[發(fā)明專利]一種晶片清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210455173.3
• 申請日: 2012-11-13
• 公開（公告）號: CN103801536A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王沖
• 申請（專利權(quán)）人: 沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司
• 主分類號: B08B7/04
• 分類號: B08B7/04;B08B1/00;B08B1/04;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 何麗英

1.一種晶片清洗裝置，其特征在于：包括依次通過傳送帶連接的發(fā)片片盒(1)、預(yù)清洗單元(3)、滾輪組清洗機(jī)構(gòu)(6)、烘干系統(tǒng)(8)及收片片盒(10)，帶清洗的晶片(9)從發(fā)片片盒(1)中通過傳送帶依次進(jìn)入預(yù)清洗單元(3)、滾輪組清洗機(jī)構(gòu)(6)、烘干系統(tǒng)(8)及收片片盒(10)中，進(jìn)行預(yù)清洗、主清洗、烘干及收片的工藝過程。

2.按照權(quán)利要求1所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述預(yù)清洗單元(3)輸入端的傳送帶上的晶片(9)通過機(jī)械手(12)抓取放入預(yù)清洗單元(3)中，預(yù)清洗單元(3)內(nèi)的晶片(9)通過機(jī)械手(12)抓取放在預(yù)清洗單元(3)輸出端的傳送帶上。

3.按照權(quán)利要求1或2所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述預(yù)清洗單元(3)包括噴嘴、雙面毛刷臂(4)及毛刷(11)，其中噴嘴設(shè)置于晶片(9)的正反兩面，所述雙面毛刷臂(4)的兩個執(zhí)行端分別與晶片(9)的正反兩面相對應(yīng)、并分別連接有正面毛刷(16)和背面毛刷(24)，所述正面毛刷(16)和背面毛刷(24)將晶片(9)夾緊、并通過雙面毛刷臂(4)的驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，對晶片(9)的正反兩面同時進(jìn)行刷洗。

4.按照權(quán)利要求3所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述雙面毛刷臂(4)包括電機(jī)(28)、皮帶輪I(19)、皮帶輪II(20)、皮帶輪III(22)、皮帶輪IV(27)、皮帶I(18)、皮帶II(21)、皮帶III(26)、壓力調(diào)節(jié)桿I(17)及壓力調(diào)節(jié)桿II(25)，其中電機(jī)(28)的輸出端與皮帶輪III(22)連接，所述皮帶輪III(22)通過皮帶II(21)與皮帶輪II(20)傳動連接，所述皮帶輪II(20)同軸設(shè)有皮帶輪I(19)和皮帶輪IV(27)，所述皮帶輪I(19)通過皮帶I(18)與設(shè)置于晶片(9)上方的壓力調(diào)節(jié)桿I(17)傳動連接，所述皮帶輪IV(27)通過皮帶III(26)與設(shè)置于晶片(9)下方的壓力調(diào)節(jié)桿II(25)傳動連接；所述壓力調(diào)節(jié)桿I(17)與晶片(9)正面相對應(yīng)的一端連接有正面毛刷(16)，所述壓力調(diào)節(jié)桿II(25)與晶片(9)背面相對應(yīng)的一端連接有背面毛刷(24)。

5.按照權(quán)利要求1所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述滾輪組清洗機(jī)構(gòu)(6)包括噴嘴和多個直徑不同的滾輪組刷子，晶片(9)的正反兩面均設(shè)有噴嘴，帶清洗晶片(9)穿過各滾輪組刷子，通過各滾輪組刷子與晶片(9)表面的速度差使晶片(9)在滾輪組刷子之間形成滑動，清除晶片(9)表面顆粒。

6.按照權(quán)利要求5所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述滾輪組刷子包括依次沿晶片(9)送入方向設(shè)置的送片滾輪組(30)、主清洗滾輪組(33)及收片滾輪組(34)，所述送片滾輪組(30)和收片滾輪組(34)的直徑大于主清洗滾輪組(33)的直徑。

7.按照權(quán)利要求1所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述裝置還包括廢液回收系統(tǒng)。

8.按照權(quán)利要求1所述的晶片清洗裝置，其特征在于：所述裝置對2-6英寸標(biāo)準(zhǔn)圓形晶片(9)或掩膜版進(jìn)行清洗。