[發(fā)明專(zhuān)利]曝光裝置的控制方法、曝光方法及組件制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210468689.1
• 申請(qǐng)日: 2005-08-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102998910A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大和壯一;長(zhǎng)坂博之;菅原龍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 許海蘭

1.一種曝光裝置的控制方法，透過(guò)液浸區(qū)域的液體將基板曝光，其特征在于包含以下步驟：

通過(guò)從供應(yīng)口供應(yīng)液體，并且將從上述供應(yīng)口所供應(yīng)的液體從設(shè)置有多孔質(zhì)的回收口回收，以在最靠近投影光學(xué)系統(tǒng)的像面的第1光學(xué)元件之下形成液浸區(qū)域；

判斷上述液浸區(qū)域是否為期望狀態(tài)；及以邊抑制上述液浸區(qū)域的液體從第1載臺(tái)與第2載臺(tái)的間隙流出，邊在上述投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)鹊墓饴房臻g填滿上述液體的狀態(tài)下在上述第1載臺(tái)上與上述第2載臺(tái)上之間移動(dòng)上述液浸區(qū)域的方式，在上述第1載臺(tái)與上述第2載臺(tái)接近的狀態(tài)下，在上述投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)纫黄鹨苿?dòng)上述第1載臺(tái)與上述第2載臺(tái)。

2.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，

上述第1載臺(tái)能保持基板而移動(dòng)；

上述第2載臺(tái)構(gòu)成為不保持基板，能保持用以進(jìn)行與曝光處理相關(guān)的測(cè)量的測(cè)量器而移動(dòng)。

3.如權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，

當(dāng)上述第1載臺(tái)從上述投影光學(xué)系統(tǒng)之下移動(dòng)時(shí)，上述液浸區(qū)域從上述第1載臺(tái)上移動(dòng)至上述第2載臺(tái)上。

4.如權(quán)利要求3所述的控制方法，其中，

為了進(jìn)行上述基板的更換，上述第1載臺(tái)從上述投影光學(xué)系統(tǒng)之下移動(dòng)。

5.如權(quán)利要求3所述的控制方法，其中，

當(dāng)上述第1載臺(tái)往上述投影光學(xué)系統(tǒng)之下移動(dòng)時(shí)，上述液浸區(qū)域從上述第2載臺(tái)上移動(dòng)至上述第1載臺(tái)上。

6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的控制方法，其中，

上述回收口設(shè)置于以包圍上述投影光學(xué)系統(tǒng)的前端部的方式而配置的噴嘴構(gòu)件的下表面，

上述噴嘴構(gòu)件的下表面與保持于上述第1載臺(tái)的上述基板的表面相對(duì)。

7.一種曝光方法，透過(guò)形成于光學(xué)元件的光射出側(cè)的液浸區(qū)域的液體將基板曝光，其特征在于包含以下步驟：

透過(guò)上述液浸區(qū)域的液體將基板曝光；

將已曝光的基板與未曝光的基板更換；及

在基板的更換中，檢測(cè)上述液浸區(qū)域的液體中的氣體部分。

8.一種組件制造方法，其特征在于包含以下步驟：

利用權(quán)利要求7所述的曝光方法來(lái)將基板曝光；

將已曝光的基板顯影；及

將已顯影的基板加工。