[發(fā)明專利]低漏電流的Bi0.92Tb0.08Fe1‐xCrxO3 薄膜的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210497445.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102976764A | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 談國(guó)強(qiáng);董國(guó)華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 陜西科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C04B35/624 | 分類號(hào): | C04B35/624;C04B35/40 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 蔡和平 |
| 地址: | 710021 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 漏電 bi sub 0.92 tb 0.08 fe cr 薄膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于功能材料領(lǐng)域,涉及在功能化的FTO/glass基板表面制備Tb和Cr共摻雜低漏電流Bi0.92Tb0.08Fe1-xCrxO3薄膜的制備方法。
背景技術(shù)
BiFeO3是少數(shù)的單相多鐵材料之一,具有扭曲的鈣鈦礦結(jié)構(gòu)(屬于R3c點(diǎn)群),由立方結(jié)構(gòu)沿(111)方向拉伸而形成的一種偏離理想鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的菱形結(jié)構(gòu),在室溫下同時(shí)具有鐵電有序和反鐵磁有序,由于具有較高的鐵電相變溫度(TC=1103K)和磁相變溫度(TN=643K),在磁電傳感器,自旋電子器件,存儲(chǔ)器等方面有廣泛的應(yīng)用前景而得到關(guān)注。
BiFeO3薄膜最大的問題就是低電阻率,無法在室溫下測(cè)量其鐵電性質(zhì)。BiFeO3薄膜電學(xué)性質(zhì)的表現(xiàn)往往受到Fe3+離子價(jià)位變化的影響。一方面,鐵價(jià)態(tài)的波動(dòng)使得多余空穴的形成,從而造成電阻的下降;另一方面,鐵離子由+3價(jià)變成+2價(jià),在電位補(bǔ)償下形成氧空位,進(jìn)一步造成漏電。此外,由于鉍熔點(diǎn)較低,熱處理時(shí)造成揮發(fā),從而造成材料中形成許多缺陷,形成一些不純相。例如Bi2O3,Bi2Fe4O9,Bi25FeO40等,使漏電流增加。這些缺點(diǎn)都大大地限制了其應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種低漏電流的Bi0.92Tb0.08Fe1-xCrxO3薄膜的制備方法,該種方法能夠制備出在150kV/cm的測(cè)試電場(chǎng)下漏電流密度仍保持在10-4A/cm2以下的BiFeO3薄膜。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種低漏電流的Bi0.92Tb0.08Fe1-xCrxO3薄膜的制備方法,包括以下步驟:
步驟1:將Bi(NO3)3·5H2O、Fe(NO3)3·9H2O、Tb(NO3)3·6H2O和Cr(NO3)3·9H2O按摩爾比0.97∶1-x∶0.08∶x溶于乙二醇甲醚和醋酸酐的混合液中,形成混合溶液,向混合溶液中加入乙醇胺調(diào)節(jié)粘度及絡(luò)合程度,得到穩(wěn)定的BiFeO3前驅(qū)液,其中,BiFeO3前驅(qū)液中的金屬離子濃度為0.3mol/L,x=0.01~0.03,乙二醇甲醚、醋酸酐和乙醇胺的體積比為3.5∶1∶0.2;
步驟2:采用旋涂法和逐層退火的工藝得到Tb和Cr共摻晶態(tài)的低漏電流的Bi0.92Tb0.08Fe1-xCrxO3薄膜。
本發(fā)明進(jìn)一步的改進(jìn)在于,步驟2中重復(fù)旋涂和逐層退火步驟直到得到期望厚度的BiFeO3薄膜。
本發(fā)明進(jìn)一步的改進(jìn)在于,逐層退火的退火溫度為550℃,時(shí)間為5-10min,然后自然冷卻至室溫。
本發(fā)明進(jìn)一步的改進(jìn)在于,步驟1中x=0.01~0.02。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
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