[發(fā)明專利]一種薄膜太陽電池的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210465444.3 | 申請日: | 2012-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN102943238A | 公開(公告)日: | 2013-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李微 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第十八研究所 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58;H01L31/18 |
| 代理公司: | 天津市鼎和專利商標(biāo)代理有限公司 12101 | 代理人: | 李鳳 |
| 地址: | 300384 天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 太陽電池 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于太陽能電池器件制備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種薄膜太陽電池的制備方法。
背景技術(shù)
以黃銅礦結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體銅銦硒(CuInSe2,簡寫為CIS)系列混溶晶體為直接帶隙材料,以其作為吸收層的薄膜太陽電池,被認(rèn)為是最有發(fā)展前景的第三代化合物光伏電池之一,其組成包括:CuInSe2,CuIn1-XGaxSe2,CuInS2,CuIn1-XGaxS2,CuIn1-XGaxSe2-ySy等。現(xiàn)有的銅銦鎵硒(硫)薄膜太陽電池,是在20世紀(jì)80年代后期開發(fā)出來的新型太陽電池,是在鈉鈣玻璃、金屬箔(不銹鋼箔、鈦箔、鉬箔、鋁箔等)或聚酰亞胺膜襯底上分別沉積多層薄膜構(gòu)成的光伏器件,典型結(jié)構(gòu)為如下的多層膜結(jié)構(gòu):襯底/底電極/吸收層/緩沖層/窗口層/減反射膜/上電極。
研究表明,吸收層銅銦鎵硒(硫)薄膜對電池性能起著決定性的作用。由于元素成分多、結(jié)構(gòu)復(fù)雜,主要由Cu、In、Ga、Se或/和S四種或五種元素合成,是由多種相互固溶的化合物構(gòu)成,光學(xué)吸收層中各元素的化學(xué)配比及其分布是決定電池性能的重要因素。
在銅銦鎵硒薄膜太陽電池中,吸收層銅銦鎵硒/硫薄膜的制備方法主要分為兩類:第一類方法是多元共蒸發(fā)法,即以Cu、In、Ga和Se為源在真空室中進(jìn)行反應(yīng)共蒸發(fā),或?qū)u+Se、In+Se、Ga+Se等二元分布共蒸發(fā)。共蒸發(fā)法要求每種元素的蒸發(fā)速率和在襯底上的沉積量都要求精確控制,才能得到均勻的薄膜,提高了電池的制作成本;第二類方法是金屬預(yù)制層后硒化法,即先在襯底上按配比沉積Cu、In、Ga層,再在Se氣氛中Se化,形成滿足配比要求的CuIn1-XGaxSe2多晶薄膜,或用硫替代硒,進(jìn)行硫化反應(yīng)或先硒后硫分步法的化學(xué)熱處理,形成CuIn1-XGaxS2或CuIn1-XGaxSe2-XS2薄膜。第二類方法由于其利于產(chǎn)業(yè)化等優(yōu)點(diǎn)而受到廣泛關(guān)注,其中尤其以濺射后硒化方法應(yīng)用最廣泛,其技術(shù)特點(diǎn)為采用單質(zhì)或合金靶材濺射金屬預(yù)制膜Cu-In-Ga,而后采用硒化氫或固態(tài)硒源硒化,由于硒化氫劇毒而采用固態(tài)硒源則制備的吸收層薄膜的成分不易控制,使得制備的吸收層薄膜的性能低,造成制備的薄膜太陽電池性能低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決背景技術(shù)中存在的技術(shù)問題而提供吸收層性能高,有利于提高薄膜太陽電池性能,并且制備過程簡便、過程可控、工藝重復(fù)性好的一種薄膜太陽電池的制備方法。
本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:
一種薄膜太陽電池的制備方法,以玻璃、柔性金屬或聚酰亞胺膜作為襯底,包括在襯底上依次制備底電極、吸收層、緩沖層、窗口層和上電極,其特點(diǎn)是:所述吸收層包括以下制備步驟:⑴采用CuIn1-XGaxSe2化合物靶材,通過射頻磁控濺射法,在襯底的底電極上制備CuIn1-XGaxSe2層,⑵對⑴中制有CuIn1-XGaxSe2層的襯底進(jìn)行退火處理,底電極上得到CuIn1-XGaXSe2化合物半導(dǎo)體薄膜作為吸收層。
本發(fā)明還可以采用如下技術(shù)方案:
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





