[發明專利]一種去除死層的常規工藝電池片制備方法

有效

• 申請號: 201210495586.4
• 申請日: 2012-11-29
• 公開（公告）號: CN102983218A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 方智;王慶錢
• 申請（專利權）人: 浙江鴻禧光伏科技股份有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;C30B33/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種去除死層的常規工藝電池片制備方法，即在擴散后在用濕法刻蝕的機臺在PN結表面通過噴淋的方式進行反刻，反刻工藝采用按照一定比例混合的氫氟酸、硝酸、水的混合酸液，經過一定的反應時間，將表層P含量濃度最高的硅腐蝕掉，然后再經過水槽來去除表面酸殘留、堿洗來去除表面的多孔硅。

2.根據權利要求1所述的一種去除死層的常規工藝電池片制備方法，其特征在于經過擴散工藝后，方阻范圍控制在60±2Ω/□。

3.根據權利要求1所述的一種去除死層的常規工藝電池片制備方法，其特征在于反刻采用的混酸溶液中氫氟酸的體積分數為3±0.5%，硝酸的體積分數為25±1%，反應時間為15～20秒。

4.根據權利要求1所述的一種去除死層的常規工藝電池片制備方法，其特征在于反刻后的方阻范圍控制在75±2Ω/□。