[發(fā)明專利]一種以多孔硅為基底制備硅納米管的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210515865.2 | 申請日: | 2012-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN102942184A | 公開(公告)日: | 2013-02-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉祥;程鶴鳴;崔平 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽工業(yè)大學 |
| 主分類號: | C01B33/12 | 分類號: | C01B33/12;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 蔣海軍 |
| 地址: | 243032 安徽省馬鞍山市*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多孔 基底 制備 納米 方法 | ||
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及新材料的制備方法,尤其涉及硅納米管的制備方法。
背景技術(shù)
硅納米管狀結(jié)構(gòu)存在半導體特性,有較大的帶隙寬度,在硅納米光電器件方面具有很大的應用潛力,在納米技術(shù)領域也有很大的應用前景。目前,關(guān)于硅納米管的制備方法,鮮有報道。這是因為硅原子通常為sp3雜化,原子間形成四面體結(jié)構(gòu),因此目前報道的硅納米材料多為硅納米線,計算化學方法雖然可以預言硅納米管的存在,但實際上實驗室合成仍存在很多的困難。
湖南大學科研人員設計了一種在水溶液中進行硅納米管制備的方法,他們把純SiO粉末與去離子水在高壓反應釜混合,控制升溫速率,在470oC、壓力為6~8MPa時獲得自組生長的硅納米管,對水熱法獲得硅納米管的機理還在研究之中,所得硅納米管的生長端為閉合結(jié)構(gòu),其外部直徑一般小于20?nm,平均約15?nm,長度達上百納米。他們還申請了專利(申請?zhí)枺?00410063033.7,名稱:水熱法制備自組生長的硅納米管及硅納米線的方法)。
Young?Hee?Lee等報道了一種在多孔鋁上利用分子束取向附生的方法(molecular?beam?epitaxy,MBE),獲得直徑在40~80?nm左右的硅納米管,長度在1?μm左右,其方法是首先制備多孔氧化鋁模板,在氬氣中進行500oC熱處理,置于MBE室中,室內(nèi)的真空度為6.65×10-8?Pa,由電子束蒸發(fā)器產(chǎn)生硅原子,堆積產(chǎn)生硅納米管(Seung?Yol?Jeong,?Jae?Yon?Kim,?Hyun?Duk?Yang,?Bin?Nal?Yoon,?Suk-Ho?Choi,?Hee?Kwang?Kang,?Cheol?Woong?Yang,?Young?Hee?Lee*.?Synthesis?of?Silicon?Nanotubes?on?Porous?Alumina?Using?Molecular?Bean?Epitaxy?(分子束取向附生法在多孔氧化鋁上合成硅納米管).?Adv.?Mater.?2003,?15(14):?1172-1176.)。
Deren?Yang等也報道了一種以納米孔道的Al2O3為基底,以氬氣、氫氣和硅烷氣體混合物為原料,以化學氣相沉積(chemical?vapor?deposition)的方法,制備了直徑約50~100?nm的硅納米管,其制備的方法是:將金催化劑沉積到兩端開口的納米氧化鋁的納米孔道內(nèi),放入石英爐,在20Pa的壓力及620oC下,通入混合氣,一定時間后獲得硅納米管(Jian?Sha,?Junjie?Niu,?Xiangyang?Ma,?Jin?Xu,?Xiaobing?Zhang,?Qin?Yang,?Deren?Yang*.?Silicon?Nanobubes?(硅納米管).?Adv.?mater.?2002,?14(17):?1219-1221.)。
申請?zhí)枮?00810038215.7的專利是利用SiO和Si等混合粉末為起始原料,以少量稀土元素為間接催化劑,在高溫度下獲得硅納米管。
申請?zhí)枮?00810014146.6的專利是采用四氯化硅和過量鋅粉為原料,在450~550oC,反應8~12h,再經(jīng)冷卻、鹽酸處理、清洗抽濾,50~60oC下烘干后獲得硅納米管。
申請?zhí)枮?01110111770.X的專利是利用Mg對SiO2的還原作用,在催化劑作用下,將SiO2納米球還原成硅的納米管,該硅納米管由兩步合成:(1)利用表面活性劑水熱合成SiO2納米球前驅(qū)物;(2)用固相鎂熱法在催化劑作用下合成硅納米管。
申請?zhí)枮?01110328166.2的專利描述了硅納米管的制作方法,該方法包括以下步驟:在硅片上熱氧化生長二氧化硅層,在二氧化硅層上依次沉積多晶硅和氮化硅;刻蝕氮化硅和多晶硅,形成頂部覆蓋有氮化硅的多晶硅線;在多晶硅線一側(cè),以第一角度進行離子注入;去除多晶硅線上的氮化硅;在多晶硅線另一側(cè),以第二角度進行離子注入;在多晶硅線上熱氧化生長二氧化硅膜形成硅納米管。
綜上所述,目前制備硅納米管的方法大都是以含硅的化合物為硅源,高溫條件促進硅原子的生成及其自組生長過程,通過無序堆積產(chǎn)生硅納米管。其特點是要么需要高溫條件,要么需要多孔模板作為支撐材料,制備過程復雜,反應條件苛刻。
發(fā)明內(nèi)容
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