[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210479913.7 | 申請日: | 2012-11-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103633059A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂文雄;鄭明達(dá);吳逸文;蔡鈺芃;杜家瑋;劉重希 | 申請(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/498 | 分類號(hào): | H01L23/498;H01L21/48 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孫征 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 及其 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體封裝件,包括:
半導(dǎo)體襯底;
接觸焊盤,位于所述半導(dǎo)體襯底上方;
互連層,位于所述接觸焊盤上方;
鈍化層,形成在所述接觸焊盤和所述互連層之間;
凸塊,位于所述互連層上方;以及
保護(hù)層,具有頂面,并且位于所述互連層和所述鈍化層上方并覆蓋所述凸塊的下部;
其中,所述保護(hù)層包括彎曲表面區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,還包括位于所述鈍化層和所述互連層之間的聚合物層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,還包括位于所述保護(hù)層和所述互連層之間的聚合物層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,還包括位于所述凸塊和所述互連層之間的金屬化層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,還包括位于所述半導(dǎo)體襯底和所述接觸焊盤之間的介電層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,其中,所述凸塊直接位于所述接觸焊盤的上方。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,其中,所述保護(hù)層的所述頂面包括最高點(diǎn)和最低點(diǎn),并且水平線與形成在所述最低點(diǎn)和所述最高點(diǎn)之間的斜線之間的角度在約10度和約50度之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝件,其中,所述保護(hù)層的所述頂面包括最低點(diǎn)和最高點(diǎn),并且所述最低點(diǎn)和所述最高點(diǎn)之間的距離在約5μm和約40μm之間。
9.一種半導(dǎo)體封裝件,包括:
半導(dǎo)體襯底;
接觸焊盤,位于所述半導(dǎo)體襯底上方;
互連層,位于所述接觸焊盤上方;
鈍化層,形成在所述接觸焊盤和所述互連層之間;
凸塊,位于所述互連層上方;以及
模塑料層,具有頂面,并且位于所述互連層和所述鈍化層上方并覆蓋所述凸塊的下部;
其中,所述模塑原料層的所述頂面包括彎曲表面區(qū)和平坦表面區(qū),所述彎曲表面區(qū)位于所述凸塊和所述平坦表面區(qū)之間。
10.一種形成器件的方法,包括:
在襯底上方形成互連件;
形成電連接至所述互連件的凸塊;
用液體模塑料覆蓋所述凸塊,所述液體模塑料具有位于所述凸塊之上的頂面;
向下擠壓所述液體模塑料的所述頂面同時(shí)進(jìn)行固化,從而形成固化模塑料,所述固化模塑料具有包括第一平坦區(qū)和第二彎曲區(qū)的頂面,所述第二彎曲區(qū)與所述凸塊的形狀一致;以及
去除所述第二彎曲區(qū)的一部分以露出所述凸塊。
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