[發(fā)明專利]有機(jī)層沉積設(shè)備和利用其制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210520107.X | 申請(qǐng)日: | 2012-12-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103255371A | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 康熙哲;金鐘憲;蔣允豪;張錫洛;盧喆來(lái) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/12 | 分類號(hào): | C23C14/12;C23C14/04;C23C14/56;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰;張川緒 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) 沉積 設(shè)備 利用 制造 發(fā)光 顯示 方法 | ||
1.一種有機(jī)層沉積設(shè)備,所述有機(jī)層沉積設(shè)備包括:
運(yùn)輸器,包括安裝有用來(lái)形成有機(jī)層的基板的吸盤;
掃描單元,包括用來(lái)排放沉積原料的沉積單元和具有多個(gè)圖案化縫隙的圖案化縫隙片,圖案化縫隙片在第一方向和垂直于第一方向的第二方向中的至少一個(gè)方向上比基板小;以及
室,容納運(yùn)輸器和掃描單元,
其中,掃描單元被布置成與基板隔開并且能夠相對(duì)于運(yùn)輸器移動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,沉積單元包括:
沉積源,布置在運(yùn)輸器的一側(cè),以排放沉積原料;
沉積源噴嘴單元,位于沉積源上并且包括多個(gè)噴嘴;
障礙板組件,位于圖案化縫隙片和沉積源噴嘴單元之間,并且包括多個(gè)障礙板,所述多個(gè)障礙板將圖案化縫隙片和沉積源噴嘴單元之間的空間劃分為多個(gè)子沉積空間。
3.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,圖案化縫隙片與基板隔開。
4.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,吸盤安裝在基板的表面上,用來(lái)支撐基板,基板的所述表面與基板的面向掃描單元的表面相對(duì)。
5.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,基板包括布置在室中的多個(gè)基板,掃描單元被構(gòu)造成在所述多個(gè)基板之間往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,所述有機(jī)層沉積設(shè)備還包括對(duì)準(zhǔn)臺(tái)單元,對(duì)準(zhǔn)臺(tái)單元布置在圖案化縫隙片的下部并且包括用來(lái)將圖案化縫隙片對(duì)準(zhǔn)為與基板平行的至少一個(gè)位置控制器。
7.如權(quán)利要求6所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,掃描單元和對(duì)準(zhǔn)臺(tái)單元在基體框架上彼此一體地結(jié)合,用來(lái)彼此連同地移動(dòng)。
8.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,室包括連續(xù)布置的多個(gè)室,掃描單元被構(gòu)造為在每個(gè)室內(nèi)沿一定的方向移動(dòng),所述一定的方向與運(yùn)輸器按沿直線步進(jìn)的方式在所述多個(gè)室中的相鄰的室之間移動(dòng)的方向交叉。
9.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,室包括連續(xù)布置的多個(gè)室,基板包括在每個(gè)室內(nèi)沿水平方向彼此隔開布置的多個(gè)基板,圖案化縫隙片和沉積單元在豎直方向上連續(xù)地布置在所述多個(gè)基板的下部。
10.如權(quán)利要求9所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,每個(gè)室中的圖案化縫隙片和沉積單元被構(gòu)造成在一定的方向上在所述多個(gè)基板之間水平地往復(fù)運(yùn)動(dòng),所述多個(gè)基板能夠沿著與所述一定的方向交叉的另一方向按沿直線步進(jìn)的方式在所述多個(gè)室中的相鄰的室之間移動(dòng)。
11.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,室包括連續(xù)布置的多個(gè)室,基板包括在每個(gè)室內(nèi)沿豎直方向彼此隔開布置的多個(gè)基板,圖案化縫隙片和沉積單元在水平方向上連續(xù)地布置在所述多個(gè)基板的后部。
12.如權(quán)利要求11所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,每個(gè)室中的圖案化縫隙片和沉積單元被構(gòu)造成在豎直方向上在所述多個(gè)基板之間往復(fù)運(yùn)動(dòng),所述多個(gè)基板能夠在所述多個(gè)室中的相鄰的室之間水平地移動(dòng)。
13.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,室包括以循環(huán)的形式布置的多個(gè)室,基板包括在每個(gè)室內(nèi)沿豎直方向彼此隔開布置的多個(gè)基板,圖案化縫隙片和沉積單元在水平方向上連續(xù)地布置在所述多個(gè)基板的后部。
14.如權(quán)利要求13所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,每個(gè)室中的圖案化縫隙片和沉積單元被構(gòu)造成在豎直方向上在所述多個(gè)基板之間往復(fù)運(yùn)動(dòng),所述多個(gè)基板能夠在所述多個(gè)室中的相鄰的室之間水平地移動(dòng)。
15.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,室包括連續(xù)布置的多個(gè)室,基板包括在每個(gè)室內(nèi)布置在吸盤的相對(duì)的側(cè)面的多個(gè)基板,圖案化縫隙片和沉積單元連續(xù)地布置在每個(gè)基板的后部。
16.如權(quán)利要求15所述的有機(jī)層沉積設(shè)備,其中,每個(gè)室中的圖案化縫隙片和沉積單元被構(gòu)造成在豎直方向上在所述多個(gè)基板之間往復(fù)運(yùn)動(dòng),所述多個(gè)基板能夠在所述多個(gè)室中的相鄰的室之間水平地移動(dòng)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 應(yīng)用有機(jī)材料制作有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)發(fā)光材料及有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)半導(dǎo)體組合物以及有機(jī)薄膜和具有該有機(jī)薄膜的有機(jī)薄膜元件
- 有機(jī)材料和包括該有機(jī)材料的有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)發(fā)光元件、有機(jī)發(fā)光裝置、有機(jī)顯示面板、有機(jī)顯示裝置以及有機(jī)發(fā)光元件的制造方法
- 有序的有機(jī)-有機(jī)多層生長(zhǎng)
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