[發(fā)明專利]暗室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210479010.9 | 申請日： | 2012-11-22 |
| 公開（公告）號： | CN103812585A | 公開（公告）日： | 2014-05-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉克峰;漆一宏;謝喬治;謝輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市鼎立方無線技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | H04B17/00 | 分類號： | H04B17/00 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張大威 |
| 地址： | 518102 廣東省深圳市寶安區(qū)西*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 暗室 | ||
1.一種暗室，其特征在于，包括：
屏蔽箱體；
吸波材料層，所述吸波材料層設(shè)在所述屏蔽箱體的內(nèi)壁上；和
多個測量天線，多個所述測量天線設(shè)在所述屏蔽箱體的內(nèi)壁上且適于與所述屏蔽箱體外面的電纜相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗室，其特征在于，所述屏蔽箱體為球形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗室，其特征在于，所述屏蔽箱體為柱狀且所述屏蔽箱體的橫截面為圓形或正多邊形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的暗室，其特征在于，所述正多邊形的邊數(shù)為N，且N≥3。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的暗室，其特征在于，所述正多邊形的邊數(shù)N為12，且所述測量天線的數(shù)量為5個。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線中的任意兩個在所述屏蔽箱體的徑向上彼此錯開。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的暗室，其特征在于，所述屏蔽箱體限定有縱軸線，所述多個測量天線布置在與所述屏蔽箱體的縱軸線正交的同一平面內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線的第一端安裝在所述屏蔽箱體的內(nèi)壁上且位于以所述屏蔽箱體的縱向中心線為圓心的同一圓周上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線的第二端位于以所述屏蔽箱體的縱向中心線為圓心的同一圓周上。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線中的任意兩個測量天線的軸向彼此相交。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的暗室，其特征在于，所述吸波材料層的內(nèi)表面為齒狀面。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的暗室，其特征在于，所述吸波材料層的內(nèi)表面上的齒為離散分布的正多棱錐狀齒。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線被覆蓋在所述吸波材料層內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線的第一端安裝在所述屏蔽箱體的內(nèi)壁上且所述多個測量天線的第二端從所述吸波材料層露出。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的暗室，其特征在于，所述多個測量天線的第二端延伸超出所述吸波材料層的內(nèi)表面預(yù)定距離。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗室，其特征在于，所述屏蔽箱體的外壁上設(shè)有用于容納與所述測量天線相連的電纜且沿所述屏蔽箱體的周向延伸的電纜槽。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的暗室，其特征在于，所述電纜槽上設(shè)有槽蓋。
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