[發明專利]與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法

無效

• 申請號: 201210502173.4
• 申請日: 2012-11-30
• 公開（公告）號: CN103021004A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 蘇榮華;陳玉華;王吉遠;高洪生;林偉;余松林;王吉軍;黃艷萍;吳衛;劉曉鳴
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍61517部隊
• 主分類號: G06T11/00
• 分類號: G06T11/00;G06T7/00
• 代理公司: 北京中建聯合知識產權代理事務所 11004
• 代理人: 朱麗巖;劉湘舟

1.一種與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）獲取需模擬區域的正方形二維基平面的四個角點的高程：

2）利用所述四個角點的高程，在所述正方形二維基平面上運用隨機中點法，通過多次迭代得到偽裝遮障面的特征點的高程數據；

3）分析所述需模擬區域與偽裝遮障面的空間特征參數，得出所述需模擬區域與偽裝遮障面的空間特征參數的相似度，并根據所述各空間特征參數的相似度，利用強制評分法得出一所述需模擬區域與偽裝遮障面的綜合相似度；

4）所述綜合相似度符合要求時根據生成的偽裝遮障面的特征點的高程數據，制作與所述需模擬區域相匹配的偽裝遮障面；否則返回步驟2），重復以上步驟。

2.根據權利要求1所述的與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，所述空間特征參數包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及陰影函數。

3.根據權利要求1或2所述的與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，利用激光測距儀、經緯儀或已測得的等高線圖，獲取所述需模擬區域的正方形二維基平面的四個角點的高程。

4.根據權利要求1所述的與起伏地表空間特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，所述的制作與需模擬區域相匹配的偽裝遮障面的步驟如下：

利用所述偽裝遮障面的特征點的高程數據將偽裝遮障面的二維基平面分割成多個相同的正方形遮障單元，每一正方形遮障單元等分成8個三角遮障單元；

利用所述偽裝遮障面的特征點的高程數據計算每個三角遮障單元的各邊邊長；

根據計算的三角遮障單元的各邊邊長，對每個正方形遮障單元的上表面進行連續裁剪，使每個正方形遮障單元的上表面的裁剪線最多為兩條；

采用縫合或粘接進行連接裁剪的邊，形成正方形遮障單元，所述的正方形遮障單元間利用綁扎方式連接，制作而成偽裝遮障面。