[發明專利]一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201210448685.7
• 申請日: 2012-11-09
• 公開（公告）號: CN102929056B
• 公開（公告）日: 2016-11-16
• 發明（設計）人: 郤玉生;胡海琛
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置。

背景技術

目前在TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display，薄膜晶體管液晶顯示器)顯示領域，隨著技術的不斷更新，液晶顯示面板正在向著大型化迅速發展。

現有的液晶顯示面板，包括陣列基板、彩膜基板以及設置在陣列基板和彩膜基板之間的液晶。如圖1所示，應用于TN(Twist?Nematic，扭曲向列)型液晶顯示器中的陣列基板包括：柵線1、數據線2、薄膜晶體管3、公共電極線4以及像素電極5；其中，薄膜晶體管3包括柵極31、源極32和漏極33，柵極31和柵線1相連，源極32和數據線2相連，漏極33和像素電極5相連，公共電極線4和設置在彩膜基板上的公共電極電連接。

上述的公共電極線4按照排布的方向分為兩種，一種是橫向的第一公共電極線41和縱向的第二公共電極線42。公共電極線4通常與上述的柵線1同層設置，且與柵線1無電連接；為了保證公共電極線4和柵線1不接觸，橫向的第一公共電極線41與柵線1平行，而縱向的第二公共電極線42由于不能與柵線1接觸，故是間斷的。為了實現縱向的第二公共電極線42的導通，需要通過過孔由連接線6連接。進一步為了減少制作工藝中的步驟，通常連接線6和像素電極5同層設置，這樣連接線6的材料與像素電極的材料一樣，是ITO(Indium?tin?oxide，氧化銦錫)。

然而，由于ITO電阻較大，再加上過孔工藝存在一定不良的因素，因而，很容易使公共電極線整體的電阻值增加，容易造成顯示畫面偏綠、閃爍以及殘像等方面的不良影響，最終使得液晶顯示面板的顯示質量較差。尤其對于較大尺寸的液晶顯示面板，公共電極線的電阻增加，會嚴重影響液晶顯示面板的顯示質量。

發明內容

本發明的實施例提供一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置，能夠減小陣列基板上公共電極線的電阻，從而改善應用這種陣列基板的顯示器的顯示質量。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

本發明實施例提供了一種陣列基板，包括：透明基板，設置在所述透明基板上的柵金屬層、源漏金屬層；其中，所述柵金屬層包括：柵線和柵極，所述源漏金屬層包括：數據線、源極和漏極；還包括：公共電極線金屬層和絕緣層；所述絕緣層位于所述公共電極線金屬層和所述柵金屬層之間，或者位于所述公共電極線金屬層和所述源漏金屬層之間；所述公共電極線金屬層包括：多條交叉設置的公共電極線。

可選的，所述公共電極線金屬層包括：多條相互平行的第一公共電極線，以及多條相互平行的第二公共電極線；其中，所述第一公共電極線與所述第二公共電極線相交叉。

可選的，每相鄰的兩條第一公共電極線間的距離相等，且每相鄰的兩條第二公共電極線間的距離相等。

可選的，所述第一公共電極線與所述柵線平行，所述第二公共電極線與所述數據線平行。

可選的，所述陣列基板還包括：與所述公共電極線金屬層相鄰設置的透明導電層，所述透明導電層包括：公共電極的圖案；所述公共電極與所述公共電極線直接接觸。

可選的，所述公共電極和所述公共電極線存在重疊區域。

可選的，所述透明導電層還包括：像素電極的圖案，所述像素電極和所述漏極通過過孔電連接。

本發明實施例提供了一種顯示裝置，包括：本發明實施例提供的陣列基板。

本發明實施例提供了一種陣列基板的制造方法，包括：在透明基板上設置柵金屬層的步驟，以及在透明基板上設置源漏金屬層的步驟，還包括：在透明基板上設置公共電極線金屬層的步驟；其中，所述公共電極線金屬層包括：多條交叉設置的公共電極線；

所述在透明基板上設置公共電極線金屬層的步驟與所述在透明基板上設置柵金屬層的步驟之間，或者，所述在透明基板上設置公共電極線金屬層的步驟與所述在透明基板上設置源漏金屬層的步驟之間，所述制造方法還包括：在透明基板上設置絕緣層的步驟。

可選的，所述在透明基板上設置公共電極線金屬層的步驟之前或之后，還包括：在透明基板上設置與所述公共電極線金屬層相鄰設置的透明導電層的步驟，所述透明導電層包括：公共電極的圖案；所述公共電極與所述公共電極線直接接觸。

可選的，所述透明導電層還包括：像素電極的圖案。