[發(fā)明專利]用于形成膜的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210497506.9 | 申請日： | 2012-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN103132117A | 公開（公告）日： | 2013-06-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 溝口佳孝;平野浩司 | 申請（專利權(quán)）人： | 關(guān)西涂料株式會社 |
| 主分類號： | C25D11/04 | 分類號： | C25D11/04;C25D9/02;C09D175/04;C09D5/44;C09D7/12 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11204 | 代理人： | 王達佐;安佳寧 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 形成 方法 | ||
1.用于形成膜的方法，其包括將鋁或鋁合金浸入磷酸水溶液或草酸水溶液(A)中，使所述鋁或鋁合金的表面陽極氧化并形成厚度為2μm至5μm的陽極氧化膜，所述陽極氧化膜具有平均孔徑為30nm至300nm的孔，然后使陰離子電沉積涂料(B)電沉積在所述陽極氧化膜的表面上形成電沉積涂膜，所述電沉積涂膜的干燥膜厚自所述陽極氧化膜的表面計起為1μm至5μm，且所述電沉積涂膜在所述陽極氧化膜的孔內(nèi)的深度大于等于1μm，其中，所述陰離子電沉積涂料(B)包含通過使包含含羧基的樹脂(b1)和嵌段異氰酸酯(b2)的樹脂組分分散在水中而獲得的平均粒徑為30nm至100nm的乳液，并且所述乳液的平均粒徑減去所述孔的平均孔徑等于或小于20nm。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述含羧基的樹脂(b?1)是通過使包含含羧基的不飽和單體、聚醚改性的丙烯酸不飽和單體以及另一種自由基可聚合的不飽和單體的單體混合物自由基共聚而獲得的丙烯酸樹脂(b)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述陰離子電沉積涂料(B)包含由下列通式(1)表示的化合物：
其中，R為含7至9個碳原子的烷基，n為10至16的整數(shù)。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述陽極氧化膜通過將鋁或鋁合金浸入磷酸水溶液或草酸水溶液(A)并以0.5A/dm2至3.0A/dm2的電流密度施加電流而形成。
5.涂覆的物品，其通過權(quán)利要求1至4中任一權(quán)利要求所述的方法而獲得。
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