[發明專利]印刷電路板及其銅柱制作方法有效
| 申請號: | 201210523753.1 | 申請日: | 2012-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN103857202A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發明(設計)人: | 唐國梁 | 申請(專利權)人: | 北大方正集團有限公司;重慶方正高密電子有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/34 | 分類號: | H05K3/34 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 王達佐 |
| 地址: | 100871 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 印刷 電路板 及其 制作方法 | ||
1.一種印刷電路板的銅柱制作方法,其特征在于,包括:
在載體(T)的第一表面上形成第一銅箔層(L1);
蝕刻所述第一銅箔層(L1)形成第一銅柱(K1),并露出部分所述第一表面;
在所述露出的部分第一表面上形成防粘附材料層(F),并露出所述第一銅柱(K1);
在所述防粘附材料層(F)和所述第一銅柱(K1)上形成介質層(G);
在所述介質層(G)上對應所述第一銅柱(K1)的位置開孔,露出所述第一銅柱(K1);
在所述開孔位置形成與所述第一銅柱(K1)連接的第二銅柱(K2),在所述介質層(G)上形成與第二銅柱(K2)相連的第一銅層(L3);
移除所述載體(T)以及所述防粘附材料層(F)。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,通過在所述第一表面上先形成一銅層,再采用圖形鍍銅方式增厚所述銅層以得到所述第一銅箔層(L1)。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,通過在所述第一銅箔層(L1)上壓制半固化片或涂布樹脂形成所述介質層(G)。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,采用等離子體蝕刻或激光燒蝕方式形成所述開孔。?
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
采用磨刷或蝕刻方式對由所述第二銅箔層(L2)和所述第一銅層(L3)構成的銅層減薄,并進行圖形制作。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,
所述在露出的部分第一表面上形成防粘附材料層(F)時,使所述防粘附材料層(F)與第一銅柱(K1)的頂部在同一水平面上。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,采用濕化學方式除去所述防粘附材料層(F)。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在移除所述載體(T)以及所述防粘附材料層(F)之后,還包括:
采用干膜保護所述第一銅層(L3),在所述第一銅柱(K1)上鍍銅錫鉛層(D);
在所述介質層上形成第二銅層(L4)并對所述第二銅層(L4)進行圖形制作;
剝除所述錫鉛層(D),露出所述第一銅柱(K1)。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述防粘附材料層(F)和所述第一銅柱(K1)上形成介質層(G)之后,進一步包括,在所述介質層(G)上形成第二銅箔層(L2),在所述第二銅箔層(L2)上對應所述第一銅柱(K1)的位置開孔,所述第二銅柱(K2)包括形成于所述第二銅箔層(L2)開孔處的銅柱;所述第一銅層(L3)形成于所述介質層(G)上的所述第二銅箔層(L2)之上。?
10.一種印刷電路板,其特征在于,其銅柱采用權利要求1-9任一項所述的方法制作而成。?
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