[發明專利]曝光裝置的控制方法、曝光方法及組件制造方法

無效

• 申請號: 201210468689.1
• 申請日: 2005-08-01
• 公開（公告）號: CN102998910A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 大和壯一;長坂博之;菅原龍
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 許海蘭

1.一種曝光裝置的控制方法，透過液浸區域的液體將基板曝光，其特征在于包含以下步驟：

通過從供應口供應液體，并且將從上述供應口所供應的液體從設置有多孔質的回收口回收，以在最靠近投影光學系統的像面的第1光學元件之下形成液浸區域；

判斷上述液浸區域是否為期望狀態；及以邊抑制上述液浸區域的液體從第1載臺與第2載臺的間隙流出，邊在上述投影光學系統的像面側的光路空間填滿上述液體的狀態下在上述第1載臺上與上述第2載臺上之間移動上述液浸區域的方式，在上述第1載臺與上述第2載臺接近的狀態下，在上述投影光學系統的像面側一起移動上述第1載臺與上述第2載臺。

2.如權利要求1所述的控制方法，其中，

上述第1載臺能保持基板而移動；

上述第2載臺構成為不保持基板，能保持用以進行與曝光處理相關的測量的測量器而移動。

3.如權利要求1所述的控制方法，其中，

當上述第1載臺從上述投影光學系統之下移動時，上述液浸區域從上述第1載臺上移動至上述第2載臺上。

4.如權利要求3所述的控制方法，其中，

為了進行上述基板的更換，上述第1載臺從上述投影光學系統之下移動。

5.如權利要求3所述的控制方法，其中，

當上述第1載臺往上述投影光學系統之下移動時，上述液浸區域從上述第2載臺上移動至上述第1載臺上。

6.如權利要求1至5中任一項所述的控制方法，其中，

上述回收口設置于以包圍上述投影光學系統的前端部的方式而配置的噴嘴構件的下表面，

上述噴嘴構件的下表面與保持于上述第1載臺的上述基板的表面相對。

7.一種曝光方法，透過形成于光學元件的光射出側的液浸區域的液體將基板曝光，其特征在于包含以下步驟：

透過上述液浸區域的液體將基板曝光；

將已曝光的基板與未曝光的基板更換；及

在基板的更換中，檢測上述液浸區域的液體中的氣體部分。

8.一種組件制造方法，其特征在于包含以下步驟：

利用權利要求7所述的曝光方法來將基板曝光；

將已曝光的基板顯影；及

將已顯影的基板加工。