[發(fā)明專利]一種OLED器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210517302.7 | 申請日: | 2012-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN103022376A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 邱勇;劉嵩;李建仁 | 申請(專利權)人: | 昆山維信諾顯示技術有限公司;清華大學;北京維信諾科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/54 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 彭秀麗 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 oled 器件 | ||
1.一種OLED器件,包括基板(1)以及依次設置在所述基板(1)上的陽極(3)、有機層和陰極(9),其特征在于,所述陰極(9)為透明復合陰極,包括透明金屬層和設置在所述金屬層上的增透層,所述增透層的材料為茚並芴衍生物或并二芴衍生物。?
2.根據(jù)權利要求1所述的OLED器件,其特征在于,所述增透層的材料選自下述結構式中的一種或多種:?
。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的OLED器件,其特征在于,所述透明金屬層為Ag層或由低功函數(shù)金屬與Ag構成的合金層。?
4.根據(jù)權利要求1或2所述的OLED器件,其特征在于,所述透明金屬層包括Ag層和由低功函數(shù)金屬與Ag構成的合金層,所述增透層靠近所述Ag層設置。?
5.根據(jù)權利要求3或4所述的OLED器件,其特征在于,所述低功函數(shù)金屬為Mg、Li、K中的一種。?
6.根據(jù)權利要求3-5任一所述的OLED器件,其特征在于:所述合金層中,所述低功函數(shù)金屬與Ag含量的摩爾比為3:1-10:1。?
7.根據(jù)權利要求3-6任一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層的厚度為15-40nm,所述增透層的厚度為30-100nm。?
8.根據(jù)權利要求3-7一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層是Ag層,厚度為15-18nm,所述增透層的厚度為30-90nm。?
9.根據(jù)權利要求3-7任一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層是Ag層,厚度為18-25nm;所述增透層的厚度為30-50nm。?
10.根據(jù)權利要求3-7任一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層是所述合金層,厚度為20-25nm;所述增透層的厚度為30-100nm。?
11.根據(jù)權利要求3-7任一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層是所述合金層,厚度為25-30nm;所述增透層的厚度為30-80nm。?
12.根據(jù)權利要求3-7任一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層包括所述合金層和所述Ag層,且所述合金層的厚度3-7nm,所述Ag層的厚度為15-25nm;所述增透層的厚度為50-100nm。?
13.根據(jù)權利要求3-7任一所述的OLED器件,其特征在于:所述透明金屬層包括所述Ag層和所述合金層,所述合金層的厚度7-11nm,所述Ag層的厚度為20-30nm;所述增透層的厚度為30-60nm。?
14.根據(jù)權利要求1-13任一所述的OLED器件,其特征在于,所述有機層包括發(fā)光層和功能層,所述功能層包括空穴注入層、電子阻擋層、空穴傳輸層、電子傳輸層、空穴阻擋層、電子注入層中的一種或幾種組合。?
15.根據(jù)權利要求14所述的OLED器件,其特征在于,所述陽極(3)與所述基板(1)之間還設置有反射層(2)。?
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





