[發明專利]用于形成膜的方法

有效

• 申請號: 201210497506.9
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN103132117A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 溝口佳孝;平野浩司
• 申請（專利權）人: 關西涂料株式會社
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04;C25D9/02;C09D175/04;C09D5/44;C09D7/12
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;安佳寧

技術領域

本發明涉及膜形成方法，其包括在厚度為2μm至5μm的陽極氧化膜上形成干燥膜厚度為1μm至5μm的陰離子電沉積涂膜，所述陽極氧化膜具有平均孔徑為30nm至300nm的孔；以及涉及通過所述膜形成方法而獲得的具有優異抗沖擊性和耐水性的涂覆物品。

背景技術

輕質且強度、耐腐蝕性等方面優異的陽極氧化(耐酸鋁處理的)鋁材料在成型并在其上電沉積丙烯酸樹脂/三聚氰胺固化的陰離子電沉積涂料組合物以形成涂膜之后已用于各種建材，例如鋁窗框、金具、陽臺基材、屋頂材料、百葉窗、門、滑動門、門套以及陽光室。

在包括“陽極氧化和電沉積涂覆”步驟的常規鋁窗框制造方法中，例如，當要使電沉積涂膜在厚度為9μm的陽極氧化膜上形成7μm的干燥膜厚度時(參見關于涂膜結構的圖3)，對于陽極氧化而言，每平方米建材使用的電功率為1.32kWh/m²，而對于電沉積涂覆而言為0.15kWh/m²。

最近，為了滿足節能(功率節約、燃料節約)的要求，已經要求陽極氧化膜(2μm至5μm)和陰離子電沉積涂膜(干燥膜厚度：1μm至5μm)均變薄(參見關于涂膜結構的圖4)。已存在對使陽極氧化膜和陰離子電沉積涂膜均變薄、同時保持涂層性能的需求。

專利文獻(PTL)1公開了在厚度為約9μm的陽極氧化膜上形成的干燥膜厚度為1μm至7μm的特定陰離子電沉積涂膜。然而，當在非常薄的厚度為2μm至5μm的陽極氧化膜上形成干燥膜厚度為1μm至5μm的陰離子電沉積涂膜時，抗沖擊性和耐水性顯著降低。

現有技術文獻

專利文獻

PTL?1：第2007-9059號日本未審查專利公開

發明概述

技術問題

本發明的目的在于找到膜形成方法，其能在厚度為2μm至5μm的陽極氧化膜上形成干燥膜厚度為1μm至5μm的具有優異涂層性能的陰離子電沉積涂膜，并且提供具有優異的抗沖擊性、耐水性以及在陽極氧化膜孔內的電沉積涂膜可成形性的涂覆物品。

問題的解決方案

本發明人進行了廣泛的研究，并且發現通過包括下列的膜形成方法能實現該目的，所述方法包括將鋁材料浸入特定含水溶液(A)以在鋁材料表面上形成膜厚為2μm至5μm的陽極氧化膜，所述陽極氧化膜具有平均孔徑為30nm至300nm的孔，然后使陰離子電沉積涂料(B)電沉積在陽極氧化膜上以形成干燥膜厚度為1μm至5μm并且在所述陽極氧化膜孔內的深度大于等于1μm的電沉積涂膜。

更具體地，本發明提供了下列項：

1.用于形成膜的方法，其包括將鋁或鋁合金浸入磷酸水溶液或草酸水溶液(A)中，并使所述鋁或鋁合金的表面陽極氧化并形成厚度為2μm至5μm的陽極氧化膜，所述陽極氧化膜具有平均孔徑為30nm至300nm的孔，然后使陰離子電沉積涂料(B)電沉積在所述陽極氧化膜的表面上形成電沉積涂膜，所述電沉積涂膜的干燥膜厚自所述陽極氧化膜的表面計起為1μm至5μm，且所述電沉積涂膜在所述陽極氧化膜的孔內的深度大于等于1μm，其中，所述陰離子電沉積涂料(B)包含通過使包含含羧基的樹脂(b1)和嵌段異氰酸酯(b2)的樹脂組分分散在水中而獲得的平均粒徑為30nm至100nm的乳液，并且所述乳液的平均粒徑減去所述孔的平均孔徑等于或小于20nm。

2.如項1所述的方法，其中所述含羧基的樹脂(b1)是通過使包含含羧基的不飽和單體、聚醚改性的丙烯酸不飽和單體以及另一種自由基可聚合的不飽和單體的單體混合物自由基共聚而獲得的丙烯酸樹脂(b)。

3.如項1或2所述的方法，其中所述陰離子電沉積涂料組合物(B)包含由下列通式(1)表示的化合物：

其中R為含7至9個碳原子的烷基，并且n為10至16的整數。

4.如項1至3中任一項所述的方法，其中所述陽極氧化膜通過將鋁或鋁合金浸入磷酸水溶液或草酸水溶液(A)并以0.5A/dm²至3.0A/dm²的電流密度施加電流而形成。

5.涂覆的物品，其通過項1至4中任一項所述的方法而獲得。

本發明的有利效果