[發明專利]反應腔室烘烤的實時控制方法及裝置有效
| 申請號： | 201210495300.2 | 申請日： | 2012-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN103853055A | 公開（公告）日： | 2014-06-11 |
| 發明（設計）人： | 邊國棟 | 申請（專利權）人： | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號： | G05B19/04 | 分類號： | G05B19/04 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張大威 |
| 地址： | 100176 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反應 烘烤 實時 控制 方法 裝置 | ||
1.一種反應腔室烘烤的實時控制方法，用于獲得所述反應腔室的真空環境；其特征在于，包括以下步驟：
檢測反應腔室的初始壓力；
開始烘烤加溫；
實時獲取所述反應腔室的壓力，從而得到所述反應腔室的壓力變化趨勢；
根據所述反應腔室的壓力變化趨勢判斷所述反應腔室所處的壓力狀態；
當所述壓力狀態達到預定狀態時結束烘烤。
2.如權利要求1所述的反應腔室烘烤的實時控制方法，其特征在于，所述預定狀態為所述反應腔室獲得真空環境的狀態。
3.如權利要求1所述的反應腔室烘烤的實時控制方法，其特征在于，所述預定狀態為所述反應腔室的壓力經歷了下降趨勢后一直保持不變的狀態。
4.如權利要求1所述的反應腔室烘烤的實時控制方法，其特征在于，所述壓力狀態包括第一壓力狀態至第四壓力狀態。
5.如權利要求4所述的反應腔室烘烤的實時控制方法，其特征在于，其中，所述第一壓力狀態中所述腔室的壓力成上升狀態，所述第二壓力狀態中所述腔室的壓力為穩定狀態，所述第三壓力狀態中所述腔室的壓力成下降狀態，所述第四壓力狀態中所述腔室的壓力為穩定狀態，所述預定狀態為所述第四壓力狀態。
6.如權利要求5所述的反應腔室烘烤的實時控制方法，其特征在于，其中，所述第四壓力狀態的壓力值小于所述第二壓力狀態的壓力值。
7.一種反應腔室烘烤的實時控制裝置，用于獲得所述反應腔室的真空環境；其特征在于，包括：
檢測模塊，用于實時檢測反應腔室中的壓力；
計算模塊，用于計算相鄰兩次壓力之差，從而獲得所述反應腔室的壓力變化趨勢；
判斷模塊，用于根據所述壓力變化趨勢判斷所述反應腔室所處的壓力狀態；以及
控制模塊，用于當所述壓力狀態達到預定狀態時結束烘烤。
8.如權利要求7所述的反應腔室烘烤的實時控制裝置，其特征在于，所述預定狀態為所述反應腔室獲得真空環境的狀態。
9.如權利要求7所述的反應腔室烘烤的實時控制裝置，其特征在于，所述預定狀態為所述反應腔室的壓力經歷了下降趨勢后一直保持不變的狀態。
10.如權利要求7所述的反應腔室烘烤的實時控制裝置，其特征在于，所述壓力狀態包括第一壓力狀態至第四壓力狀態。
11.如權利要求10所述的反應腔室烘烤的實時控制裝置，其特征在于，其中，所述第一壓力狀態中所述腔室的壓力成上升狀態，所述第二壓力狀態中所述腔室的壓力為穩定狀態，所述第三壓力狀態中所述腔室的壓力成下降狀態，所述第四壓力狀態中所述腔室的壓力為穩定狀態，所述預定狀態為所述第四壓力狀態。
12.如權利要求11所述的反應腔室烘烤的實時控制裝置，其特征在于，其中，所述第四壓力狀態的壓力值小于所述第二壓力狀態的壓力值。
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