[發明專利]一種含有頭孢西丁鈉化合物的藥物組合物

有效

• 申請號: 201210514291.7
• 申請日: 2012-12-04
• 公開（公告）號: CN102942577A
• 公開（公告）日: 2013-02-27
• 發明（設計）人: 羅誠
• 申請（專利權）人: 羅誠
• 主分類號: C07D501/57
• 分類號: C07D501/57;C07D501/12;A61K31/546;A61P31/04
• 代理公司: 北京元中知識產權代理有限責任公司 11223
• 代理人: 王明霞

技術領域

本發明屬于藥物化合物領域，具體涉及一種含有頭孢西丁鈉化合物的藥物組合物。

背景技術

頭孢西丁鈉是頭霉素類抗生素，系是由鏈霉菌Streptomyces?Iactamdurans產生的甲氧頭孢菌素C（Cephamycin?C），經半合成制得的一類新型抗生素，其母核與頭孢菌素相似，且抗菌性能也類似，習慣上也被列入第二代頭孢菌素類中。頭孢西丁通過與一個或多個青霉素結合蛋白（PBPs）結合，抑制細菌分裂活躍的細胞的細胞壁生物合成，從而起抗菌作用。頭孢西丁鈉對革蘭陰性菌中流感嗜血桿菌、克雷白桿菌、大腸埃希桿菌、摩氏摩根菌、紫茉莉變形菌、雷氏普羅威登斯菌和淋球菌的敏感菌株均有較強的抗菌作用。

由于頭孢西丁鈉見效快、劑量小、副作用小，臨場上尤其適用于婦產科預防剖宮產術后感染。剖宮產術后感染的因素錯綜復雜且后果嚴重，隨著國內外剖宮產術不斷上升，剖宮產感染已越來越引起普遍重視，多年來，預防剖宮產術后感染抑制采取術后使用二聯以上抗生素直至拆線的方法，但會出現術后給藥造成的抗生素濫用，以及攙扶的乳汁內含藥物，不利于母嬰喂養等問題。而由于頭孢西丁鈉藥物濃度高峰在用藥后30-60min，起效很快，恰在剖宮產手術過程中，可采用手術期一次性應用頭孢西丁鈉的方法，既解決了上述問題，也減輕醫療工作及病人針刺痛苦，且病人恢復良好，效果顯著，非常值得提倡。

然而，頭孢西丁鈉原料藥一直存在穩定性差的缺點，特別是其色級和含量變化較大，并具有較強的吸濕性，影響藥品質量。

為改善和提高其穩定性，“頭孢西丁鈉穩定性改進”【魏青杰.頭孢西丁鈉穩定性改進[J].河北化工，2011（34）：14—15】通過對頭孢西丁鈉原料藥結晶工藝進行篩選，調節頭孢西丁鈉的pH值、加穩定劑、改變殘氧量及不同的結晶狀態，使其穩定性得到了改善，收率為95%左右。

“頭孢西丁鈉結晶工藝改進”【魏青杰，李惠芬.頭孢西丁鈉結晶工藝改進[J].廣州化工，2011（39）:102-103】通過對成鹽劑和有機溶媒的篩選，對頭孢西丁鈉的結晶工藝進行優化，得到了晶型好、質量高、成本低的頭孢西丁鈉產品，收率大于95%。經過改進的新工藝采用三水醋酸鈉成鹽劑，丙酮、甲醇作溶劑，所作頭孢西丁鈉在質量和穩定性、晶型以及產品粒度等各方面較原工藝均有明顯優勢，操作簡單，成本低廉，更適合工業化生產。

CN102358744A公開了一種頭孢西丁鈉結晶化合物及其組合物粉針。該頭孢西丁鈉結晶化合物溶解穩定性好，長時間放置不會析出固體，生物利用度更高。

本發明人在對頭孢西丁鈉原料藥進行大量的研究后，制得了一種不同于現有技術晶型的頭孢西丁鈉化合物晶體，該晶體具有良好的穩定性，基本不吸濕，從而完成了本發明。

發明內容

本發明的第一目的就在于提供一種頭孢西丁鈉化合物晶體，該晶體具有良好的穩定性，基本不吸濕。

本發明的第二目的在于提供所述頭孢西丁鈉化合物晶體的制備方法，該方法簡單可行，且采用此方法制備得到的頭孢西丁鈉化合物晶體具有良好的穩定性，基本不吸濕。

本發明的第三目的在于提供一種含有頭孢西丁鈉化合物的藥物組合物。

為實現本發明的第一目的，本發明采用如下技術方案：

一種頭孢西丁鈉化合物晶體，其中，所述的頭孢西丁鈉化合物晶體具有圖1所示的X-射線衍射圖譜。

所述的頭孢西丁鈉化合物晶體的粒徑為80～120μm。

研究表明，同一化學結構的藥物，因為結晶條件如溶劑、溫度、冷卻速度等的不同，而得到不同晶格排列的結晶，稱為多晶型。多晶型現象在有機藥物中廣泛存在。不同晶型的同一藥物在溶解度、熔點、密度、穩定性等方面可能有顯著的差異，進而影響到藥物的穩定性、均一性、生物利用度、療效和安全性。據此，本發明人在對結晶條件等進行了大量的試驗后，制得了一種頭孢西丁鈉化合物晶體，對該晶體測定了其X-射線粉末衍射圖譜，見圖1所示，其以2θ±0.2°衍射角表示的X射線粉末衍射圖譜在3.50°、4.00°、4.25°、5.50°、7.00°、8.75°、9.00°、12.00°、12.50°、12.75°、13.25°、14.50°、16.25°、16.75°、17.25°、18.00°、18.25°、19.75°、21.25°、21.75°、22.00°、23.25°、24.50°、26.25°、26.50°、27.75°、29.00°和29.75°處顯示出特征衍射峰。