[發(fā)明專利]一種減小電子激勵(lì)脫附中性粒子誤差的極高真空測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210490416.7 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102928154A | 公開(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 習(xí)振華;李得天;馮焱;成永軍;馬奔;劉珈彤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一〇研究所 |
| 主分類號(hào): | G01L21/30 | 分類號(hào): | G01L21/30 |
| 代理公司: | 北京理工大學(xué)專利中心 11120 | 代理人: | 楊志兵;付雷杰 |
| 地址: | 730000 甘*** | 國(guó)省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 減小 電子 激勵(lì) 中性 粒子 誤差 極高 真空 測(cè)量方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種減小電子激勵(lì)脫附(Electron?stimulated?desorption,ESD)中性粒子誤差的極高真空測(cè)量方法,特別是采用具有能量分析器結(jié)構(gòu)四極質(zhì)譜計(jì)實(shí)現(xiàn)超高/極高真空系統(tǒng)的真空度測(cè)量方法,屬于測(cè)量領(lǐng)域。
背景技術(shù)
熱陰極電離規(guī)的柵極表面ESD效應(yīng)會(huì)產(chǎn)生ESD離子和ESD中性粒子,ESD離子與氣相離子具有能量差。文獻(xiàn)“極高真空技術(shù)的發(fā)展,《宇航計(jì)測(cè)技術(shù)》第29卷、2009年第5期、第71頁(yè)~76頁(yè)”,介紹了多種有效分離ESD離子,減小極高真空測(cè)量限制因素即ESD效應(yīng)的極高真空電離規(guī)。該文獻(xiàn)指出,在極高真空測(cè)量中,ESD效應(yīng)與軟X線效應(yīng)、陰極出氣效應(yīng)一同被認(rèn)為是影響熱陰極電離規(guī)極高真空測(cè)量下限的主要限制因素,通常不同結(jié)構(gòu)的極高真空電離規(guī)利用ESD離子與氣相離子的能量差實(shí)現(xiàn)兩種離子分離,達(dá)到延伸測(cè)量下限及提高測(cè)量準(zhǔn)確度的目的。
采用此類極高真空電離規(guī)測(cè)量的優(yōu)點(diǎn)在于有效避免ESD離子引入的測(cè)量誤差。不足之處是當(dāng)真空系統(tǒng)的極限壓力小于10-8Pa時(shí),ESD中性粒子產(chǎn)生的離子與氣相離子具有相同的能量,且通常ESD中性粒子分量遠(yuǎn)大于ESD離子分量,此類極高真空電離規(guī)無(wú)法區(qū)分ESD中性粒子產(chǎn)生的離子與氣相離子,無(wú)法實(shí)現(xiàn)極高真空準(zhǔn)確測(cè)量。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種減小電子激勵(lì)脫附中性粒子誤差的極高真空測(cè)量方法,所述方法解決了全壓力測(cè)量中分離規(guī)等能夠有效分離ESD離子及氣相離子,但不能區(qū)分氣相離子中摻雜的ESD中性粒子產(chǎn)生離子的問(wèn)題;減小了極高真空測(cè)量的誤差,延伸了準(zhǔn)確測(cè)量的下限。
本發(fā)明的目的由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種減小電子激勵(lì)脫附中性粒子誤差的極高真空測(cè)量方法,所述方法采用的裝置包括:真空閥門、電離規(guī)、真空室、真空泵組和四極質(zhì)譜計(jì);其中,真空閥門、電離規(guī)、真空泵組、四極質(zhì)譜計(jì)分別與真空室相連;
所述四極質(zhì)譜計(jì)為離子源與四極桿之間裝有能量分析器的可分離電子激勵(lì)脫附離子與氣相離子的四極質(zhì)譜計(jì);
所述真空閥門為全金屬結(jié)構(gòu);
所述電離規(guī)的測(cè)量下限為10-10Pa量級(jí);
所述方法步驟如下:
(1)保持真空閥門為關(guān)閉狀態(tài),打開真空泵組,對(duì)真空室進(jìn)行抽氣;
(2)當(dāng)真空室的真空度降至10-6Pa量級(jí)時(shí),對(duì)整個(gè)裝置進(jìn)行烘烤除氣,真空閥門、電離規(guī)、真空室及四極質(zhì)譜計(jì)分別以30℃/h勻速率分別升至各自最高烘烤溫度,保持60~80小時(shí),其中,真空閥門、電離規(guī)以及四極質(zhì)譜計(jì)的最高烘烤溫度為150℃,真空室的最高烘烤溫度為350℃;待真空室以30℃/h勻速率逐漸降至150℃后,對(duì)電離規(guī)及四極質(zhì)譜計(jì)除氣3~5分鐘,真空閥門、電離規(guī)、真空室及四極質(zhì)譜計(jì)同時(shí)以30℃/h勻速率降至室溫,然后連續(xù)抽氣,用電離規(guī)測(cè)量真空室內(nèi)真空度,直至真空室內(nèi)的極限真空度達(dá)到10-9Pa數(shù)量級(jí),關(guān)閉真空泵組;
(3)打開四極質(zhì)譜計(jì),穩(wěn)定1~3小時(shí)以上;
(4)設(shè)定四極質(zhì)譜計(jì)的能量分析器中反射極電壓為氣相離子對(duì)應(yīng)電壓,使得只有氣相離子及電子激勵(lì)脫附中性粒子產(chǎn)生的離子能夠通過(guò),記錄不同質(zhì)量數(shù)譜峰對(duì)應(yīng)的離子流值,并確定真空室內(nèi)的氣體成分;
(5)設(shè)定四極質(zhì)譜計(jì)的能量分析器中反射極電壓為電子激勵(lì)脫附離子對(duì)應(yīng)電壓,使得只有電子激勵(lì)脫附離子能夠通過(guò),記錄不同質(zhì)量數(shù)譜峰對(duì)應(yīng)的電子激勵(lì)脫附離子流值;并參考步驟(4)中確定的真空室內(nèi)氣體成分確定其中可能導(dǎo)致電子激勵(lì)脫附離子及中性粒子產(chǎn)生的氣體成分;
(6)根據(jù)步驟(5)確定的可能導(dǎo)致電子激勵(lì)脫附離子及中性粒子產(chǎn)生的氣體成分,參考四極質(zhì)譜計(jì)手冊(cè)提供氣體成分譜峰各碎片峰相對(duì)豐度系數(shù),計(jì)算得到真空室內(nèi)氣體成分對(duì)各碎片峰離子流值的貢獻(xiàn)量;
(7)利用步驟(4)中與步驟(6)相對(duì)應(yīng)的質(zhì)量數(shù)碎片峰的離子流值減去步驟(6)的計(jì)算結(jié)果,得到實(shí)際電子激勵(lì)脫附中性粒子產(chǎn)生的離子流值;
(8)步驟(4)中四極質(zhì)譜計(jì)各分壓力離子流值之和減去步驟(7)中實(shí)際電子激勵(lì)脫附中性粒子產(chǎn)生的離子流值,得到準(zhǔn)確極高真空測(cè)量結(jié)果。
原理:
本發(fā)明所述方法利用ESD離子與氣相離子之間的能量差,實(shí)現(xiàn)二者的分離,當(dāng)能量分析器中反射極電壓設(shè)定為ESD離子對(duì)應(yīng)電壓時(shí),只有ESD離子能夠通過(guò);當(dāng)能量分析器中反射極電壓設(shè)定為氣相離子對(duì)應(yīng)電壓時(shí),只有氣相離子及ESD中性粒子產(chǎn)生的離子能夠通過(guò)。
有益效果
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一〇研究所,未經(jīng)中國(guó)航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一〇研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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G01L 測(cè)量力、應(yīng)力、轉(zhuǎn)矩、功、機(jī)械功率、機(jī)械效率或流體壓力
G01L21-00 真空計(jì)
G01L21-02 .具有壓縮待測(cè)氣體的壓縮室的
G01L21-08 .通過(guò)測(cè)量在介質(zhì)中傳播的聲波變化而測(cè)出介質(zhì)壓力的
G01L21-10 .通過(guò)測(cè)量介質(zhì)熱導(dǎo)率的變化而測(cè)出介質(zhì)壓力的
G01L21-16 .通過(guò)測(cè)量氣體摩擦阻力變化的
G01L21-26 .利用輻射作用的,即利用由較熱構(gòu)件進(jìn)入到較冷構(gòu)件的分子動(dòng)量引起的壓力的作用的;孔德森
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