[發明專利]銪摻雜二氧化鋯發光薄膜、制備方法及其應用

無效

• 申請號: 201210456899.9
• 申請日: 2012-11-14
• 公開（公告）號: CN103805182A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 周明杰;王平;陳吉星;黃輝
• 申請（專利權）人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司
• 主分類號: C09K11/67
• 分類號: C09K11/67;H01L33/50
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

【技術領域】

本發明涉及一種銪摻雜二氧化鋯發光薄膜及其制備方法、以及薄膜電致發光器件及其制備方法。

【背景技術】

薄膜電致發光顯示器(TFELD)由于其主動發光、全固體化、耐沖擊、反應快、視角大、適用溫度寬、工序簡單等優點，已引起了廣泛的關注，且發展迅速。目前，研究彩色及至全色TFELD，開發多波段發光的薄膜，是該課題的發展方向。但是，可應用于薄膜電致發光顯示器的銪摻雜二氧化鋯發光薄膜，仍未見報道。

【發明內容】

基于此，有必要提供一種可應用于薄膜電致發光器件的銪摻雜二氧化鋯發光薄膜及其制備方法、以及該銪摻雜二氧化鋯發光薄膜電致發光器件及其制備方法。

一種銪摻雜二氧化鋯發光薄膜，其化學式為ZrO₂:xEu³⁺，其中ZrO₂是基質，銪元素是激活元素，0.01≤x≤0.08。

在優選的實施例中，銪摻雜二氧化鋯發光薄膜的厚度為80nm～300nm。

一種銪摻雜二氧化鋯發光薄膜的制備方法，包括以下步驟：

將襯底裝入化學氣相沉積設備的反應室中，并將反應室的真空度設置為1.0×10^-2Pa～1.0×10^-3Pa；

調節襯底的溫度為250℃～650℃，轉速為50轉/分鐘～1000轉/分鐘，采用氬氣氣流的載體，根據ZrO₂:xEu³⁺各元素的化學計量比將四(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)鋯和三(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)銪通入反應室內，及

然后通入氧氣，進行化學氣相沉積得到銪摻雜二氧化鋯發光薄膜其化學式為ZrO₂:xEu³⁺，其中，ZrO₂是基質，銪元素是激活元素，0.01≤x≤0.08。

在優選的實施例中，四(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)鋯和三(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)銪摩爾比為(0.92～0.99)∶(0.01～0.08)。

在更優選的實施例中，四(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)鋯和三(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)銪摩爾比為0.95∶0.05。

在優選實施例中，氬氣氣流量為5～15sccm，氧氣氣流量為10～200sccm。

一種薄膜電致發光器件，該薄膜電致發光器件包括依次層疊的襯底、陽極層、發光層以及陰極層，所述發光層的材料為銪摻雜二氧化鋯發光薄膜，該銪摻雜二氧化鋯發光薄膜的化學式為ZrO₂:xEu³⁺，其中ZrO₂是基質，銪元素是激活元素，0.01≤x≤0.08。

在優選的實施例中，發光層的厚度為80nm～300nm。

一種薄膜電致發光器件的制備方法，包括以下步驟：

提供具有陽極的襯底；

在所述陽極上形成發光層，所述發光層的材料為銪摻雜二氧化鋯發光薄膜，該銪摻雜二氧化鋯發光薄膜的化學式為ZrO₂:xEu³⁺，其中ZrO₂是基質，銪元素是激活元素，0.01≤x≤0.08；

在所述發光層上形成陰極。

在優選的實施例中，所述發光層的制備包括以下步驟：

將襯底裝入化學氣相沉積設備的反應室中，并將反應室的真空度設置為1.0×10^-2Pa～1.0×10^-3Pa；

調節襯底的溫度為250℃～650℃，轉速為50轉/分鐘～1000轉/分鐘，采用氬氣氣流的載體，根據ZrO₂:xEu³⁺各元素的化學計量比將四(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)鋯和三(2，2，6，6-四甲基-3，5-庚二酮酸)銪通入反應室內，其中，氬氣氣流量為5～15sccm，及

然后通入氧氣，流量為10～200sccm；進行化學氣相沉積得到發光層化學式為ZrO₂:xEu³⁺，其中ZrO₂是基質，銪元素是激活元素，0.01≤x≤0.08。

上述銪摻雜二氧化鋯發光薄膜(ZrO₂:xEu³⁺)的電致發光光譜(EL)中，在506nm波長區都有很強的發光峰，能夠應用于薄膜電致發光顯示器中。