[發(fā)明專利]光學(xué)檢驗(yàn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210512945.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103808729A | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林金霖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣達(dá)電腦股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 史新宏 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 檢驗(yàn) 方法 | ||
1.一種光學(xué)檢驗(yàn)方法,包括:
利用一檢驗(yàn)設(shè)備取得一待檢驗(yàn)物的一圖像;
決定該圖像的一目標(biāo)圖像區(qū)域;
取得該目標(biāo)圖像區(qū)域的多個(gè)檢驗(yàn)范圍的中心坐標(biāo);
將該些中心坐標(biāo)填入一陣列,并依據(jù)該些中心坐標(biāo)的相對(duì)關(guān)系重新定序該些中心坐標(biāo)而得到一重新定序坐標(biāo)陣列;以及
比較該重新定序坐標(biāo)陣列與一原始坐標(biāo)陣列,以檢驗(yàn)該些檢驗(yàn)范圍所對(duì)應(yīng)的該待檢驗(yàn)物的部分是否有缺失。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢驗(yàn)方法,還包括:
轉(zhuǎn)正該圖像,并從轉(zhuǎn)正后的該圖像取得該目標(biāo)圖像區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢驗(yàn)方法,其中該重新定序該些中心坐標(biāo)的步驟包括:
定義多個(gè)x坐標(biāo)范圍與多個(gè)y坐標(biāo)范圍;以及
基于該些中心坐標(biāo)的相對(duì)關(guān)系,將屬于相同x坐標(biāo)范圍的該些中心坐標(biāo)填入該陣列的同一行,并將屬于相同y坐標(biāo)范圍的該些中心坐標(biāo)填入該陣列的同一列,以得到該重新定序坐標(biāo)陣列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢驗(yàn)方法,其中于該重新定序坐標(biāo)陣列與該原始坐標(biāo)陣列中,不匹配的一元素所對(duì)應(yīng)的該待檢驗(yàn)物的部分有缺失。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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