[發(fā)明專利]用于半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝的擋片舟組件

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210511521.4
• 申請(qǐng)日: 2012-12-04
• 公開（公告）號(hào): CN103854977A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 潘之煒;季勇;崔嚴(yán)勻
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無錫華潤(rùn)華晶微電子有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/22
• 分類號(hào): H01L21/22
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 方世棟;王忠忠

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝，更具體地，涉及用于半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝的擋片舟組件。

背景技術(shù)

目前，隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日益發(fā)展,?半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝變得越來越重要。

所述氧化擴(kuò)散工藝通常在擴(kuò)散爐管中通過使用石英舟而實(shí)現(xiàn)(即)，在其中，石英舟和陪片（即被當(dāng)作假片使用的晶圓片）放置在爐管的兩頭（即爐管的氣體入口側(cè)和氣體出口側(cè)），并且其中待處理的晶圓片被放置在石英舟上，并把該石英舟連同其上的晶圓片放置在懸臂槳上，從而保證在工藝處理時(shí)爐管內(nèi)溫度和氣流的一致性，典型地，石英舟的工作溫度高達(dá)800～1150℃。

然而，上述現(xiàn)有的采用石英舟和陪片的技術(shù)方案存在如下問題：由于石英舟在高溫環(huán)境下長(zhǎng)期使用，會(huì)發(fā)生變形現(xiàn)象，并且陪片也會(huì)沾污和缺損，故既會(huì)造成損耗從而使成本增高（例如需要根據(jù)石英舟和陪片的使用、變形和缺損程度進(jìn)行更換，以防止其影響或損壞晶圓片），又會(huì)使?fàn)t管內(nèi)的溫度和氣流的均勻性變差，影響待處理晶圓片（即所述氧化擴(kuò)散工藝的目標(biāo)晶圓片）的工藝參數(shù)，換句話說，所述石英舟的抗變形能力弱，即剛開始使用時(shí)較為平整，隨之在擴(kuò)散爐內(nèi)承重并受熱后會(huì)很快發(fā)生彎曲現(xiàn)象并在清洗過程中有所損耗，需要頻繁更換（例如3個(gè)月左右更換一次，如果繼續(xù)使用就會(huì)導(dǎo)致?lián)p壞陪片、均勻性變差等問題），從而導(dǎo)致較高的成本，此外，石英舟上需要裝載陪片才能使用，而陪片厚度薄、易沾污，也需要周期性的更換，從而進(jìn)一步導(dǎo)致成本增高。

因此，存在如下需求：提供具有高的使用壽命、不易變形，成本低的用于半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝的擋片舟組件。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案所存在的問題，本發(fā)明提出了具有高的使用壽命、不易變形，成本低的用于半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝的擋片舟組件。

本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種用于半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝的擋片舟組件，所述擋片舟組件包括擋片基座和至少一個(gè)擋片，所述擋片基座實(shí)質(zhì)上是長(zhǎng)方體的形狀并且具有至少一個(gè)插槽，所述擋片是圓片的形式，其中，在使用時(shí)，將所述至少一個(gè)擋片插入到所述擋片基座的所述至少一個(gè)插槽中以形成擋片舟組件。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，所述至少一個(gè)擋片包括4個(gè)或5個(gè)擋片，并且所述至少一個(gè)插槽對(duì)應(yīng)地包括4個(gè)或5個(gè)插槽。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，所述擋片在制造過程中經(jīng)過高溫處理。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，所述擋片的厚度t在3mm至4mm之間。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，所述擋片的直徑d在130mm至140mm之間。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，所述擋片基座的長(zhǎng)度l在115mm至125mm之間，所述擋片基座的寬度w在50mm至70mm之間，所述擋片基座的高度h在35mm至40mm之間。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，所述擋片基座和所述擋片由石英構(gòu)成，或者所述擋片基座和所述擋片由碳化硅構(gòu)成。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，在使用中，兩套擋片舟組件被分別設(shè)置在攜載待處理的晶圓片的石英舟的兩側(cè)。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，在使用中，所述兩套擋片舟組件被放置在爐管內(nèi)的懸臂槳上。

在上面所公開的方案中，優(yōu)選地，在使用中，所述兩套擋片舟組件中的各個(gè)檔片的圓心、待處理的晶圓片的圓心以及爐管的圓心三者處于同一水平線上。

本發(fā)明所公開的用于半導(dǎo)體晶圓制造過程中的氧化擴(kuò)散工藝的擋片舟組件具有以下優(yōu)點(diǎn)：（1）由于檔片的圓心、所述待處理的晶圓片的圓心以及爐管的圓心三者處于同一水平線上，故可以確保檔片及待處理的晶圓片在爐管的中間位置，從而保證氣流從爐尾進(jìn)入后均勻的擴(kuò)散到晶圓片的各個(gè)區(qū)域，以便確保晶圓片氧化擴(kuò)散過程中的一致性；（2）由于所使用的檔片不是晶圓片，并且其厚度比晶圓片的厚度大的多，并且檔片在其制造過程中經(jīng)過高溫處理過程，故不易變形，并由此使其使用壽命大幅度延長(zhǎng)；（3）由于無需使用需要周期性更換的陪片，故顯著地降低了成本。????

附圖說明

結(jié)合附圖，本發(fā)明的技術(shù)特征以及優(yōu)點(diǎn)將會(huì)被本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解，其中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的擋片舟組件的示意性結(jié)構(gòu)圖；

圖2是包含根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的擋片舟組件的氧化擴(kuò)散工藝設(shè)備的示意性結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式