[發(fā)明專利]反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210495300.2
• 申請日: 2012-11-28
• 公開（公告）號(hào): CN103853055A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邊國棟
• 申請（專利權(quán)）人: 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G05B19/04
• 分類號(hào): G05B19/04
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張大威

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及微電子技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制方法及裝置。

背景技術(shù)

反應(yīng)腔室烘烤工藝需要很高的真空條件，一般情況下真空要求達(dá)到10-8Torr量級(jí)。由于工藝腔內(nèi)部吸附有水等雜質(zhì)，單純靠真空泵抽很難達(dá)到要求的真空環(huán)境。現(xiàn)在，一般通過燈絲加熱的方式將吸附在工藝腔內(nèi)部的雜質(zhì)烘烤出來，再經(jīng)分子泵或冷凝泵抽走，從而獲得反應(yīng)腔室烘烤工藝需要的真空環(huán)境。這一方法稱為Bake?Out。

現(xiàn)有的腔室烘烤技術(shù)是根據(jù)經(jīng)驗(yàn)設(shè)定加熱燈絲的加熱功率和加熱時(shí)間，Bake?Out完成后，測試本地真空（Base?Pressure）和壓升率（Rate?Of?Rise）是否滿足工藝需求，如不滿足要求繼續(xù)Bake?Out直到滿足要求為止。為了避免Bake?Out不充分，重復(fù)BakeOut的問題，一般會(huì)設(shè)定較長的時(shí)間以保證Bake?Out充分。

現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)：在烘烤過程中存在重復(fù)Bake?Out的問題，而且Bake?Out時(shí)間比較長，工作效率低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的旨在至少解決所述技術(shù)缺陷之一或至少提供一種有用的商業(yè)選擇。

為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制方法，該控制方法具有Bake?Out時(shí)間短、效率高的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制裝置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明第一方面的實(shí)施例提出了一種反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制方法，用于獲得所述反應(yīng)腔室的真空環(huán)境；包括以下步驟：檢測反應(yīng)腔室的初始?jí)毫Γ婚_始烘烤加溫；實(shí)時(shí)獲取所述反應(yīng)腔室的壓力，從而得到所述反應(yīng)腔室的壓力變化趨勢；根據(jù)所述反應(yīng)腔室的壓力變化趨勢判斷所述反應(yīng)腔室所處的壓力狀態(tài)；當(dāng)所述壓力狀態(tài)達(dá)到預(yù)定狀態(tài)時(shí)結(jié)束烘烤。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制方法，能夠一次性完成Bake?Out，避免重復(fù)多次Bake?Out，從而減少Bake?Out時(shí)間，提高Bake?Out的效率。另外，該方法根據(jù)反應(yīng)腔室內(nèi)的壓力變化趨勢自動(dòng)控制Bake?Out的時(shí)間，具有精度高的優(yōu)點(diǎn)，從而保證反應(yīng)腔室內(nèi)滿足工藝要求。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制方法還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述預(yù)定狀態(tài)為所述反應(yīng)腔室獲得真空環(huán)境的狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述預(yù)定狀態(tài)為所述反應(yīng)腔室的壓力經(jīng)歷了下降趨勢后一直保持不變的狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述壓力狀態(tài)包括第一壓力狀態(tài)至第四壓力狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述第一壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力成上升狀態(tài)，所述第二壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力為穩(wěn)定狀態(tài)，所述第三壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力成下降狀態(tài)，所述第四壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力為穩(wěn)定狀態(tài)，所述預(yù)定狀態(tài)為所述第四壓力狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述第四壓力狀態(tài)的壓力值小于所述第二壓力狀態(tài)的壓力值。

本發(fā)明第二方面的實(shí)施例提出了一種反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制裝置，用于獲得所述反應(yīng)腔室的真空環(huán)境，包括：檢測模塊，用于實(shí)時(shí)檢測反應(yīng)腔室中的壓力；計(jì)算模塊，用于計(jì)算相鄰兩次壓力之差，從而獲得所述反應(yīng)腔室的壓力變化趨勢；判斷模塊，用于根據(jù)所述壓力變化趨勢判斷所述反應(yīng)腔室所處的壓力狀態(tài)；以及控制模塊，用于當(dāng)所述壓力狀態(tài)達(dá)到預(yù)定狀態(tài)時(shí)結(jié)束烘烤。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制裝置，能夠一次性完成Bake?Out，避免重復(fù)多次Bake?Out，從而減少Bake?Out時(shí)間，提高Bake?Out的效率。另外，該方法根據(jù)反應(yīng)腔室內(nèi)的壓力變化趨勢自動(dòng)控制Bake?Out的時(shí)間，具有精度高的優(yōu)點(diǎn)，從而保證反應(yīng)腔室內(nèi)滿足工藝要求。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的反應(yīng)腔室烘烤的實(shí)時(shí)控制裝置還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述預(yù)定狀態(tài)為所述反應(yīng)腔室獲得真空環(huán)境的狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述預(yù)定狀態(tài)為所述反應(yīng)腔室的壓力經(jīng)歷了下降趨勢后一直保持不變的狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述壓力狀態(tài)包括第一壓力狀態(tài)至第四壓力狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述第一壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力成上升狀態(tài)，所述第二壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力為穩(wěn)定狀態(tài)，所述第三壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力成下降狀態(tài)，所述第四壓力狀態(tài)中所述腔室的壓力為穩(wěn)定狀態(tài)，所述預(yù)定狀態(tài)為所述第四壓力狀態(tài)。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述第四壓力狀態(tài)的壓力值小于所述第二壓力狀態(tài)的壓力值。