[發(fā)明專利]與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210502173.4
• 申請日: 2012-11-30
• 公開（公告）號: CN103021004A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蘇榮華;陳玉華;王吉遠;高洪生;林偉;余松林;王吉軍;黃艷萍;吳衛(wèi);劉曉鳴
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍61517部隊
• 主分類號: G06T11/00
• 分類號: G06T11/00;G06T7/00
• 代理公司: 北京中建聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 11004
• 代理人: 朱麗巖;劉湘舟

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種遮障面的生成制作方法，具體涉及一種與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法。

背景技術(shù)

基于圖像特征分析的目標(biāo)識別技術(shù)正日趨成熟。作為對抗，在尋找所有可能作為識別依據(jù)的目標(biāo)和背景特性基礎(chǔ)上，偽裝應(yīng)設(shè)法掩蓋目標(biāo)圖像與背景圖像在可探測的特征集上的差異。

在彩色影像上，起伏地表的陰影區(qū)域相比其他區(qū)域具有如下的一些特有屬性：①由于陰影區(qū)域太陽光線被阻擋，其亮度值更低；②由于大氣瑞利散射的影響使得陰影區(qū)域的散射光線主要來自波長更短的藍紫色光，其飽和度更高；③通過分析Phong光照模型得出，其色調(diào)值更大。

偽裝遮障面和起伏地表空間特征的不同導(dǎo)致了在陰影、亮度分布和色調(diào)等方面的明顯差異，從而導(dǎo)致了目標(biāo)的暴露。因此，有必要在實施遮障偽裝時考慮遮障面和需模擬區(qū)域的空間特征。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于為偽裝遮障面與起伏度較大的地表在空間特征上更加融合匹配而提供一種基于隨機中點與綜合相似度評價的與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法。

本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法，包括以下步驟：

1）獲取需模擬區(qū)域的正方形二維基平面的四個角點的高程；

2）利用所述的四個角點的高程，在所述正方形二維基平面上運用隨機中點法，通過多次迭代得到偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)；

3）分析所述需模擬區(qū)域與偽裝遮障面的空間特征參數(shù)，得出所述需模擬區(qū)域與偽裝遮障面的空間特征參數(shù)的相似度，并根據(jù)所述各空間特征參數(shù)的相似度，利用強制評分法得出所述需模擬區(qū)域與偽裝遮障面的綜合相似度；

4）所述綜合相似度符合要求時根據(jù)生成的偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)，制作與所述需模擬區(qū)域相匹配的偽裝遮障面；否則返回步驟2），重復(fù)以上步驟。

本發(fā)明中，所述空間特征參數(shù)包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及陰影函數(shù)。

本發(fā)明中，利用激光測距儀、經(jīng)緯儀或已測得的等高線圖，獲取所述需模擬區(qū)域的正方形二維基平面的四個角點的高程。

本發(fā)明中，所述的制作與需模擬區(qū)域相匹配的偽裝遮障面的步驟如下：

利用所述偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)將偽裝遮障面的二維基平面分割成多個相同的正方形遮障單元，每一正方形遮障單元等分成8個三角遮障單元；

利用所述偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)計算每個三角遮障單元的各邊邊長；

根據(jù)計算的三角遮障單元的各邊邊長，對每個正方形遮障單元的上表面進行連續(xù)裁剪，使每個正方形遮障單元的上表面的裁剪線最多為兩條；

采用縫合或粘接進行連接裁剪的邊，形成正方形遮障單元，所述正方形遮障單元間利用綁扎方式連接，制作而成偽裝遮障面。

本發(fā)明可利用該中點算法中的衰減因子來控制遮障面的粗糙度和起伏度以及平均高度的波動范圍，通過迭代次數(shù)來控制遮障面的精細程度；生成的偽裝遮障面與需模擬區(qū)域融合效果好，適用于模擬起伏度較大的地表，具有顯著的軍事和經(jīng)濟效益。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實施例提供的與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法的流程圖；

圖2是本發(fā)明實施例提供的二維基平面中點位移偏移法的示意圖；

圖3a—圖3c是計算高度相似度時不同取值下鐘形隸屬度函數(shù)的模型圖；

圖4是本發(fā)明實施例提供的偽裝遮障面的各遮障單元分割的示意圖；

圖5是本發(fā)明實施例提供的偽裝遮障面各遮障單元的邊長編號示意圖；

圖6是本發(fā)明實施例提供的偽裝遮障面各遮障單元的裁剪示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。

本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法，包括以下步驟：

1）獲取需模擬區(qū)域的需模擬區(qū)域的四個角點的高程；

2）利用所述四個角點的高程，在所述需模擬區(qū)域的正方形二維基平面上運用隨機中點法，通過多次迭代得到偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)；

3）分析所述需模擬區(qū)域與偽裝遮障面的空間特征參數(shù)，得出所述需模擬區(qū)域與偽裝遮障面的空間特征參數(shù)的相似度，并根據(jù)所述各空間特征參數(shù)的相似度，利用強制評分法得出所述需模擬區(qū)域與偽裝遮障面的綜合相似度；

4）所述綜合相似度符合要求時，根據(jù)生成的偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)，制作與需模擬區(qū)域相匹配的偽裝遮障面；否則返回步驟2），重復(fù)以上步驟。