板蝕刻后，即可形成所述半刻線區。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山允升吉光電科技有限公司，未經昆山允升吉光電科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210524484.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種基于分體凸輪的擋板式可變氣門裝置
- 下一篇：鹽穴儲氣庫雙井建庫方法
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
